真空炉积炭检测装置及真空炉制造方法及图纸

技术编号:22960282 阅读:27 留言:0更新日期:2019-12-27 20:46
本公开涉及真空炉技术领域,尤其涉及一种真空炉积炭检测装置及真空炉。该真空炉积炭检测装置包括支撑座、第一导电柱、第二导电柱和电阻测量器,其中:支撑座能够设于真空炉的加热腔内,且支撑座具有能够沉积积炭层的沉积面;第一导电柱及第二导电柱中至少一部分相对沉积面凸出设置;电阻测量器设于加热腔外,且具有正极接口和负极接口,正极接口与第一导电柱连接、负极接口与第二导电柱连接;电阻测量器、第一导电柱及第二导电柱能够与积炭层形成电流回路,电阻测量器能够测量出积炭层的电阻值。该真空炉积炭检测装置能够实时监测加热腔内的积炭情况,方便对积炭进行清理,并使真空炉避免出现因积炭而导致的故障。

Vacuum furnace carbon deposit detection device and vacuum furnace

【技术实现步骤摘要】
真空炉积炭检测装置及真空炉
本公开涉及真空炉
,尤其涉及一种真空炉积炭检测装置及真空炉。
技术介绍
在变压器、互感器等电气件的生产过程中,需要采用真空炉对电气件中的软磁材料(硅钢片)进行退火处理,但因为硅钢片的表面和用来固定硅钢片的夹具不可避免地附着有防锈油、润滑油等油类,所以在硅钢片的退火过程中,防锈油、润滑油等油类受热分解,并在真空炉的加热腔内及设于加热腔内的加热元件的表面形成积炭。随着积炭越来越多,会导致加热元件表面的电阻越来越小,最终形成导电状态,使得加热元件短路并烧坏。目前,生产厂家只能被动地在真空炉出现故障后去更换加热元件,不但使得生产中断,而且维修成本也较高。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种真空炉积炭检测装置及真空炉,能够实时监测真空炉加热腔内的积炭情况,方便对积炭进行清理,并使真空炉避免出现因积炭而导致的故障。为实现上述专利技术目的,本公开采用如下技术方案:根据本公开的一个方面,提供一种真空炉积炭检测装置,包括:支撑座,能够设于真空炉的加热腔内,且所述支撑座具有沉积面,所述沉积面上能够沉积积炭层;第一导电柱,所述第一导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;第二导电柱,所述第二导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;电阻测量器,设于所述加热腔外,所述电阻测量器具有正极接口和负极接口,所述正极接口与所述第一导电柱连接,所述负极接口与所述第二导电柱连接;其中,所述电阻测量器、所述第一导电柱及所述第二导电柱能够与沉积在所述沉积面上的积炭层形成电流回路,所述电阻测量器能够测量出所述积炭层的电阻值。在本公开的一种示例性实施例中,所述沉积面上设置有第一安装槽和第二安装槽;所述第一导电柱的一端安装在所述第一安装槽内,另一端相对所述沉积面凸出设置并与所述正极接口连接;所述第二导电柱的一端安装在所述第二安装槽内,另一端相对所述沉积面凸出设置并与所述正极接口连接。在本公开的一种示例性实施例中,所述支撑座包括相对设置的顶面和底面,所述顶面为所述沉积面;所述支撑座具有贯穿所述顶面和所述底面的第一贯通孔和第二贯通孔;所述第一导电柱安装于所述第一贯通孔,且所述第一导电柱的检测端相对所述顶面凸出设置,所述第一导电柱的连接端相对所述底面凸出设置并与所述正极接口连接;所述第二导电柱安装于所述第二贯通孔,且所述第二导电柱的检测端相对所述顶面凸出设置,所述第二导电柱的连接端相对所述底面凸出设置并与所述负极接口连接。在本公开的一种示例性实施例中,所述第一导电柱与所述第一贯通孔间隙配合,所述第二导电柱与所述第二贯通孔间隙配合。在本公开的一种示例性实施例中,所述第一贯通孔和所述第二贯通孔的中轴线均垂直于所述沉积面。在本公开的一种示例性实施例中,所述第一导电柱和所述正极接口之间、所述第二导电柱和所述负极接口之间均设有导电丝。在本公开的一种示例性实施例中,所述导电丝为镍铬合金丝。在本公开的一种示例性实施例中,所述支撑座的外侧壁上形成有安装凸沿,所述支撑座能够通过所述安装凸沿安装在所述加热腔内。根据本公开的另一个方面,提供一种真空炉,包括:炉体,具有加热腔;上述任意一项所述的真空炉积炭检测装置,其所述支撑座设于所述加热腔内,所述电阻测量器设于所述加热腔外。在本公开的一种示例性实施例中,所述真空炉还包括:提示器,设于所述加热腔外,并与所述电阻测量器相连接,所述提示器能够接收所述电阻测量器测量出的电阻值,并在所述电阻值达到阈值时发出提示信号。本公开实施方式的真空炉积炭检测装置及真空炉,其支撑座具有能够沉积积炭层的沉积面,而第一导电柱和第二导电柱中至少一部分相对沉积面凸出设置,且第一导电柱和第二导电柱分别与电阻测量器的正极接口和负极接口连接;当支撑座的沉积面上没有积炭层时,第一导电柱的凸出部和第二导电柱的凸出部并不连通,即第一导电柱和第二导电柱处于断开状态,电阻测量器没有读数;当沉积面上沉积有积炭层时,第一导电柱的凸出部和第二导电柱的凸出部与沉积面上的积炭层接触,使得第一导电柱和第二导电柱处于导通状态,也就是说,电阻测量器、第一导电柱及第二导电柱能够与积炭层形成电流回路,所以电阻测量器能够测量出积炭层的电阻值。此外,电阻测量器测量出的电阻值大小与积炭层的厚度值相关,因此,根据测量出的电阻值和预设的电阻值与积炭层厚度值之间的关系可得到积炭层的厚度值。本申请通过真空炉积炭检测装置可实时对真空炉加热腔内的积炭情况进行监测,方便后续对积炭进行清理,从而可避免真空炉中因积炭积累过多而发生故障的情况。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本公开实施方式真空炉积炭检测装置的示意图。图中:100、真空炉;1、支撑座;10、安装凸沿;11、顶面;12、底面;13、第一贯通孔;14、第二贯通孔;2、积炭层;3、第一导电柱;4、第二导电柱;5、电阻测量器;50、正极接口;51、负极接口;6、导电丝。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而,示例实施例能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整,并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下,不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的主要技术创意。虽然本说明书中使用相对性的用语,例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系,但是这些术语用于本说明书中仅出于方便,例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是,如果将图标的装置翻转使其上下颠倒,则所述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语,例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空炉积炭检测装置,其特征在于,包括:/n支撑座,能够设于真空炉的加热腔内,且所述支撑座具有沉积面,所述沉积面上能够沉积积炭层;/n第一导电柱,所述第一导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;/n第二导电柱,所述第二导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;/n电阻测量器,设于所述加热腔外,所述电阻测量器具有正极接口和负极接口,所述正极接口与所述第一导电柱连接,所述负极接口与所述第二导电柱连接;/n其中,所述电阻测量器、所述第一导电柱及所述第二导电柱能够与沉积在所述沉积面上的积炭层形成电流回路,所述电阻测量器能够测量出所述积炭层的电阻值。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空炉积炭检测装置,其特征在于,包括:
支撑座,能够设于真空炉的加热腔内,且所述支撑座具有沉积面,所述沉积面上能够沉积积炭层;
第一导电柱,所述第一导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;
第二导电柱,所述第二导电柱中至少一部分相对所述沉积面凸出设置;
电阻测量器,设于所述加热腔外,所述电阻测量器具有正极接口和负极接口,所述正极接口与所述第一导电柱连接,所述负极接口与所述第二导电柱连接;
其中,所述电阻测量器、所述第一导电柱及所述第二导电柱能够与沉积在所述沉积面上的积炭层形成电流回路,所述电阻测量器能够测量出所述积炭层的电阻值。


2.根据权利要求1所述的真空炉积炭检测装置,其特征在于,所述沉积面上设置有第一安装槽和第二安装槽;
所述第一导电柱的一端安装在所述第一安装槽内,另一端相对所述沉积面凸出设置并与所述正极接口连接;
所述第二导电柱的一端安装在所述第二安装槽内,另一端相对所述沉积面凸出设置并与所述正极接口连接。


3.根据权利要求1所述的真空炉积炭检测装置,其特征在于,所述支撑座包括相对设置的顶面和底面,所述顶面为所述沉积面;所述支撑座具有贯穿所述顶面和所述底面的第一贯通孔和第二贯通孔;
所述第一导电柱安装于所述第一贯通孔,且所述第一导电柱的检测端相对所述顶面凸出设置,所述第一导电柱的连接端相对所述底面凸出设置并与所述正极接口连接;
所述第二导电柱安装于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟胡勇谭国棠苏亮邓从跃
申请(专利权)人:中山凯旋真空科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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