气囊内窥镜再处理系统和方法技术方案

本发明专利技术涉及气囊内窥镜再处理系统和方法，该方法包括：将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行再处理；之后对气囊内窥镜的气囊充气；之后使气囊内窥镜的气囊放气；以及在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。

Reprocessing system and method of balloon endoscope

【技术实现步骤摘要】
气囊内窥镜再处理系统和方法本申请是申请号为201580070196.4、申请日为2015年11月26日、专利技术名称为“气囊内窥镜再处理系统和方法”的中国专利技术专利申请的分案申请。相关申请的引用本文引用2014年12月22日提交的专利技术名称为“EndoscopicReprocessingSystemUtilizingNegativeandPositivePressureLeakTesting”的美国临时专利申请No.62/124/551，该美国临时专利申请的全部内容以引用的方式并入本文，并且本文依据37CFR1.78(a)要求该美国临时专利申请的优先权。还引用申请人的以下已公开的PCT专利申请：WO2005/074377；WO2007/017854；WO2007/135665；WO2008/004228；WO2008/142685；WO2009/122395；WO2010/046891；WO2010/137025；WO2011/111040；WO/2012/120492；WO/2014/068569和WO2014/188402，这些专利申请的内容以引用的方式并入本文。
本专利技术总体上涉及内窥镜再处理方法和系统，并更具体地涉及气囊内窥镜的再处理。
技术介绍
已知用于再处理内窥镜的多种类型的方法和系统。
技术实现思路
本专利技术旨在提供用于再处理内窥镜的改进的方法和系统。因此，根据本专利技术的优选实施例，提供一种用于气囊内窥镜的再处理方法，该方法包括：将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行再处理；之后对气囊内窥镜的气囊充气；之后使气囊内窥镜的气囊放气；以及在使气囊内窥镜的气囊放气的同时，对要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。根据本专利技术的优选实施例，当对气囊充气时，不对气囊内窥镜执行再处理。可选地，当对气囊充气时，以不损坏气囊的方式对气囊内窥镜执行有限的再处理。另外，上述有限的再处理包括以下程序中的至少一个程序：暂停内窥镜再处理系统的再处理室中的活动件的操作；暂停对内窥镜再处理系统所使用的溶液的加热；以及监测并控制气囊中的压力以防止气囊过度充气。根据本专利技术的优选实施例，上述再处理方法由内窥镜再处理系统来实施，内窥镜再处理系统包括再处理控制器，再处理控制器至少具有以下操作阶段：第一气囊内窥镜气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型；当气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型时的再处理阶段；气囊充气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型；在气囊充气阶段之后的另一气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型；以及当气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型时的进一步再处理阶段。根据本专利技术的优选实施例，上述再处理方法由内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施，并且之后对气囊内窥镜的气囊充气和之后使气囊内窥镜的气囊放气中的至少一者是利用独立的泄漏测试装置来执行的。更优选地，上述再处理方法由内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施，并且之后对气囊内窥镜的气囊充气和之后使气囊内窥镜的气囊放气是利用独立的泄漏测试装置来执行的。优选地，用于气囊内窥镜的再处理方法还包括：在执行再处理之后，从再处理系统中移除气囊内窥镜；以及在执行进一步再处理之前，将气囊内窥镜放回到再处理系统中。另外，用于气囊内窥镜的再处理方法还包括：在执行再处理之后且在移除气囊内窥镜之前，暂停再处理系统的操作；以及在将气囊内窥镜放回之后，重新开始再处理系统的操作。根据本专利技术的优选实施例，在执行再处理期间，使气囊内窥镜的气囊的外表面的第一组区域暴露，以便进行再处理；在执行进一步再处理期间，使气囊内窥镜的气囊的外表面的第二组区域暴露，以便进行再处理；并且第一组区域和第二组区域至少部分地不同。另外或可选地，执行再处理和执行进一步再处理包括执行相同的再处理步骤。优选地，对气囊内窥镜执行再处理包括气囊内窥镜的清洁和消毒中的至少一者。根据本专利技术的优选实施例，之后使气囊内窥镜的气囊放气包括：在气囊中提供-50毫巴以下的负压。更优选地，之后使气囊内窥镜的气囊放气包括：在气囊中提供-80毫巴以下的负压。最优选地，之后使气囊内窥镜的气囊放气包括：在气囊中提供-100毫巴以下的负压。根据本专利技术的优选实施例，之后对气囊内窥镜的气囊充气包括：在气囊中提供在10毫巴至120毫巴的范围内的正压。更优选地，之后对气囊内窥镜的气囊充气包括：在气囊中提供在15毫巴至70毫巴的范围内的正压。更加优选地，之后对气囊内窥镜的气囊充气包括：在气囊中提供在20毫巴至60毫巴的范围内的正压。根据本专利技术的优选实施例，之后对气囊内窥镜的气囊充气包括：在气囊中提供80毫巴以下的正压。根据本专利技术的另一优选实施例，还提供一种用于气囊内窥镜的再处理系统，该再处理系统包括：再处理室；内窥镜再处理子系统，其包括清洁功能部和消毒功能部；以及泄漏测试子系统，其包括充气和放气功能部，当气囊内窥镜位于再处理室内时，充气和放气功能部是可操作的从而可选择地使气囊内窥镜的气囊充气和放气。根据本专利技术的优选实施例，用于气囊内窥镜的再处理系统还包括再处理控制器，再处理控制器是可操作的以便提供至少以下操作阶段：第一气囊内窥镜气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型；当气囊内窥镜的气囊呈第一气囊放气构型时的再处理阶段；气囊充气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型；在气囊充气阶段之后的另一气囊放气阶段，其中，气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型；以及当气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型时的进一步再处理阶段。另外，在第一气囊内窥镜气囊放气构型中，使气囊内窥镜的气囊的外表面的第一组区域暴露，以便进行再处理；在第二气囊内窥镜气囊放气构型中，使气囊内窥镜的气囊的外表面的第二组区域暴露，以便进行再处理；并且第一组区域和第二组区域至少部分地不同。优选地，内窥镜再处理子系统在第一气囊内窥镜再处理阶段中的操作与内窥镜再处理子系统在第二气囊内窥镜再处理阶段中的操作相同。优选地，内窥镜再处理子系统仅当气囊内窥镜的气囊呈放气构型时是可操作的。可选地，再处理控制器是可操作的以便提供有限的再处理阶段；在上述有限的再处理阶段，气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型。根据本专利技术的优选实施例，上述再处理系统包括以下元件中的至少一者：泄漏测试子系统，其包括真空/压力泵以及真空/压力传感器，并且是可操作的以便向气囊内窥镜的气囊提供正压和负压；以及软件，其嵌设在再处理系统的再处理控制器中，该软件是可操作的以便提供以下中的至少一者：控制再处理系统的泄漏测试子系统，以便在再处理期间保持气囊内窥镜呈气囊放气构型；提供至少两个再处理阶段；在再处理期间，控制气囊的充气和放气；在气囊充气期间，暂停再处理室中的旋转喷射器(revolvingjets)和其他活动件的操作；以及在气囊充气期间，停止对清洁和/或消毒溶液的加热。优选地，泄漏测试子系统是可操作的，以便在气囊中提供-50毫巴以下的负压。更优选地，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于气囊内窥镜的再处理方法，所述方法包括：/n将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；/n在使所述气囊内窥镜的气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行再处理；/n之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气；/n之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气；以及/n在使所述气囊内窥镜的所述气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。/n

【技术特征摘要】
20141222 US 62/124,5511.一种用于气囊内窥镜的再处理方法，所述方法包括：
将要再处理的气囊内窥镜引入内窥镜再处理系统中；
在使所述气囊内窥镜的气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行再处理；
之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气；
之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气；以及
在使所述气囊内窥镜的所述气囊放气的同时，对所述要再处理的气囊内窥镜执行进一步再处理。


2.根据权利要求1所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，当对所述气囊充气时，不对所述气囊内窥镜执行再处理。


3.根据权利要求1所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，当对所述气囊充气时，以不损坏所述气囊的方式对所述气囊内窥镜执行有限的再处理。


4.根据权利要求3所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述有限的再处理包括以下程序中的至少一个程序：
暂停所述内窥镜再处理系统的再处理室中的活动件的操作；
暂停对所述内窥镜再处理系统所使用的溶液的加热；
监测并控制所述气囊中的压力以防止所述气囊过度充气。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统来实施，所述内窥镜再处理系统包括再处理控制器，所述再处理控制器至少具有以下操作阶段：
第一气囊内窥镜气囊放气阶段，其中，所述气囊内窥镜的所述气囊呈第一气囊放气构型；
当所述气囊内窥镜的气囊呈所述第一气囊放气构型时的再处理阶段；
气囊充气阶段，其中，所述气囊内窥镜的气囊呈气囊充气构型；
在所述气囊充气阶段之后的另一气囊放气阶段，其中，所述气囊内窥镜的气囊呈另一气囊放气构型；以及
当所述气囊内窥镜的气囊呈所述另一气囊放气构型时的进一步再处理阶段。


6.根据权利要求1或权利要求2所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：
所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施；并且
所述之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气和所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气中的至少一者是利用所述独立的泄漏测试装置来执行的。


7.根据权利要求1或权利要求2所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：
所述再处理方法由所述内窥镜再处理系统和独立的泄漏测试装置来实施；并且
所述之后对所述气囊内窥镜的所述气囊充气和所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气是利用所述独立的泄漏测试装置来执行的。


8.根据权利要求6或权利要求7所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，还包括：
在所述执行再处理之后，从所述再处理系统中移除所述气囊内窥镜；以及
在所述执行进一步再处理之前，将所述气囊内窥镜放回到所述再处理系统中。


9.根据权利要求8所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，还包括：
在所述执行再处理之后且在所述移除所述气囊内窥镜之前，暂停所述再处理系统的操作；以及
在所述将所述气囊内窥镜放回之后，重新开始所述再处理系统的操作。


10.根据权利要求1至9中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中：
在所述执行再处理期间，使所述气囊内窥镜的所述气囊的外表面的第一组区域暴露，以便进行再处理；
在所述执行进一步再处理期间，使所述气囊内窥镜的所述气囊的所述外表面的第二组区域暴露，以便进行再处理；并且
所述第一组区域和所述第二组区域至少部分地不同。


11.根据权利要求1至10中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述执行再处理和所述执行进一步再处理包括执行相同的再处理步骤。


12.根据权利要求1至11中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述对所述气囊内窥镜执行再处理包括所述气囊内窥镜的清洁和消毒中的至少一者。


13.根据权利要求1至12中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气包括：在所述气囊中提供-50毫巴以下的负压。


14.根据权利要求1至12中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气包括：在所述气囊中提供-80毫巴以下的负压。


15.根据权利要求1至12中任一项所述的用于气囊内窥镜的再处理方法，其中，所述之后使所述气囊内窥镜的所述气囊放气包括：在所述气囊中提供-100...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·卢里亚，S·佩莱德，G·特柳克，
申请(专利权)人：智能医疗系统有限公司，
类型：发明
国别省市：以色列;IL