工件、工件的制备方法、壳体以及电子设备技术

本申请实施例提供一种工件和工件的制备方法。该工件和工件的制备方法可以应用在电子设备的壳体中，例如手机的盖板、中框等。该工件包括基材，基材表面具有至少一个渐变防眩光区域；渐变防眩光区域中的基材的光泽度沿着渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低；渐变防眩光区域中的基材的雾度和粗糙度，分别沿着至少一个预设方向升高。上述工件表面的渐变防眩光区域的光泽度、雾度、粗糙度都是逐渐变化的，中间过渡顺畅、不突兀，从而整体上呈现出一种新的渐变防眩光的外观效果。并且，该工件表面的渐变防眩光区域还具有较好的防眩光和防脏污效果，具有较好的触感。

Workpiece, preparation method of workpiece, shell and electronic equipment

【技术实现步骤摘要】
工件、工件的制备方法、壳体以及电子设备
本申请涉及材料表面处理
，具体涉及一种工件，一种工件的制备方法，一种壳体，以及一种电子设备。
技术介绍
在电子产品(例如手机等)领域，从美学角度和个性化定制角度出发，产品外观成为了决定消费者能否购买这一电子产品的重要因素之一。对于经典的双镜面设计的电子产品，通过对电子产品的后盖玻璃等进行装饰工艺处理，可以使该电子产品具有差异化、个性化的视觉效果。对于目前的电子产品而言，其玻璃后盖等位置的视觉效果，主要通过黄光蚀刻、蒙砂等工艺来实现。黄光蚀刻也是一种材料表面的处理工艺。黄光蚀刻的过程主要包括：首先，在材料表面涂覆光敏物质，经曝光、显影之后，留下部分对材料表面具有保护作用的保护层；然后，采用HF等对材料表面上未被保护起来的区域进行蚀刻；最后，将保护层除去，从而使材料表面形成特定的图形。采用黄光蚀刻的方式来处理材料(例如玻璃)，可以在材料表面形成特定图形。这些图形使得材料表面整体呈现出特定的纹理。由于图形表面仍旧为光面，因此该材料的可见光透过率和光泽度较高，具有较好的立体感。但是同时，该材料表面的粗糙度、雾度很低，故而该材料无法实现防眩光(antiglare，AG)效果。当光线被过度集中时会使画面的清晰度下降，同时会使观看者产生视觉疲劳，即所谓的眩光。对于表面为镜面的材料而言，直接穿过该材料的光线，或者经该材料表面的镜面反射的光线，由于光线比较集中，故而眩光现象比较明显。为了解决这个问题，可以通过蒙砂工艺来增加材料表面的粗糙度和雾度。蒙砂是一种材料表面的处理工艺。蒙砂的过程主要包括：首先，用蒙砂粉等配制成的蒙砂液；然后，采用蒙砂液对材料表面进行化学侵蚀，从而使材料表面凹凸不平。采用蒙砂的方式来处理材料，可以使材料表面具有一定的粗糙度和雾度，从而使照射到材料表面的光线进行漫反射，避免光线过于集中，从而起到防眩光效果。当粗糙度到达一个合适的区间时，该材料的蒙砂面还具有较好的手感。但是，由于材料表面被均一地处理，故而无法在材料表面形成变化的效果。因此，如何研发一种表面具有新的外观效果的材料，是本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
本申请提供一种工件，该工件表面具有渐变防眩光区域，该渐变防眩光区域中的基材的光泽度、雾度和粗糙度分别逐渐变化，过渡顺畅、不突兀，从而整体上呈现出一种新的渐变防眩光的外观效果。此外，该工件表面的渐变防眩光区域还具有较好的触感和防脏污效果。第一方面，本申请提供一种工件，包括基材，所述基材表面具有至少一个渐变防眩光区域；所述渐变防眩光区域中的基材的光泽度沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低；所述渐变防眩光区域中的基材的雾度和粗糙度，分别沿着所述至少一个预设方向升高。采用本实现方式，工件表面的渐变防眩光区域的光泽度、雾度、粗糙度都是逐渐变化的，中间过渡顺畅、不突兀，从而整体上呈现出一种新的渐变防眩光的外观效果。并且，该渐变防眩光区域的形成，使得工件具有较好的立体感，也能实现防眩光效果，还具有较好的触感和防脏污效果。结合第一方面，在第一方面第一种可能的实现方式中，当所述基材为透明或者半透明的材料时，所述渐变防眩光区域中的基材的可见光透过率，沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低。在这种情况下，渐变防眩光区域的可见光透过率也是逐渐变化的，中间过渡顺畅、不突兀，从而整体上呈现出一种新的渐变防眩光的外观效果。并且，该渐变防眩光区域的形成，使得工件具有更好的立体感。结合第一方面及上述可能的实现方式，在第一方面第二种可能的实现方式中，所述渐变防眩光区域中设有第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着所述至少一个预设方向升高，所述第一区域中的所述基材的表面为粗糙表面。通过设计第一预设图案中第一区域的排布方式，并将第一区域中的基材的表面设置为粗糙表面，从而形成可见光透过率、光泽度、雾度、粗糙度都逐渐变化的渐变防眩光区域。结合第一方面及上述可能的实现方式，在第一方面第三种可能的实现方式中，0＜R≤0.05mm，0＜k≤5R；其中，R表示所述第一区域的尺寸；k表示沿着一个预设方向，相邻的所述第一区域之间的间隔距离。将第一区域的尺寸，以及相邻的第一区域之间的间隔距离限定在上述范围之内，以满足工件的外观设计效果的需求，实现渐变防眩光的外观效果，并且，使工件具有较好的立体感和触感，实现防眩光效果和防脏污效果。结合第一方面及上述可能的实现方式，在第一方面第四种可能的实现方式中，在第二区域中的所述基材的表面为光滑表面；其中，所述第二区域为所述渐变防眩光区域中除所述第一预设图案以外的区域。结合第一方面及上述可能的实现方式，在第一方面第五种可能的实现方式中，所述基材的材料包括玻璃、塑料和陶瓷中的一种或多种。在多种材料的表面形成渐变防眩光区域，使该工件适合应用在多种不同的产品中，应用范围较广。第二方面，本申请提供一种工件的制备方法，包括：在基材的至少一个表面设置保护层；其中，所述基材表面的未设置所述保护层的区域形成第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着至少一个预设方向升高；在所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行蒙砂或者喷砂；对蒙砂或者喷砂后的所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行化学抛光；去除所述保护层，得到所述工件。采用本实现方式，首先在基材表面设置一个保护层，使基材表面的未设置所述保护层的区域形成第一预设图案。由于未被保护层覆盖的第一预设图案中的多个第一区域的排布密度是逐渐升高的，因此，在对未被保护层覆盖的基材表面进行蒙砂/喷砂以及化学抛光处理之后，沿着预设方向，粗糙表面的区域的密度越来越大，从而在基材表面形成渐变防眩光区域。该方法工艺简单，适合工业化生产。结合第二方面，在第二方面第一种可能的实现方式中，0＜R≤0.05mm，0＜k≤5R；其中，R表示所述第一区域的尺寸；k表示沿着一个预设方向，相邻的所述第一区域之间的间隔距离。将第一区域的尺寸，以及相邻的第一区域之间的间隔距离限定在上述范围之内，以满足工件的外观设计效果的需求，实现渐变防眩光的外观效果，并且，使工件具有较好的立体感和触感，实现防眩光效果和防脏污效果。结合第二方面及上述可能的实现方式，在第二方面第二种可能的实现方式中，在基材的至少一个表面设置保护层的步骤，包括：在所述基材的至少一个表面形成光阻层；对所述光阻层曝光、显影，形成所述保护层。通过光阻来形成保护层，工艺简单，适合工业化生产。结合第二方面及上述可能的实现方式，在第二方面第三种可能的实现方式中，当所述光阻层采用负光阻材料时，对所述光阻层曝光、显影，形成所述保护层的步骤包括：在所述光阻层上设置光罩；其中，所述光罩具有第二预设图案，所述第二预设图案与所述第一预设图案相同；将所述基材表面的光阻层与所述光罩进行曝光；显影去除所述光阻层的未被曝光的区域，形成所述保护层。与正光阻材料相比，负光阻材料的解析力高，与基材的粘附性高。将其应用在本申请的方法中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种工件，其特征在于，包括基材，所述基材表面具有至少一个渐变防眩光区域；所述渐变防眩光区域中的基材的光泽度沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低；所述渐变防眩光区域中的基材的雾度和粗糙度，分别沿着所述至少一个预设方向升高。/n

【技术特征摘要】
1.一种工件，其特征在于，包括基材，所述基材表面具有至少一个渐变防眩光区域；所述渐变防眩光区域中的基材的光泽度沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低；所述渐变防眩光区域中的基材的雾度和粗糙度，分别沿着所述至少一个预设方向升高。


2.根据权利要求1所述的工件，其特征在于，当所述基材为透明或者半透明的材料时，所述渐变防眩光区域中的基材的可见光透过率，沿着所述渐变防眩光区域中的至少一个预设方向降低。


3.根据权利要求1或2所述的工件，其特征在于，所述渐变防眩光区域中设有第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着所述至少一个预设方向升高，所述第一区域中的所述基材的表面为粗糙表面。


4.根据权利要求3所述的工件，其特征在于，0＜R≤0.05mm，0＜k≤5R；其中，R表示所述第一区域的尺寸；k表示沿着一个预设方向，相邻的所述第一区域之间的间隔距离。


5.根据权利要求3或4所述的工件，其特征在于，在第二区域中的所述基材的表面为光滑表面；其中，所述第二区域为所述渐变防眩光区域中除所述第一预设图案以外的区域。


6.根据权利要求1-5任一项所述的工件，其特征在于，所述基材的材料包括玻璃、塑料和陶瓷中的一种或多种。


7.一种工件的制备方法，其特征在于，包括：
在基材的至少一个表面设置保护层；其中，所述基材表面的未设置所述保护层的区域形成第一预设图案，所述第一预设图案包括多个第一区域，所述多个第一区域的排布密度沿着至少一个预设方向升高；
在所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行蒙砂或者喷砂；
对蒙砂或者喷砂后的所述基材表面的未形成所述保护层的区域进行化学抛光；
去除所述保护层，得到所述工件。


8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，0＜R≤0.05mm，0＜...

【专利技术属性】
技术研发人员：盛秋春，黄义宏，黄礼忠，陈石峰，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44