电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备制造技术

本发明专利技术涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。

Photographic components, processing boxes and equipment

The invention relates to an electronic photographic photosensitive member, a processing box and an electronic photographic device. The electrophoretic photosensitive member includes a support and a surface layer, wherein the surface layer comprises a copolymer of a composition at least containing a compound represented by the following general formula (1) and a compound represented by the following general formula (2), wherein the content of the compound represented by the general formula (1) in the composition is 25 quality compared with the total content of the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2 The total content of the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) is more than 55% by mass relative to the total mass of the composition.

【技术实现步骤摘要】
电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
本专利技术涉及电子照相感光构件，具有该电子照相感光构件的处理盒，和具有该电子照相感光构件的电子照相设备。
技术介绍
为了改进图像品质和耐久性，已经对安装至电子照相设备的电子照相感光构件进行了各种研究。作为实例，存在通过对于电子照相感光构件(以下，也称为感光构件)的表面层使用自由基聚合性树脂来改进耐磨耗性(机械耐久性)的研究。尽管此类表面层具有高耐磨耗性，但是可能由于如外部添加剂和纸粉等异物而引起深划痕和图像缺陷。为了抑制深划痕的发生，日本专利申请特开No.2015-225132公开了使用具有一个甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物。日本专利申请特开No.2010-170077还公开了使用具有四个以上甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物。
技术实现思路
上述目的通过下述本专利技术来实现。即，根据本专利技术的电子照相感光构件为包括支承体和表面层的电子照相感光构件，其中表面层包含至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物，在该组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上：在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数，在通式(2)中，e为0或1，q为2以上且5以下的整数，然而，a、b和e中的至少之一为1。另外，根据本专利技术的处理盒一体化地支承上述电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且该处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。另外，根据本专利技术的电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。参照附图，从以下示例性实施方案的描述，本专利技术的进一步特征将变得显而易见。附图说明图1为示出具有设置有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的实例的图。具体实施方式根据本专利技术人的研究，已经发现，日本专利申请特开No.2015-225132中公开的构造由于在低温低湿环境下重复使用而会引起深划痕。认为原因在于，围绕感光构件的纸、纸粉，和在一些情况下，清洁刮板和充电辊等由于温度下降而变硬并且容易推入感光构件中，从而容易引起深划痕。另外，日本专利申请特开No.2010-170077中公开的构造在低温低湿环境下重复使用时不具有充分的耐磨耗性。认为这是因为在低温低湿环境下，具有四个以上甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物的振动被抑制，并且外部应力不能作为热而耗散并且达到如刮擦等现象。因此，本专利技术的目的是提供一种电子照相感光构件，其在低温低湿环境下重复使用时具有高耐磨耗性并且抑制深划痕的发生。以下，将参照优选实施方案详细描述本专利技术。本专利技术人考虑是否存在通过关注构成电子照相感光构件的表面层的材料的组合以选择适当的材料而赋予表面层高耐磨耗性并且进一步抑制深划痕发生的方法。本专利技术人关注到构成表面层的膜的密度，作为控制深划痕的发生的抑制和耐磨耗性的提高的因素。本专利技术人认为，因为通过提高膜的密度使得聚合物的网络致密，因此外部摩擦应力作为热而耗散而不是外部摩擦应力作为如磨耗等破坏性能量来发散的可能性提高。另外，本专利技术人认为，由于通过使网络致密而官能团均匀存在并且表面自由能的不均匀性可以降低，因而异物的附着可以得到抑制并且深划痕的发生可以得到抑制。根据本专利技术的一方面的电子照相感光构件的构造如下。该电子照相感光构件具有支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，和由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数。在通式(2)中，e为0或1，q为2以上且5以下的整数。然而，a、b和e中至少之一为1。将由通式(1)和通式(2)表示的化合物组合对于抑制深划痕的发生和改进耐磨耗性是有效的。进一步优选的是，a、b和e为a＝b＝1，因此，e＝0；或a＝b＝0，因此，e＝1。原因在于，认为膜的密度将提高。关于由通式(1)和通式(2)表示的化合物，以下示出具体的示例性化合物。通式(1)的示例性化合物通式(2)的示例性化合物更优选的是，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为30质量％以上且60质量％以下。另外，更优选的是，由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为70质量％以上。本专利技术人推测能够通过此类组合物解决上述技术问题的机理如下。通过使用具有小分子量的三芳基胺化合物作为膜的基本骨架可以增加膜的密度。因此，使用具有小分子量的三芳基胺化合物生产具有高密度的膜，并且评价耐磨耗性。将表1中示出的三芳基胺化合物和聚碳酸酯树脂以三芳基胺化合物/聚碳酸酯树脂＝7/10的质量比溶解在氯苯中。然后，通过借助棒涂机涂布铝板使得膜厚度设定为20μm并且将铝板在120℃下干燥60分钟来形成膜。其后，用旋转式泰伯耐磨耗试验机(rotaryTaber'sabrasionresistancetester)(由YasudaSeikiSeisakusho,Ltd.制造)来测量磨耗量。在测量时，作为磨损环，使用具有缠绕膜(商品名：C2000，由FujiFilmCorporation制造)的两个磨损环(商品名：CS-0，由TaberInstrumentsCorporation制造)，并且向两个磨损环各自施加4.9N(500g)的负荷。测量各试样的旋转磨耗前后的重量损失，将其取作泰伯磨耗量。这意味着，当表1所示的磨耗量的值小时，难以磨损，并且使用由No.1所示的三芳基胺化合物的膜不具有充分的耐磨耗性。此外，已知的是，使用由No.2所示的三芳基胺化合物的膜难以磨损。然而，由于氧化电位高，使得与相邻层的电荷交换不充分；和由于在电荷积累时发生问题，使得该膜作为构成表面层的结构不是最佳的。接下来，提及由No.3和No.4所示的三芳基胺化合物作为形成难以磨损的膜的结构，并且已知的是，氧化电位的值也没有问题。尽管表1中的化合物没有聚合，如由No.3和No.4所示，但是就改进耐磨耗性而言，对于化合物优选的是具有至少一个3,4-二甲苯基。推测可以热耗散的部分的数量随着化合物具有两个甲基而增加。另外，认为通过将由通式(1)表示的具有一个聚合性官能团的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和表面层，其特征在于，/n所述表面层包含至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物，/n在所述组合物中由所述通式(1)表示的化合物的含量相对于由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，和/n由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量相对于所述组合物的总质量为55质量％以上：/n

【技术特征摘要】
20180531 JP 2018-1055831.一种电子照相感光构件，其包括支承体和表面层，其特征在于，
所述表面层包含至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物，
在所述组合物中由所述通式(1)表示的化合物的含量相对于由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，和
由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量相对于所述组合物的总质量为55质量％以上：



在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数：
在通式(2)中，e为0或1，q为2以上且5以下的整数：
然而，a、b和e中至少之一为1。


2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中电荷产生层、电...

【专利技术属性】
技术研发人员：石塚由香，西田孟，奥田笃，渡部博之，下泽秀春，中村延博，加来贤一，三浦大祐，中田浩一，野中正树，高桥孝治，森春树，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP