The invention discloses a large plate grinding and cleaning system, which comprises a feeding unit, a turning unit, a grinding unit, a cleaning air drying unit and a discharging unit. Through the above method, the invention provides a large plate grinding and cleaning system, which can automatically turn, grind and clean the products, effectively shorten the processing time, improve the precision and production capacity of the products, and reduce the production cost.
【技术实现步骤摘要】
一种大板研磨清洗系统
本专利技术涉及电子加工设备领域,特别是涉及一种大板研磨清洗系统。
技术介绍
液晶面板是一种常用的电子加工材料,其可以用作手机、电脑等的屏幕,用途广泛,液晶面板是决定液晶显示器亮度、对比度、色彩、可视角度的材料,液晶面板价格走势直接影响到液晶显示器的价格,液晶面板质量、技术的好坏关系到液晶显示器整体性能的高低。但是液晶面板的加工要求很高,现在很多的厂家需要从各个地方购买不同的生产设备,这样很容易造成不匹配的情况,影响产能,而且多设备加工需要投入额外的搬运转存处理,不仅容易增加成本,而且如果人工处理的话,会存在操作不当、意外损坏产品等很多问题,所以人们需要更加满足需求的生产系统。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种大板研磨清洗系统,具有可靠性能高、定位精确、结构紧凑、产能高等优点,同时在数控加工设备的应用及普及上有着广泛的市场前景。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种大板研磨清洗系统,其包括:上料单元、翻转单元、研磨单元、清洗风干单元、下料单元,所述上料单元:用于对卡夹进行定位,并将卡夹中的产品传入翻转单元;所述翻转单元:用于将产品进行180°的翻转;所述研磨单元:用于研磨产品表面,并将研磨好的产品送至清洗风干单元;所述清洗风干单元:用于清洗吹干产品,并将产品送往下料单元;所述下料单元:用于接收产品,并将产品一层层堆叠在卡夹内。在本专利技术一个较佳实施例中,所述上料单 ...
【技术保护点】
1.一种大板研磨清洗系统,其特征在于,包括:上料单元、翻转单元、研磨单元、清洗风干单元、下料单元,/n所述上料单元:用于对卡夹进行定位,并将卡夹中的产品传入翻转单元;/n所述翻转单元:用于将产品进行180°的翻转;/n所述研磨单元:用于研磨产品表面,并将研磨好的产品送至清洗风干单元;/n所述清洗风干单元:用于清洗吹干产品,并将产品送往下料单元;/n所述下料单元:用于接收产品,并将产品一层层堆叠在卡夹内。/n
【技术特征摘要】
1.一种大板研磨清洗系统,其特征在于,包括:上料单元、翻转单元、研磨单元、清洗风干单元、下料单元,
所述上料单元:用于对卡夹进行定位,并将卡夹中的产品传入翻转单元;
所述翻转单元:用于将产品进行180°的翻转;
所述研磨单元:用于研磨产品表面,并将研磨好的产品送至清洗风干单元;
所述清洗风干单元:用于清洗吹干产品,并将产品送往下料单元;
所述下料单元:用于接收产品,并将产品一层层堆叠在卡夹内。
2.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统,其特征在于,所述上料单元和上料单元的结构相同。
3.根据权利要求1所述的一种大板研磨清洗系统,其特征在于,所述上料单元包括上料机架、用于定位卡夹并带动卡夹上下运动的定位单元、多组用于将卡夹中的产品分批输送至下一工位的分料传输单元,所述定位单元在所述上料机架上上下运动,所述分料传输单元设置于所述上料机架上。
4.根据权利要求3所述的一种大板研磨清洗系统,其特征在于,所述定位单元包括载架、定位轮、轮架、浮动平台,所述载架在上料机架上上下运动,所述载架的两端各设置有一组定位轮,所述定位轮通过所述轮架在载架上来回运动。
5.根据权利要求3所述的一种大板研磨清洗系统,其特征在于,所述分料传输单元包括送料架、传动辊、送料滚轮,所述传动辊设置于所述送料架上,所述送料滚轮活动设置于传动辊上。
6.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘峰,
申请(专利权)人:苏州光斯奥光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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