晶圆单面抛光装置制造方法及图纸

晶圆单面抛光装置，它涉及半导体设备技术领域。它包含工作台、控制电箱、转盘、伺服电机、抛光液喷洒装置、冲洗装置、晶圆夹持装置、支撑装置、抛光垫，所述工作台下方设置有伺服电机，所述工作台的中部设置有开槽，所述转盘放置在工作台的开槽上，所述转盘下方固定连接有转轴，所述伺服电机转动连接着转轴，所述转盘上方设置有抛光垫，所述抛光垫上设置有支撑装置和多个晶圆夹持装置，所述晶圆夹持装置与抛光垫之间设置有待抛光的晶圆，所述支撑装置设置在抛光垫中部。本实用新型专利技术有益效果为：实时监控抛光垫上面的颜色差异来判断抛光工艺进行的程度，作出报警或停机，使损失降到最小，智能自动化，降低劳动强度，更加的安全可靠。

Wafer single side polishing device

The invention relates to a wafer single-sided polishing device, which relates to the technical field of semiconductor equipment. The utility model comprises a worktable, a control electric box, a rotary table, a servo motor, a polishing liquid spraying device, a washing device, a wafer clamping device, a supporting device and a polishing pad. The lower part of the worktable is provided with a servo motor, the middle part of the worktable is provided with a slot, the rotary table is placed on the slot of the worktable, the lower part of the rotary table is fixedly connected with a rotating shaft, and the servo motor is rotationally connected Next, the rotating shaft is provided with a polishing pad above the rotary table. The polishing pad is provided with a support device and a plurality of wafer clamping devices. Between the wafer clamping device and the polishing pad, a wafer to be polished is provided. The support device is arranged in the middle of the polishing pad. The utility model has the advantages of real-time monitoring the color difference on the polishing pad to judge the degree of polishing process, making alarm or shutdown, minimizing the loss, intelligent automation, reducing labor intensity, and being more safe and reliable.

【技术实现步骤摘要】
晶圆单面抛光装置
本技术涉及半导体设备
，具体涉及晶圆单面抛光装置。
技术介绍
化学机械抛光（CMP）技术是晶圆表面加工的关键技术之一，在大尺寸裸晶片如太阳能电池用超薄硅单晶片，集成电路用超薄硅单晶片，LED用蓝宝石衬底晶片等的表面抛光工艺中得到广泛应用。化学机械抛光的过程，主要是通过抛光垫、抛光液和化学试剂的作用从晶圆基板去除材料的过程，其中抛光垫和抛光液是CMP工艺中主要的耗材。抛光垫（polishingpad）具有储存、运输抛光液、去除加工残余物质、传递机械载荷及维持抛光环境等功能，抛光垫的使用寿命严重影响CMP的成本。典型的抛光垫材质分为聚氨酯抛光垫，无纺布抛光垫等，其表面有一层多孔层，该层的暴露表面包含微孔，其可在CMP过程中存储抛光液并捕获由废抛光浆料组成的磨粉浆和从晶圆去除的材料。在抛光不同的材料的时候，抛光液和晶圆材料会发生化学反应，当这一层材料抛光结束的时候，材料表面的颜色粗糙度等会发生变化。对于高级CMP机台，一般采用侦测末端电流变化来识别停止层；对于普通抛光机台来说，没有技术措施来监控抛光工艺进行的程度；另外在CMP工艺进行时如果发生碎片情况，普通抛光机台无法及时发现。同时现有的抛光装置，具备清洗功能，在抛光过程中需要喷洒抛光液，但是抛光液经常用光，却不知道。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供晶圆单面抛光装置，实时监控抛光垫上面的颜色差异来判断抛光工艺进行的程度，使抛光工艺参数达到自动化优化，作出报警或停机，使损失降到最小，智能自动化，降低劳动强度，更加的安全可靠。为实现所述目的，本技术采用以下技术方案是：它包含工作台1、控制电箱2、转盘3、伺服电机4、抛光液喷洒装置5、冲洗装置6、晶圆夹持装置7、支撑装置8、抛光垫9，所述工作台1下方设置有伺服电机4，所述工作台1的中部设置有开槽，所述转盘3放置在工作台1的开槽上，所述转盘3下方固定连接有转轴31，所述伺服电机4转动连接着转轴31，所述转盘3上方设置有抛光垫9，所述抛光垫9上设置有支撑装置8和多个晶圆夹持装置7，所述晶圆夹持装置7与抛光垫9之间设置有待抛光的晶圆，所述支撑装置8设置在抛光垫9中部，所述支撑装置8包含侦测杆81、影像传感器82，所述影像传感器82设置在侦测杆81上，所述转盘3两侧的工作台1上均设置有抛光液喷洒装置5和冲洗装置6，所述抛光液喷洒装置5远离转盘3，所述冲洗装置6靠近转盘3，所述抛光液喷洒装置5包含储水箱51、水位传感器52、抽水泵53、转动机构54、出水管55、控制电磁阀56，所述储水箱51的出水端连通着抽水泵53的进水端，所述抽水泵53的出水端连通着出水管55，所述出水管55与工作台1之间设置有转动机构54，所述出水管55上设置有控制电磁阀56，所述储水箱51内设置有水位传感器52，所述冲洗装置6和抛光液喷洒装置5的结构相同，所述控制电箱2设置在工作台1的右侧，所述控制电箱2内部设置有控制系统21，所述控制系统21包含转换器211、放大电路212、继电器213、报警系统214，所述控制电箱2的控制面板上设置有显示屏22、USB接口23、闪烁灯24、蜂鸣器25、控制按钮26、电源接头27，所述控制按钮26、水位传感器52、影像传感器82电性连接着和转换器211，所述转换器211电性连接着放大电路212，所述USB接口23、电源接头27放大电路212电性连接着控制系统21，所述控制系统21电性连接着报警系统214、继电器213、显示屏22，所述继电器213电性连接着伺服电机4、控制电磁阀56、抽水泵53，所述报警系统214电性连接着闪烁灯24、蜂鸣器25。所述伺服电机4旁边设置有减速器41，所述伺服电机4通过减速器41与转轴31转动连接。所述工作台1底部四个脚处设置有支撑脚10。所述转换器211为A/D转换器。所述USB接口23与控制系统21双向电性连接。所述储水箱51上设置有进水端盖57。采用所述技术方案后，本技术有益效果为：实时监控抛光垫上面的颜色差异来判断抛光工艺进行的程度，使抛光工艺参数达到自动化优化，作出报警或停机，使损失降到最小，智能自动化，降低劳动强度，更加的安全可靠。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术的结构示意图；图2是本技术中抛光液喷洒装置5和冲洗装置6的结构示意图；图3是本技术的电路原理结构框图。附图标记说明：工作台1、控制电箱2、转盘3、伺服电机4、抛光液喷洒装置5、冲洗装置6、晶圆夹持装置7、支撑装置8、抛光垫9、支撑脚10、控制系统21、转换器211、放大电路212、继电器213、报警系统214、显示屏22、USB接口23、闪烁灯24、蜂鸣器25、控制按钮26、电源接头27、转轴31、减速器41、储水箱51、水位传感器52、抽水泵53、转动机构54、出水管55、控制电磁阀56、进水端盖57、侦测杆81、影像传感器82。具体实施方式参看图1-图3所示，本具体实施方式采用的技术方案是：它包含工作台1、控制电箱2、转盘3、伺服电机4、抛光液喷洒装置5、冲洗装置6、晶圆夹持装置7、支撑装置8、抛光垫9，所述工作台1下方设置有伺服电机4，所述工作台1的中部设置有开槽，所述转盘3放置在工作台1的开槽上，所述转盘3下方固定连接有转轴31，所述伺服电机4转动连接着转轴31，所述转盘3上方设置有抛光垫9，所述抛光垫9上设置有支撑装置8和多个晶圆夹持装置7，所述晶圆夹持装置7与抛光垫9之间设置有待抛光的晶圆，所述支撑装置8设置在抛光垫9中部，所述支撑装置8包含侦测杆81、影像传感器82，所述影像传感器82设置在侦测杆81上，所述转盘3两侧的工作台1上均设置有抛光液喷洒装置5和冲洗装置6，所述抛光液喷洒装置5远离转盘3，所述冲洗装置6靠近转盘3，所述抛光液喷洒装置5包含储水箱51、水位传感器52、抽水泵53、转动机构54、出水管55、控制电磁阀56，所述储水箱51的出水端连通着抽水泵53的进水端，所述抽水泵53的出水端连通着出水管55，所述出水管55与工作台1之间设置有转动机构54，所述出水管55上设置有控制电磁阀56，所述储水箱51内设置有水位传感器52，所述冲洗装置6和抛光液喷洒装置5的结构相同，所述控制电箱2设置在工作台1的右侧，所述控制电箱2内部设置有控制系统21，所述控制系统21包含转换器211、放大电路212、继电器213、报警系统214，所述控制电箱2的控制面板上设置有显示屏22、USB接口23、闪烁灯24、蜂鸣器25、控制按钮26、电源接头27，所述控制按钮26、水位传感器52、影像传感器82电性连接着和转换器211，所述转换器211电性连接着本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆单面抛光装置，其特征在于：它包含工作台(1)、控制电箱(2)、转盘(3)、伺服电机(4)、抛光液喷洒装置(5)、冲洗装置(6)、晶圆夹持装置(7)、支撑装置(8)、抛光垫(9)，所述工作台(1)下方设置有伺服电机(4)，所述工作台(1)的中部设置有开槽，所述转盘(3)放置在工作台(1)的开槽上，所述转盘(3)下方固定连接有转轴(31)，所述伺服电机(4)转动连接着转轴(31)，所述转盘(3)上方设置有抛光垫(9)，所述抛光垫(9)上设置有支撑装置(8)和多个晶圆夹持装置(7)，所述晶圆夹持装置(7)与抛光垫(9)之间设置有待抛光的晶圆，所述支撑装置(8)设置在抛光垫(9)中部，所述支撑装置(8)包含侦测杆(81)、影像传感器(82)，所述影像传感器(82)设置在侦测杆(81)上，所述转盘(3)两侧的工作台(1)上均设置有抛光液喷洒装置(5)和冲洗装置(6)，所述抛光液喷洒装置(5)远离转盘(3)，所述冲洗装置(6)靠近转盘(3)，所述抛光液喷洒装置(5)包含储水箱(51)、水位传感器(52)、抽水泵(53)、转动机构(54)、出水管(55)、控制电磁阀(56)，所述储水箱(51)的出水端连通着抽水泵(53)的进水端，所述抽水泵(53)的出水端连通着出水管(55)，所述出水管(55)与工作台(1)之间设置有转动机构(54)，所述出水管(55)上设置有控制电磁阀(56)，所述储水箱(51)内设置有水位传感器(52)，所述冲洗装置(6)和抛光液喷洒装置(5)的结构相同，所述控制电箱(2)设置在工作台(1)的右侧，所述控制电箱(2)内部设置有控制系统(21)，所述控制系统(21)包含转换器(211)、放大电路(212)、继电器(213)、报警系统(214)，所述控制电箱(2)的控制面板上设置有显示屏(22)、USB接口(23)、闪烁灯(24)、蜂鸣器(25)、控制按钮(26)、电源接头(27)，所述控制按钮(26)、水位传感器(52)、影像传感器(82)电性连接着和转换器(211)，所述转换器(211)电性连接着放大电路(212)，所述USB接口(23)、电源接头(27)放大电路(212)电性连接着控制系统(21)，所述控制系统(21)电性连接着报警系统(214)、继电器(213)、显示屏(22)，所述继电器(213)电性连接着伺服电机(4)、控制电磁阀(56)、抽水泵(53)，所述报警系统(214)电性连接着闪烁灯(24)、蜂鸣器(25)。/n...

【技术特征摘要】
1.一种晶圆单面抛光装置，其特征在于：它包含工作台(1)、控制电箱(2)、转盘(3)、伺服电机(4)、抛光液喷洒装置(5)、冲洗装置(6)、晶圆夹持装置(7)、支撑装置(8)、抛光垫(9)，所述工作台(1)下方设置有伺服电机(4)，所述工作台(1)的中部设置有开槽，所述转盘(3)放置在工作台(1)的开槽上，所述转盘(3)下方固定连接有转轴(31)，所述伺服电机(4)转动连接着转轴(31)，所述转盘(3)上方设置有抛光垫(9)，所述抛光垫(9)上设置有支撑装置(8)和多个晶圆夹持装置(7)，所述晶圆夹持装置(7)与抛光垫(9)之间设置有待抛光的晶圆，所述支撑装置(8)设置在抛光垫(9)中部，所述支撑装置(8)包含侦测杆(81)、影像传感器(82)，所述影像传感器(82)设置在侦测杆(81)上，所述转盘(3)两侧的工作台(1)上均设置有抛光液喷洒装置(5)和冲洗装置(6)，所述抛光液喷洒装置(5)远离转盘(3)，所述冲洗装置(6)靠近转盘(3)，所述抛光液喷洒装置(5)包含储水箱(51)、水位传感器(52)、抽水泵(53)、转动机构(54)、出水管(55)、控制电磁阀(56)，所述储水箱(51)的出水端连通着抽水泵(53)的进水端，所述抽水泵(53)的出水端连通着出水管(55)，所述出水管(55)与工作台(1)之间设置有转动机构(54)，所述出水管(55)上设置有控制电磁阀(56)，所述储水箱(51)内设置有水位传感器(52)，所述冲洗装置(6)和抛光液喷洒装置(5)的结构相同，所述控制电箱(2)设置在工作台(1)的右侧，所述控制电箱(2)内部设置有控制系统(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈琳，
申请(专利权)人：苏州美法光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32