一种半导体器件主体清洁装置制造方法及图纸

技术编号:22666528 阅读:57 留言:0更新日期:2019-11-28 07:10
本实用新型专利技术公开一种半导体器件主体清洁装置,包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架,储液瓶支架上设置有储液瓶,轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽,轨道护架上还设有清洁装置和风干装置,清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵,海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴,海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面,海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽,导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通,风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架。本清洁装置用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁,增加印字清晰度和印字牢度。

A cleaning device for the main body of semiconductor devices

The utility model discloses a cleaning device for the main body of a semiconductor device, which comprises a base plate, a liquid storage bottle bracket vertically arranged on the base plate and a track guard frame. The liquid storage bottle bracket is arranged on the liquid storage bottle bracket, a vertical groove extending in the vertical direction is arranged on the track guard frame, and a cleaning device and an air drying device are arranged on the track guard frame. The cleaning device comprises a sponge bracket, a sponge sticking plate and a sponge, and a sea The sponge support is provided with a pin shaft which is slidably arranged in the vertical groove. The sponge is bonded to the lower end surface of the sponge support through the sponge bonding plate. The upper end surface of the sponge support is provided with a water guide channel which is connected with the sponge. The water guide channel is connected with the outlet of the liquid storage bottle through the infusion pipe. The air drying device includes an axial flow fan and a fan support which connects the axial flow fan to the track support. The cleaning device is used for cleaning the main body of semiconductor components before the printing process to increase the printing clarity and the printing fastness.

【技术实现步骤摘要】
一种半导体器件主体清洁装置
本技术涉及一种半导体器件主体清洁装置,用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁,属于半导体清洁装置

技术介绍
半导体元器件在测试印字生产过程中机器工作会使器件主体产生不同程度的划痕和灰尘,灰尘会造成器件在印字过程中印不上,因为半导体元器件主体会印有区分正负极或交直流等符号的标识,划痕很容易让使用者难以区分哪个才是正确的印字,故需对元器件主体进行清洁一下增加印字清晰度及印字牢度。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种半导体器件主体清洁装置,用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁,增加印字清晰度和印字牢度。为了解决所述技术问题,本技术采用的技术方案是:一种半导体器件主体清洁装置,包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架,储液瓶支架上设置有储液瓶,轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽,轨道护架一侧设有清洁装置,另一侧设有风干装置,清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵,海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴,海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面,海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽,导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通,风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架,储液瓶的高度大于清洁装置的高度,风干装置的高度大于清洁装置的高度。进一步的,所述导水槽为T形导水槽,T形导水槽的窄端开有与输液管相连的圆孔。进一步的,储液瓶的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置。进一步的,销轴采用螺杆,销轴未与海绵支架连接的一端上旋有紧固螺钉。进一步的,所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。本技术的有益效果:本技术包括储液瓶、清洁装置和风干装置,储液瓶内的清洁液体流道清洁装置的海绵上,海绵将器件本体的灰尘、脏污、油污擦拭掉,利用风干装置的轴流风机将擦拭过的器件吹干,从而使干燥无污的半导体器件流入印字工序,可增加印字清晰度和印字牢度,避免了人工清洗擦除影响工作效率,提高工作效率和器件印字质量。附图说明图1为本技术的结构示意图;图2为清洁装置的俯视结构示意图;图3为清洁装置的仰视结构示意图;图中:1、底板,2、储液瓶支架,3、储液瓶,4、滴定装置,5、输液管,6、轨道护架,7、竖直槽,8、风机支架,9、轴流风机,10、销轴,11、海绵支架,12、海绵,13、圆孔,14、导水槽,15、海绵粘板。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步的说明。实施例1如图1所示,本实施例所述半导体器件主体清洁装置包括底板1、垂直设置于底板1上的储液瓶支架2和轨道护架6,储液瓶支架2上设置有储液瓶3,轨道护架6上开有在竖直方向延伸的竖直槽7,轨道护架6左侧设有清洁装置,右侧设有风干装置,结合图2、3所示,清洁装置包括海绵支架11、海绵粘板15和海绵12,海绵支架11上设有滑动设置于竖直槽7内的销轴10,海绵12通过海绵粘板15粘接在海绵支架11下端面,海绵支架11上端面开有与海绵12相通的导水槽14,导水槽14通过输液管5与储液瓶3的出口相连通,风干装置包括轴流风机9以及将轴流风机9连接在轨道护架6上的风机支架8,储液瓶3的高度大于清洁装置的高度,风干装置的高度大于清洁装置的高度。本实施例中,所述导水槽14为T形导水槽,T形导水槽的窄端开有与输液管5相连的圆孔13。储液瓶3内的清洁液体通过圆孔13流入导水槽14内,再通过导水槽14渗透至海绵12内。本实施例中,储液瓶3的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置4。本实施例中,销轴10采用螺杆,销轴10未与海绵支架11连接的一端上旋有紧固螺钉。紧固螺钉旋紧时,可以将清洁装置固定在特定高度,当固定螺钉松开时,清洁装置可以沿竖直槽上下移动,从而调节清洁装置的高度。本实施例中,所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。使用本实施例所述半导体器件主体清洁装置时,首先将本装置的底板1固定在半导体元器件轴向二极管或桥堆器件测试设备上,使半导体器件按从左到右的流动方向在清洁装置下方经过,然后调节清洁装置与器件本体的距离,使清洁装置与器件本体接触,让带有清洁液体的海绵12将器件本体的灰尘、脏污、油污擦拭掉,利用风干装置的轴流风机吹风将擦拭过得器件吹干,从而使干燥无污的半导体器件流入印字工序,大大避免了人工清洗擦除提高工作效率和器件印字质量以上描述的仅是本技术的基本原理和优选实施例,本领域技术人员根据本技术做出的改进和替换,属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体器件主体清洁装置,其特征在于:包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架,储液瓶支架上设置有储液瓶,轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽,轨道护架一侧设有清洁装置,另一侧设有风干装置,清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵,海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴,海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面,海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽,导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通,风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架,储液瓶的高度大于清洁装置的高度,风干装置的高度大于清洁装置的高度。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体器件主体清洁装置,其特征在于:包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架,储液瓶支架上设置有储液瓶,轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽,轨道护架一侧设有清洁装置,另一侧设有风干装置,清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵,海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴,海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面,海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽,导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通,风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架,储液瓶的高度大于清洁装置的高度,风干装置的高度大于清洁装置的高度。

【专利技术属性】
技术研发人员:赵俊男王丽丽
申请(专利权)人:济南鲁晶半导体有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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