The utility model discloses a visible light high reflection film for vehicle HUD, which comprises a substrate and a niobium pentoxide film layer, a first silicon oxide film layer, a first silicon hydride film layer, a silicon dioxide film layer, a second silicon hydride film layer, a third silicon oxide film layer, a third silicon hydride film layer, a fourth silicon oxide film layer and a fourth silicon hydride film layer which are successively arranged on one side of the substrate from bottom to top , the fifth silicon oxide film and the fifth silicon hydride film. Through the combination of high and low refractive index materials of silicon hydride and silicon oxide, and the medium refractive index materials of niobium pentoxide, the average reflectivity of the reflective film at 45 \u00b0 angle is more than 90% in the range of 400nm \u2011 600nm (visible light area), and less than 15% in the range of 700nm \u2011 1000nm (infrared light area).
【技术实现步骤摘要】
一种用于车载HUD的可见光高反射膜
本技术涉及车载显示
,更具体地涉及一种用于车载HUD的可见光高反射膜。
技术介绍
随着科技的进步以及需求的日益提高,近年来车载HUD(车载用的平视显示器)已经得到广泛应用,车载UHD能够降低驾驶员低头查看图像的频率,避免注意力中断以及丧失对汽车行驶状态的掌握,从而提高驾驶安全。车载HUD之所以能够将驾驶状态信息和其余重要信息投射到驾驶员前方挡风的玻璃或者头盔显示器上,这些显示信息是通过位于挡风玻璃的反射膜反射至人眼中,同时人可以透过具有反射膜的挡风玻璃观察前方。因此,反射膜是车载HUD中的一个关键元器件,然而反射膜的要求就比较高,首先是要在45°角放置下反射,因此要在45°观察角下可见光区反射率尽可能的高,而在红外光区反射率尽可能的小,但目前普通的溅射材料及膜系设计无法满足这种要求。
技术实现思路
为了解决所述现有技术的不足,本技术提供了一种用于车载HUD的可见光高反射膜,该高反射膜的结构设计使得在45°角下可见光区的平均反射率>90%,红外光区的平均反射率<15%。本技术所要达到的技术效果通过以下方案实现:一种用于车载HUD的可见光高反射膜,包括基板和从下往上依次层叠设置在基板一侧的五氧化二铌膜层、第一氧化硅膜层、第一氢化硅膜层、第二氧化硅膜层、第二氢化硅膜层、第三氧化硅膜层、第三氢化硅膜层、第四氧化硅膜层、第四氢化硅膜层、第五氧化硅膜层和第五氢化硅膜层。优选地,所述五氧化二铌膜层的厚度为40nm-50nm。优选地,所述第一氧 ...
【技术保护点】
1.一种用于车载HUD的可见光高反射膜,其特征在于,包括基板和从下往上依次层叠设置在基板一侧的五氧化二铌膜层、第一氧化硅膜层、第一氢化硅膜层、第二氧化硅膜层、第二氢化硅膜层、第三氧化硅膜层、第三氢化硅膜层、第四氧化硅膜层、第四氢化硅膜层、第五氧化硅膜层和第五氢化硅膜层。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于车载HUD的可见光高反射膜,其特征在于,包括基板和从下往上依次层叠设置在基板一侧的五氧化二铌膜层、第一氧化硅膜层、第一氢化硅膜层、第二氧化硅膜层、第二氢化硅膜层、第三氧化硅膜层、第三氢化硅膜层、第四氧化硅膜层、第四氢化硅膜层、第五氧化硅膜层和第五氢化硅膜层。
2.如权利要求1所述的一种用于车载HUD的可见光高反射膜,其特征在于,所述五氧化二铌膜层的厚度为40nm-50nm。
3.如权利要求1所述的一种用于车载HUD的可见光高反射膜,其特征在于,所述第一氧化硅膜层的厚度为90nm-100nm,第二氧化硅膜层的厚度为110nm-130nm,第三氧化硅膜层的厚度为110nm-120nm,第四氧化硅膜层的厚度为180nm-200nm...
【专利技术属性】
技术研发人员:袁艺,周志辉,罗铭彬,
申请(专利权)人:信利光电股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。