电子照相感光体、处理盒和图像形成设备制造技术

本发明专利技术涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。具体而言，示例性实施方式的电子照相感光体包括导电性基材、在导电性基材上的底涂层、在底涂层上的电荷生成层、在电荷生成层上的电荷输送层和在电荷输送层上的无机保护层，其中满足式：0＜A/B＜0.5，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外的具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。

Electronic photographic sensitizer, processing box and image forming equipment

The invention relates to an electronic photographic sensitizer, a processing box and an image forming apparatus. In particular, the electronic photographic photosensitive body of the exemplary embodiment includes a conductive substrate, a bottom coating on the conductive substrate, a charge generating layer on the bottom coating, a charge transporting layer on the charge generating layer and an inorganic protective layer on the charge transporting layer, wherein the expression: 0 < A / b < 0.5, wherein a means that the layer set on the conductive substrate is divided by the charge generating layer The thickness of the layer with the lowest membrane modulus outside the layer formation, B represents the total thickness of the layer set on the conductive substrate.

【技术实现步骤摘要】
电子照相感光体、处理盒和图像形成设备
本专利技术涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。
技术介绍
日本专利6015160号公报描述了一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性基材、在所述导电性基材上的有机光敏层和在所述有机光敏层上的无机保护层，其中所述无机保护层包括从有机光敏层侧起依次布置的第一层、第二层和第三层，所述第一层的厚度为大于0.1μm但不超过1.0μm，并满足式(1)的关系：ρ3＜ρ1＜ρ2(式(1)中，ρ1表示第一层的体积电阻率(Ω·cm)，ρ2表示第二层的体积电阻率(Ω·cm)，ρ3表示第三层的体积电阻率(Ω·cm))。日本专利5994708号公报描述了一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括导电性基材、在所述导电性基材上的有机光敏层和布置在所述有机光敏层上以接触有机光敏层表面的无机保护层，其中有机光敏层包含电荷传输材料和具有的体积平均粒径为20nm至200nm的二氧化硅颗粒，所述电荷传输材料和二氧化硅颗粒至少包含在靠近与所述无机保护层接触的表面的区域内。
技术实现思路
例如，在包括无机保护层的电子照相感光体中，诸如载体等硬物质可能迁移到电子照相感光体的表面，并可能介于电子照相感光体和与电子照相感光体接触的部件之间从而在无机保护层中形成凹痕。因此，本专利技术的目的是提供包括无机保护层的电子照相感光体，与满足式A/B≥0.5时相比，无机保护层中凹痕的发生受到抑制，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。无机保护层中发生的“凹痕”为圆形或椭圆形凹部，其尺寸以最大直径计为40μm以下。上述目的通过以下方面解决。根据本专利技术的第一方面，提供一种电子照相感光体，电子照相感光体包括导电性基材；在所述导电性基材上的底涂层；在所述底涂层上的电荷生成层；在所述电荷生成层上的电荷输送层；和在所述电荷输送层上的无机保护层，其中满足式：0＜A/B＜0.5，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。根据本专利技术的第二方面，提供根据第一方面所述的电子照相感光体，其中设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层和具有最高膜弹性模量的层的膜弹性模量的差为30GPa至90GPa。根据本专利技术的第三方面，提供根据第一或第二方面所述的电子照相感光体，其中所述底涂层的厚度与所述无机保护层的厚度之比为0.01至40。根据本专利技术的第四方面，提供根据第一至第三方面中任一项的电子照相感光体，其中所述电荷输送层的厚度与所述无机保护层的厚度之比为1至60。根据本专利技术的第五方面，提供根据第三或第四方面所述的电子照相感光体，其中所述底涂层的厚度为0.1μm至35μm；所述电荷生成层的厚度为10μm至60μm，和所述无机保护层的厚度为1.0μm至10μm。根据本专利技术的第六方面，提供根据第一至第五方面中任一项所述的电子照相感光体，其中所述无机保护层由包含第13族元素和氧的金属氧化物层形成。根据本专利技术的第七方面，提供根据第六方面所述的电子照相感光体，其中所述的包含第13族元素和氧的金属氧化物层是包含氧化镓的金属氧化物层。根据本专利技术的第八方面，提供一种处理盒，所述处理盒能够从图像形成设备拆卸和安装，所述处理盒包括根据第一至第七方面中任一项所述的电子照相感光体。根据本专利技术的第九方面，提供一种图像形成设备，所述图像形成设备包括根据第一至第七方面中任一项所述的电子照相感光体；对所述电子照相感光体的表面进行充电的充电单元；在所述电子照相感光体的带电表面上形成静电潜像的静电潜像形成单元；通过使用包含色调剂的显影剂使在所述电子照相感光体表面上的所述静电潜像显影从而形成色调剂图像的显影单元；和将所述色调剂图像转印至记录介质表面上的转印单元。根据本专利技术的第一、第三、第四、第五、第六或第七方面，提供一种电子照相感光体，与满足式A/B≥0.5时相比，无机保护层中凹痕的发生受到抑制，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。根据本专利技术的第二方面，提供一种电子照相感光体，与除所述电荷生成层之外层中具有最低膜弹性模量的层和具有最高膜弹性模量的层的膜弹性模量的差为小于30GPa时相比，无机保护层中凹痕的发生受到抑制。根据本专利技术的第八或第九方面，提供一种处理盒或图像形成设备，与满足式A/B≥0.5时相比，无机保护层中凹痕的发生受到抑制，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。附图说明基于以下附图将对本专利技术的示例性实施方式进行详细描述，其中：图1是示例性实施方式的电子照相感光体的层结构的一个实例的示意性截面图；图2A和2B是描述用于形成该示例性实施方式的电子照相感光体的无机保护层的成膜设备的一个实例的示意图；图3是描述用于形成该示例性实施方式的电子照相感光体的无机保护层的等离子体发生器的实例的示意图；图4是描述根据示例性实施方式的图像形成设备的一个实例的示意图；和图5是描述根据示例性实施方式的图像形成设备的另一个实例的示意图。具体实施方式现在将描述本专利技术的示例性实施方式。在该说明书中，“电子照相感光体”可简称为“感光体”。电子照相感光体示例性实施方式的电子照相感光体包括导电性基材、在所述导电性基材上的底涂层、在所述底涂层上的电荷生成层、在所述电荷生成层上的电荷输送层和在所述电荷输送层上的无机保护层，其中满足式：0＜A/B＜0.5，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。此处，设置在导电性基材上的层指的是设置在导电性基材上的所有层，并包括底涂层、电荷生成层、电荷输送层和无机保护层以及可选层，例如中间层(如果设置这样的可选层)。换言之，厚度A指的是设置在导电性基材上的所有层中除电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度。此外，设置在导电性基材上的层的总厚度B指的是设置在导电性基材上的所有层，即底涂层、电荷生成层、电荷输送层和无机保护层以及诸如中间层等可选层(如果提供该可选层)的总厚度。迄今为止，在有机光敏层上形成无机保护层的技术是已知的。有机光敏层具有柔性和易变形的倾向，而无机保护层是硬的，但有表现出较差韧性的倾向。因此，无机保护层中有时会发生凹痕。例如，在显影步骤中，当载体由显影单元分散并附着于电子照相感光体时，附着于电子照相感光体的载体达到转印位置。在转印位置，对夹在电子照相感光体和转印单元之间的载体施加压力。因此，例如，夹在电子照相感光体和转印单元之间的载体被压在无机保本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括：/n导电性基材；/n在所述导电性基材上的底涂层；/n在所述底涂层上的电荷生成层；/n在所述电荷生成层上的电荷输送层；和/n在所述电荷输送层上的无机保护层，/n其中满足式：0＜A/B＜0.5，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。/n

【技术特征摘要】
20180511 JP 2018-0924271.一种电子照相感光体，所述电子照相感光体包括：
导电性基材；
在所述导电性基材上的底涂层；
在所述底涂层上的电荷生成层；
在所述电荷生成层上的电荷输送层；和
在所述电荷输送层上的无机保护层，
其中满足式：0＜A/B＜0.5，其中A表示设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层的厚度，B表示设置在所述导电性基材上的层的总厚度。


2.如权利要求1所述的电子照相感光体，其中设置在所述导电性基材上的层中除所述电荷生成层之外具有最低膜弹性模量的层和具有最高膜弹性模量的层的膜弹性模量的差为30GPa至90GPa。


3.如权利要求1或2所述的电子照相感光体，其中所述底涂层的厚度与所述无机保护层的厚度之比为0.01至40。


4.如权利要求1至3中任一项所述的电子照相感光体，其中所述电荷输送层的厚度与所述无机保护层的厚度之比为1至60。


5.如权利要求3或4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胜原秀弥，岩永刚，平方昌记，鸟越诚之，木越阳一，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP