一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，属于薄膜耐热性提升技术领域，一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，可以通过在基材(PET)表面涂设一层UV Resin，并进行加热处理，可以实现提高后期由基材(PET)制造的光学薄膜分子间的稳定性，使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低，有效提高其耐热性，有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况，提高光学薄膜的使用寿命和使用范围，降低材料的浪费率，并且还可以确定出UV Resin对于保持基材(PET)最小收缩率的厚度，有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。

A process for improving the heat resistance of optical films

The invention discloses a production process for improving the heat resistance of optical film, belonging to the technical field of improving the heat resistance of optical film. A production process for improving the heat resistance of optical film can be realized by coating a layer of UV resin on the surface of the base material (PET) and heating treatment, so as to improve the intermolecular stability of the optical film manufactured by the base material (PET) in the later stage and make the longitudinal (MD) and transverse The shrinkage of (TD) is also reduced, which can effectively improve its heat resistance, effectively avoid the deformation of optical film products due to heat, improve the service life and scope of optical film, reduce the waste rate of materials, and also determine the UV resin for maintaining the minimum shrinkage thickness of the substrate (PET), effectively improve the subsequent heat treatment of optical film Quantity.

【技术实现步骤摘要】
一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺
本专利技术涉及薄膜耐热性提升
，更具体地说，涉及一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺。
技术介绍
由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子
，制造各种光学仪器。主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小；采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高；利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。最简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出，反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定(见光在分界面上的折射和反射)。光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率，常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面，用以减少表面反射，增加光学系统透射，又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割，其种类多，结构复杂。光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质。最常见的是金属镜面的保护膜。但是现有技术中的光学薄膜的热稳定性较差，其在受热后，光学薄膜的分子间不稳定，在横向和纵向上发生收缩，导致整个光学薄膜发生不可逆的变形，一方面影响光学薄膜的使用寿命，另一方面导致材料浪费。
技术实现思路
1.要解决的技术问题针对现有技术中存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，它可以通过在基材(PET)表面涂设一层UVResin，并进行加热处理，可以实现提高后期由基材(PET)制造的光学薄膜分子间的稳定性，使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低，有效提高其耐热性，有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况，提高光学薄膜的使用寿命和使用范围，降低材料的浪费率，并且还可以确定出UVResin对于保持基材(PET)最小收缩率的厚度，有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。2.技术方案为解决上述问题，本专利技术采用如下的技术方案。一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，包括以下步骤：S1、首先选取多组基材(PET)，并切割成同一尺寸；S2、然后在各组基材(PET)上表面分别涂设一层UVResin；S3、之后将上述各组基材经过烘箱，进行加热处理；S4、加热处理5-10min后，然后进行降温处理。可以通过在基材(PET)表面涂设一层UVResin，并进行加热处理，可以实现提高后期由基材(PET)制造的光学薄膜分子间的稳定性，使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低，有效提高其耐热性，有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况，提高光学薄膜的使用寿命和使用范围，降低材料的浪费率，并且还可以确定出UVResin对于保持基材(PET)最小收缩率的厚度，有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。进一步的，所述S3中烘箱采用密闭型烘箱。进一步的，所述S3中烘箱采用密闭型烘箱。进一步的，所述S3中加热处理的温度保持在60-170℃。进一步的，所述S2中UVResin的厚度为0.5-1mm，厚度过厚容易导致基材(PET)整体过厚，易导致经热处理后的基材(PET)在纵向(MD)上容易产生裂纹，易导致光学薄膜的透光性变差，影响其质量，厚度过薄，其对光学薄膜整体耐热性的提高不明显。进一步的，各组所述基材(PET)上表面涂设的UVResin厚度不同，且各组的UVResin厚度依次增加，且每相邻两组之间的UVResin厚度相差0.1mm，在后期可以对比各组不同的UVResin厚度的光学薄膜的横向(TD)和纵向(MD)收缩率，从而可以得出最小的收缩率所对应的UVResin厚度，进而可以在保证最小或较小收缩率的情况下，有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。进一步的，各组所述基材(PET)经过烘箱之前，对烘箱进行预热处理。进一步的，所述预热处理的温度保持在30-60℃，使得基材(PET)在刚进入烘箱内后，不需要从低温开始进行升温，有效提高热处理的工作效率，并且30-60℃较为接近室温，基材(PET)在进入烘箱后，能够最大限度的适应烘箱温度，不易因温度骤变而受到影响。进一步的，所述降温处理时降温速度保持在每分钟下降10-20℃，温度下降速度较为缓慢，使得便于基材(PET)适应温度的变化，使其在经过热处理后形成的光学薄膜更加稳定。进一步的，在所述S4中降温处理之间，先向所述烘箱内通入惰性保护气体，所述惰性保护气体可以采用N2、CO2和Ar中的一种或多种，通过惰性气体，有效保护基材(PET)在温度的变化过程中保持稳定，不易发生非目标的变化，相较于现有技术中不通入惰性保护气体，或者在进行热处理之前就通入惰性保护气体，本惰性气体不易在热处理过程中产生抑制基材(PET)发生目标变化的情况，有效确保热处理过程的正常进行，且惰性气体的通入速度与降温速度成正比，温度降低，烘箱内气体的分子间的间距变小，因而可以具有一定的空间用来装载通入的惰性气体。进一步的，所述降温处理时降温速度还可以控制为骤降，即在单位时间内将温度降至室温，温度骤降可以使得得到的光学薄膜的成品韧性更好，同时可以瞬间定格基材(PET)在开始降温时的状态，进而可以更加准确的反映热处理对于基材(PET)横向(TD)和纵向(MD)收缩率的影响。3.有益效果相比于现有技术，本专利技术的优点在于：(1)本方案可以通过在基材(PET)表面涂设一层UVResin，并进行加热处理，可以实现提高后期由基材(PET)制造的光学薄膜分子间的稳定性，使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低，有效提高其耐热性，有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况，提高光学薄膜的使用寿命和使用范围，降低材料的浪费率，并且还可以确定出UVResin对于保持基材(PET)最小收缩率的厚度，有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。S3中烘箱采用密闭型烘箱。(2)S3中烘箱采用密闭型烘箱。(本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：包括以下步骤：/nS1、首先选取多组基材(PET)，并切割成同一尺寸；/nS2、然后在各组基材(PET)上表面分别涂设一层UV Resin；/nS3、之后将上述各组基材经过烘箱，进行加热处理；/nS4、加热处理5-10min后，然后进行降温处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：包括以下步骤：
S1、首先选取多组基材(PET)，并切割成同一尺寸；
S2、然后在各组基材(PET)上表面分别涂设一层UVResin；
S3、之后将上述各组基材经过烘箱，进行加热处理；
S4、加热处理5-10min后，然后进行降温处理。


2.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述S3中烘箱采用密闭型烘箱。


3.根据权利要求2所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述S3中加热处理的温度保持在60-170℃。


4.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述S2中UVResin的厚度为0.5-1mm。


5.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：各组所述基材(PET)上表面涂设的UVResin厚度不同，且各组的UVResin厚度依次...

【专利技术属性】
技术研发人员：金正植，赵成权，李在成，
申请(专利权)人：常宝新材料苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32