蒸发台坩埚装置及蒸发台系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体器件芯片制造技术领域，公开了一种蒸发台坩埚装置及蒸发台系统，具体的，蒸发台坩埚装置包括基板、两坩埚磁极臂、挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两电子枪保护组件以及坩埚；两电子枪保护组件分别设置在坩埚的第一端的两侧，挡板驱动器固定架设置在坩埚的第二端，挡板驱动器设置在挡板驱动器固定架远离所述坩埚的一端；基板上设置有电子枪固定组件，电子枪固定组件用于固定电子枪，坩埚的置物孔的口径为40mm‑80mm。本实用新型专利技术能够在蒸发过程中提升速率，减少崩源，延长坩埚使用寿命，提升产品质量，提高产能。

Crucible device and system of evaporation table

The utility model relates to the technical field of semiconductor device chip manufacturing, and discloses an evaporation table crucible device and an evaporation table system, in particular, the evaporation table crucible device includes a base plate, two crucible pole arms, a baffle driver, a baffle driver fixing frame, two electron gun protection components and a crucible; the two electron gun protection components are respectively arranged on both sides of the first end of the crucible, and the baffle The driver fixing frame is arranged at the second end of the crucible, and the baffle driver is arranged at the end of the baffle driver fixing frame far away from the crucible; the base plate is provided with an electron gun fixing component, which is used to fix the electron gun, and the diameter of the holding hole of the crucible is 40mm \u2011 80mm. The utility model can increase the rate, reduce the source of collapse, prolong the service life of the crucible, improve the product quality and increase the production capacity in the evaporation process.

【技术实现步骤摘要】
蒸发台坩埚装置及蒸发台系统
本技术涉及半导体器件芯片制造
，尤其是涉及一种蒸发台坩埚装置及蒸发台系统。
技术介绍
蒸发工序最重要的就是金属源的洁净，因此放置金属源的坩埚就尤为重要。型号为MARK-50的蒸发台铝埚是半导体加工工艺中蒸发工序经常用到的设备。现有MARK-50蒸发台原装坩埚结构，由于受其安装空间的限制，坩埚的容量较小，一般坩埚的为直径20mm。这种坩埚由于容量小，电子束在坩埚内占的体积就相对较大，在长时间蒸发过程中电子束容易打到坩埚周围的杂质产生崩源现象，坩埚边沿的杂质也容易随着源蒸发到芯片上对芯片质量产生影响，长时间使用坩埚的电子枪枪口位置非常容易产生豁口导致坩埚漏水，需要定期频繁更换。同时，由于坩埚容量有限，坩埚内金属的蒸发速率一般为在芯片上蒸发的厚度时，大约需要30分钟，整个蒸发工序的操作时间长。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种蒸发台坩埚装置，以解决现有技术中存在的坩埚结构受安装空间的限制，导致坩埚容量较小，蒸发过程中电子束容易打到坩埚周围的杂质产生崩源现象的技术问题。本技术的目的还在于提供一种蒸发台系统，以解决现有技术中存在的坩埚结构受安装空间的限制，导致坩埚容量较小，蒸发过程中电子束容易打到坩埚周围的杂质产生崩源现象的技术问题。基于上述第一目的，本技术提供了一种蒸发台坩埚装置，所述坩埚装置包括基板、两个坩埚磁极臂、挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两个电子枪保护组件以及坩埚；两个所述坩埚磁极臂分别连接设置在所述基板的两侧，在所述基板的上方，两个所述坩埚磁极臂之间形成容置所述坩埚的空隙，所述坩埚支撑设置在两个所述坩埚磁极臂上；两个所述电子枪保护组件分别设置在所述坩埚的第一端的两侧，所述挡板驱动器固定架设置在所述坩埚的第二端，所述挡板驱动器设置在所述挡板驱动器固定架远离所述坩埚的一端；所述基板上设置有电子枪固定组件，所述电子枪固定组件用于固定电子枪，所述坩埚的置物孔的口径为40mm-80mm。进一步地，所述坩埚装置还包括底板，所述底板设置在所述基板的下方；所述电子枪保护组件以及所述挡板驱动器固定架分别固定在所述底板的两端。进一步地，所述底板对应所述坩埚的第一端的两侧分别设置有第一支撑柱，所述电子枪保护组件设置在所述第一支撑柱上。进一步地，所述挡板驱动器固定架包括支撑板和两第二支撑柱，两所述第二支撑柱分别固定在所述底板对应所述坩埚的第二端的两侧，所述支撑板固定两所述第二支撑柱上。进一步地，所述坩埚装置还包括坩埚扫描线圈，所述坩埚扫描线圈设置在所述坩埚的第一端的端部上。进一步地，所述坩埚装置包括腔室衬板，所述腔室衬板设置在所述坩埚的上方，且所述腔室衬板对应所述坩埚的置物孔的位置设置有开孔，所述开孔与所述坩埚的置物孔适配。进一步地，所述坩埚装置还包括挡圈，所述挡圈设置在所述腔室衬板的开孔内，且所述挡圈对应设置在所述坩埚的置物孔的周向外侧上。进一步地，所述坩埚装置还包括挡板，所述挡板与所述挡板驱动器连接，所述挡板设置在所述腔室衬板的上方；所述挡板在所述挡板驱动器的作用下在阻挡坩埚置物孔位置和非阻挡坩埚置物孔位置之间移动。进一步地，所述基板通过垫柱支撑设置在所述底板上；所述坩埚的上沿高度距离载片轨道的高度为25cm-30cm。基于上述第二目的，本技术还提供了一种蒸发台系统，包括蒸发台，所述蒸发台上设置有本技术提供的蒸发台坩埚装置。与现有技术相比，本技术的有益效果为：本技术提供的蒸发台坩埚装置，包括基板、两坩埚磁极臂、挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两电子枪保护组件以及坩埚；所述两坩埚磁极臂分别连接设置在所述基板的两侧，所述两坩埚之间以及所述基板的上方形成容置所述坩埚的空隙，所述坩埚支撑设置在所述两坩埚磁极臂上；两电子枪保护组件分别设置在所述坩埚的第一端的两侧，所述挡板驱动器固定架设置在所述坩埚的第二端，所述挡板驱动器设置在所述挡板驱动器固定架远离所述坩埚的一端；所述基板上设置有电子枪固定组件，所述电子枪固定组件用于固定电子枪，所述坩埚的置物孔的口径为40mm-80mm。本技术蒸发台坩埚装置通过将合理布置挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两电子枪保护组件以及坩埚的位置，在不改变现有蒸发台坩埚结构的安装空间的条件下，可加大坩埚的尺寸，使得坩埚的置物孔的孔径可增大至40-80mm。本技术蒸发台坩埚装置的构件之间布置合理紧凑，坩埚容积增大，即源锭增大，增大后电子束相应在坩埚的置物孔内的占比减小，可通过合理调节电子束使其打在坩埚的置物孔的中心，避免电子束与坩埚边缘接触，杜绝了崩源现象的产生，同时也提高了产品质量。进一步，电子束远离坩埚边缘，避免了因电子束长时间与坩埚边缘距离较近产生的啃锅(坩埚边缘出现豁口，称为啃锅)问题，提升了坩埚的使用寿命。并且，坩埚的容积增大后，增大了坩埚内的金属的蒸发速率，缩短了蒸发工序的操作时间，提高了产能。本技术提供的蒸发台系统包括本技术提供的蒸发台坩埚装置。相比现有技术，本技术蒸发台系统与本技术提供的蒸发台坩埚装置具有相同的有益效果，通过上文对本技术蒸发台坩埚装置有益效果的描述，也能够直观的获知，在此不再详细赘述。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例蒸发台坩埚装置的主视示意图；图2为图1的侧视示意图；图3为本技术实施例蒸发台坩埚装置的坩埚的俯视示意图；图4为图3的主视图；图5为图3的侧视图；图6为图3的A-A剖视图；图7为本技术实施例蒸发台坩埚装置的挡板驱动器固定架示意图；图8为本技术实施例蒸发台坩埚装置的基板的俯视示意图；图9为图8的主视示意图；图10为本技术实施例蒸发台坩埚装置的扫描线圈架的俯视示意图；图11为图10的主视图；图12为图10的侧视图；图13为本技术实施例蒸发台坩埚装置的坩埚磁极臂的示意图；图14为本技术实施例蒸发台坩埚装置的挡圈示意图；图15为本技术实施例蒸发台坩埚装置的腔室衬板示意图。图标：1-坩埚；1a-置物孔；2-基板；3-坩埚磁极臂；4-挡圈；5-腔室衬板；5a-开孔；6-底板；7-电子枪固定组件；8-第一支撑柱；9-电子枪保护组件；10-挡板驱动器固定架；11-第二支撑柱；12-扫描线圈架；13-循环水道；14-循环水接口。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等，其指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发台坩埚装置，其特征在于，所述坩埚装置包括基板、两个坩埚磁极臂、挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两个电子枪保护组件以及坩埚；两个所述坩埚磁极臂分别连接设置在所述基板的两侧，在所述基板的上方，两个所述坩埚磁极臂之间形成容置所述坩埚的空隙，所述坩埚支撑设置在所述两个坩埚磁极臂上；两个所述电子枪保护组件分别设置在所述坩埚的第一端的两侧，所述挡板驱动器固定架设置在所述坩埚的第二端，所述挡板驱动器设置在所述挡板驱动器固定架远离所述坩埚的一端；所述基板上设置有电子枪固定组件，所述电子枪固定组件用于固定电子枪，所述坩埚的置物孔的口径为40mm‑80mm。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发台坩埚装置，其特征在于，所述坩埚装置包括基板、两个坩埚磁极臂、挡板驱动器、挡板驱动器固定架、两个电子枪保护组件以及坩埚；两个所述坩埚磁极臂分别连接设置在所述基板的两侧，在所述基板的上方，两个所述坩埚磁极臂之间形成容置所述坩埚的空隙，所述坩埚支撑设置在所述两个坩埚磁极臂上；两个所述电子枪保护组件分别设置在所述坩埚的第一端的两侧，所述挡板驱动器固定架设置在所述坩埚的第二端，所述挡板驱动器设置在所述挡板驱动器固定架远离所述坩埚的一端；所述基板上设置有电子枪固定组件，所述电子枪固定组件用于固定电子枪，所述坩埚的置物孔的口径为40mm-80mm。2.根据权利要求1所述的蒸发台坩埚装置，其特征在于，所述坩埚装置还包括底板，所述底板设置在所述基板的下方；所述电子枪保护组件以及所述挡板驱动器固定架分别固定在所述底板的两端。3.根据权利要求2所述的蒸发台坩埚装置，其特征在于，所述底板对应所述坩埚的第一端的两侧分别设置有第一支撑柱，所述电子枪保护组件设置在所述第一支撑柱上。4.根据权利要求2所述的蒸发台坩埚装置，其特征在于，所述挡板驱动器固定架包括支撑板和两第二支撑柱，两所述第二支撑柱分别固定在所述底板对应所述坩...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵旭，王志达，袁守良，
申请(专利权)人：吉林华微电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：吉林,22