用于辐射成像模式的防散射准直器制造技术

除其他方面外，本公开提供了一种防散射准直器，所述防散射准直器包括第一层，所述第一层在第一表面处限定第一保持构件。第二层在面向所述第一层的所述第一表面的第一表面处限定第二保持构件。隔板设置在所述第一层和所述第二层之间，并且物理接触所述第一保持构件和所述第二保持构件。所述第一保持构件和所述第二保持构件保持所述隔板相对于所述第一层和所述第二层的位置。所述隔板具有大于所述第一层的第一衰减系数和所述第二层的第二衰减系数的第三衰减系数。将端部支撑件附接到所述第一层和所述第二层。所述端部支撑件与所述隔板的端部接界。

Anti scatter collimator for radiation imaging mode

The present disclosure provides, inter Alia, an anti scatter collimator comprising a first layer defining a first retaining member at the first surface. The second layer defines a second retaining member at a first surface facing the first surface of the first layer. The partition is arranged between the first layer and the second layer, and physically contacts the first retaining member and the second retaining member. The first retaining member and the second retaining member maintain the position of the partition plate with respect to the first layer and the second layer. The partition plate has a third attenuation coefficient larger than the first attenuation coefficient of the first layer and the second attenuation coefficient of the second layer. The end support is attached to the first layer and the second layer. The end support is connected with the end of the diaphragm.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于辐射成像模式的防散射准直器
技术介绍
本专利申请涉及用于辐射成像模式(例如，利用辐射来检查对象的成像模式)的防散射准直器。它在计算机断层扫描(CT)扫描仪的背景中得到了特别的应用。然而，本文所述的特征并非旨在限于CT应用，并且可用于其他辐射成像应用，诸如线扫描系统和断层X射线影像合成系统(例如，乳房X线照相术系统)。如今，CT和其他辐射成像模式(例如，乳房X线照相术、数字化X线摄影、单光子发射计算机断层显像等)可用于提供被检查对象的内部方面的信息或图像。一般来讲，对象暴露于辐射(例如，X射线、伽马射线等)，并且基于被对象的内部方面吸收和/或衰减的辐射(更准确地说为能够穿过对象的辐射光子量)而形成图像。通常，对象的高致密方面(或具有由较高原子序数元素组成的成分的对象的方面)比不那么致密的方面吸收和/或衰减更多的辐射，因此具有较高密度(和/或高原子序数元素)的方面诸如骨骼或金属当被不那么致密的方面诸如肌肉或衣服围绕时将显而易见。除其他外，辐射成像模式通常包括一个或多个辐射源(例如，X射线源、伽马射线源等)和由多个像素(也称为单元)组成的检测器阵列，多个像素分别被配置为将已横穿对象的辐射转换成可被处理的信号以产生图像。当对象在辐射源和检测器阵列之间通过时，辐射被对象吸收/衰减，从而导致所检测的辐射的量/能量发生改变。使用从检测到的辐射获得的信息，辐射成像模式被配置为生成图像，这些图像可用于检测对象内可能特别受关注的项目(例如，身体特征、威胁项目等)。这些图像可以是二维图像或三维图像。在理想环境中，由像素检测的辐射对应于从辐射源的焦点在竖直轴上冲击像素的初级辐射。然而，撞击到对象上的辐射中的一些被散射，并且偏离直线路径。由像素检测到的散射辐射(也称为次级辐射)增加噪声并降低基于检测器信号产生的图像的质量。为减小散射辐射影响检测器阵列的像素的可能性，可在检查区域和检测器阵列之间插入防散射准直器。这些防散射准直器包括防散射板(也称为隔板)，其被配置为吸收散射辐射，同时允许初级辐射穿过准直器并且被检测器阵列的像素检测到。这些隔板相对于辐射源和检测器阵列对准，以允许初级辐射穿过，同时吸收次级辐射。具有大隔板的系统利用固定结构将隔板保持在适当的位置。尽管使用了这些固定结构，但可能出现隔板的非预期振动和运动，这导致图像质量降低。此外，用固定结构组装隔板可以是资源密集的(例如，时间密集的)，这增加了制造成本。
技术实现思路
本专利申请的各方面解决了上述问题和其他问题。根据一个方面，防散射准直器包括第一层，该第一层在第一表面处限定第一保持构件。第一层具有第一衰减系数。防散射准直器包括第二层，该第二层在第一表面(其面向第一层的第一表面)处限定第二保持构件。第二层具有第二衰减系数。隔板设置在第一层和第二层之间，并且物理接触第一保持构件和第二保持构件。第一保持构件和第二保持构件保持隔板相对于第一层和第二层的位置。隔板具有大于第一衰减系数和第二衰减系数的第三衰减系数。将端部支撑件附接到第一层和第二层。该端部支撑件与隔板的端部接界。根据另一个方面，防散射准直器包括第一层，该第一层在第一表面处限定第一保持构件。第一层具有第一衰减系数。第二层在第一表面(其面向第一层的第一表面)处限定第二保持构件。第二层具有第二衰减系数。多个隔板设置在第一层和第二层之间，并且物理接触第一保持构件和第二保持构件。第一保持构件和第二保持构件保持多个隔板中的每一个相对于第一层和第二层的位置。多个隔板的第一隔板和靠近第一层的多个隔板的第二隔板之间的节距不同于靠近第二层的多个隔板的第一隔板和第二隔板之间的第二节距。根据另一个方面，计算机断层扫描(CT)成像模式包括被配置为发射辐射的辐射源。检测器阵列被配置为检测辐射的至少一部分。防散射准直器设置在辐射源和检测器阵列之间。防散射准直器包括第一层，该第一层在第一表面处限定第一保持构件。第一层具有第一衰减系数。第二层在第一表面(其面向第一层的第一表面)处限定第二保持构件。第二层具有第二衰减系数。隔板设置在第一层和第二层之间，并且物理接触第一保持构件和第二保持构件。第一保持构件和第二保持构件保持隔板相对于第一层和第二层的位置。隔板具有大于第一衰减系数和第二衰减系数的第三衰减系数。将端部支撑件附接到第一层和第二层。该端部支撑件与隔板的端部接界。在阅读和理解所附的说明书后，本领域的普通技术人员将会理解本专利申请的其他方面。附图说明本专利申请通过示例而非限制的方式在附图中示出，其中类似的附图标记通常表示类似的元件，并且其中：图1示出了成像模式的示例性环境。图2示出了示例性防散射准直器。图3示出了示例性防散射准直器的分解图。图4A示出了示例性防散射准直器的分解截面图，其中隔板不附接到第一层或第二层并且彼此平行延伸。图4B示出了示例性防散射准直器的分解截面图，其中隔板不附接到第一层或第二层并且彼此不平行延伸。图5示出了示例性防散射准直器的截面图，其中隔板附接到第一层或第二层。图6示出了示例性防散射准直器，其中端部支撑件附接到第一层和第二层。图7示出了包括保持构件的示例性防散射准直器。图8示出了包括保持构件的示例性防散射准直器。图9示出了包括保持构件的示例性防散射准直器。图10示出了用于防散射准直器的示例性第一层。图11示出了用于防散射准直器的示例性第一层。图12示出了用于防散射准直器的示例性第一层。图13示出了用于防散射准直器的示例性第一层。图14示出了用于防散射准直器的示例性第一层。具体实施方式现在参考附图描述要求保护的主题，其中类似的附图标号通常用于在整个附图中表示类似的元件。在以下描述中，出于解释的目的，阐述了多个具体细节以便提供对要求保护的主题的透彻理解。然而，显而易见的是，要求保护的主题可在没有这些具体细节的情况下实践。在其他情况下，结构和装置以框图形式示出，以便有助于描述要求保护的主题。本公开涉及可定位在辐射源和检测器阵列之间的防散射准直器。防散射准直器具有第一层、第二层和设置在第一层和第二层之间的多个隔板。第一层具有用于保持隔板相对于第一层的位置的第一保持构件，同时第二层具有用于保持隔板相对于第二层的位置的第二保持构件。这样，多个隔板的每个隔板夹置在第一层和第二层之间(例如，沿辐射源和检测器阵列之间的行进方向)，以牢固地固定每个隔板的位置。多个隔板可被间隔开以限定传输通道，初级辐射可基本上不受阻碍地行进通过这些传输通道。通过定位在辐射源和检测器阵列之间，从辐射源发射的辐射在被检测器阵列接收之前穿过防散射准直器。由于防散射准直器相对于辐射源和检测器阵列的取向，隔板可吸收或衰减散射(或次级)辐射，而初级辐射可穿过传输通道到达检测器阵列。图1为包括示例性辐射成像模式的示例性环境100的图示，该示例性辐射成像模式可被配置为生成表示被检查对象102或其方面的数据(例如，图像)。应当理解，除了图1所示的示例性计算机断层扫描(CT)扫描仪之外，本文所述的特征还可适用于其他成像模式。此外，示例性环境100中所包括的部件的布置和/或部件的类型仅为了进行示意性的说明。例如，旋转结构104(例如，旋转门)可包括用于支撑辐射源118和/或检测器阵列106的操作的附加部件，诸如冷却单元、功率单元等。又如，数据采集部件122可被包括在检测器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防散射准直器，包括：第一层，所述第一层在其第一表面处限定第一保持构件，其中所述第一层具有第一衰减系数；第二层，所述第二层在其面向所述第一层的所述第一表面的第一表面处限定第二保持构件，其中所述第二层具有第二衰减系数；和隔板，所述隔板设置在所述第一层和所述第二层之间，并且物理接触所述第一保持构件和所述第二保持构件，其中：所述第一保持构件和所述第二保持构件保持所述隔板相对于所述第一层和所述第二层的位置，并且所述隔板具有大于所述第一衰减系数和所述第二衰减系数的第三衰减系数；和端部支撑件，所述端部支撑件附接到所述第一层并且附接到所述第二层，其中所述端部支撑件与所述隔板的端部接界。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种防散射准直器，包括：第一层，所述第一层在其第一表面处限定第一保持构件，其中所述第一层具有第一衰减系数；第二层，所述第二层在其面向所述第一层的所述第一表面的第一表面处限定第二保持构件，其中所述第二层具有第二衰减系数；和隔板，所述隔板设置在所述第一层和所述第二层之间，并且物理接触所述第一保持构件和所述第二保持构件，其中：所述第一保持构件和所述第二保持构件保持所述隔板相对于所述第一层和所述第二层的位置，并且所述隔板具有大于所述第一衰减系数和所述第二衰减系数的第三衰减系数；和端部支撑件，所述端部支撑件附接到所述第一层并且附接到所述第二层，其中所述端部支撑件与所述隔板的端部接界。2.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中：沟槽被限定在所述第一层中并且从所述第一层的所述第一表面朝与所述第一层的所述第一表面相对的所述第一层的第二表面延伸，所述第一保持构件包括限定所述沟槽的所述第一层的一对侧壁，并且所述隔板设置在所述沟槽内以保持所述隔板相对于所述第一层的所述位置。3.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中：所述第一保持构件包括突起构件，所述突起构件从所述第一层的所述第一表面朝所述第二层的所述第一表面延伸，沟槽至少部分地由所述突起构件限定，并且所述隔板设置在所述沟槽内以保持所述隔板相对于所述第一层的所述位置。4.根据权利要求3所述的防散射准直器，其中所述突起构件包括第一突起构件、第二突起构件和第三突起构件，所述沟槽由所述第一突起构件的第一侧壁、所述第二突起构件的第二侧壁和所述第三突起构件的底部表面限定。5.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中：所述第一保持构件包括第一突起构件和第二突起构件，所述第一突起构件从所述第一层的所述第一表面朝所述第二层的所述第一表面延伸，所述第二突起构件从所述第一层的所述第一表面朝所述第二层的所述第一表面延伸，沟槽限定在所述第一突起构件和所述第二突起构件之间，并且所述隔板设置在所述沟槽内以保持所述隔板相对于所述第一层的所述位置。6.根据权利要求5所述的防散射准直器，其中所述沟槽由所述第一突起构件的第一侧壁、所述第二突起构件的第二侧壁和所述第一层的所述第一表面限定。7.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中所述端部支撑件包括：第一支撑部分，所述第一支撑部分被配置为附接到所述第一层；第二支撑部分，所述第二支撑部分被配置为附接到所述第二层；和第三支撑部分，所述第三支撑部分在所述第一支撑部分和所述第二支撑部分之间延伸。8.根据权利要求7所述的防散射准直器，其中：所述第一支撑部分基本上平行于所述第一层的所述第一表面延伸，所述第一支撑部分限定第一支撑件开口，并且所述第一层限定与所述第一支撑件开口对准的第一层开口。9.根据权利要求7所述的防散射准直器，其中所述第三支撑部分限定窗口，所述隔板通过所述窗口可见。10.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中所述第一衰减系数等于所述第二衰减系数。11.根据权利要求1所述的防散射准直器，其中：所述隔板和多个其他隔板一起限定隔板组，并且所述第一层的所述第一表面或所述第二层的所述第一表面中的一者处在所述隔板组的每个隔板之间的节距可以是基本上恒定的，并且所述第一层...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷恩·霍依特·马斯登，弗拉丹·里斯丹维克，
申请(专利权)人：模拟技术公司，
类型：发明
国别省市：美国,US