一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，包括底座，所述底座上固定设有搅拌箱，所述搅拌箱下设有空腔一，所述搅拌箱的侧壁内开设有空腔二，所述空腔二内填充有导热介质，所述导热介质内设有若干加热棒，所述搅拌箱设有封盖，所述搅拌箱内设有凹槽，所述凹槽内设有转盘，所述转盘上固定设有立柱，所述立柱周围与所述转盘之间固定设有搅拌挡板，所述搅拌挡板远离所述立柱的一侧中部固定设有搅拌杆。有益效果：相较于普通的浸泡清洗，针对性的清洁，增加了清洗的洁净度和清洗效率。增加了去除有机污染物的力度。通过在空腔一内设有超声波发生器，使得搅拌箱内的硅片在经受搅拌清洗外，增加超声波清洗，双重清洗，进一步的增加清洗的力度。

A Drum-type Stirring Cleaning Device for Silicon Wafers

【技术实现步骤摘要】
一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置
本技术涉及滚筒式搅拌式清洗硅片装置领域，具体来说，涉及一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置。
技术介绍
光伏是太阳能光伏发电系统的简称，是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应，将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统，其中所使用的半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。目前市场上的光伏硅片清洗设备在进行清洗的时候，大都只进行简单的浸泡清洗，清洗的不彻底，并且效率底下，导致硅片上任然会存在污染物。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，包括底座，所述底座上固定设有搅拌箱，所述搅拌箱下设有空腔一，所述搅拌箱的侧壁内开设有空腔二，所述空腔二内填充有导热介质，所述导热介质内设有若干加热棒，所述搅拌箱设有封盖，所述搅拌箱内设有凹槽，所述凹槽内设有转盘，所述转盘上固定设有立柱，所述立柱周围与所述转盘之间固定设有搅拌挡板，所述搅拌挡板远离所述立柱的一侧中部固定设有搅拌杆，所述搅拌杆贯穿所述搅拌箱且，延伸至所述空腔一内，所述搅拌杆位于所述空腔一内的一端固定设有第一皮带轮，所述底座的一侧固定设有正反电机，所述正反电机的输出端设有第二皮带轮，所述第一皮带轮与所述第二皮带轮之间通过皮带相连接，所述皮带贯穿所述空腔一，所述空腔一内固定设有若干超声波发生器，所述超声波发生器的输出端设有超声波震板，所述超声波震板位于所述搅拌箱的底部，搅拌箱底部开设有第一通孔和第二通孔，所述第一通孔与第一水管相连接，所述第一水管上设有第一阀门，所述第二通孔与第二水管相连接，所述第二水管上设有第二阀门，所述第二水管远离所述第二通孔的一端与水泵相连接，所述水泵的另一端设有第三水管，所述第三水管分别与数量为两个的第四水管相连通，所述第四水管上设有第三阀门，所述第四水管分别与临时储液箱相连接。进一步的，所述空腔二为密封空腔二，且，所述导热介质为高温导热油或者导热砂构成。进一步的，所述搅拌箱上设有活动轴，所述封盖通过所述活动轴与所述搅拌箱活动连接。进一步的，所述封盖上设有通气孔。进一步的，所述通气孔外设有尾气处理装置，所述尾气处理装置包括通气管，所述通气管的一端与所述通气孔相连通，所述通气管远离所述通气孔的一端与水箱相连接，所述通气管位于所述水箱内部底端。进一步的，所述搅拌箱的内壁设有弧形挡条。进一步的，所述第三水管通过三通管与数量为四个的第四水管相连接。进一步的，所述第一水管远离所述第一通孔的一端与废液收集箱相连接。进一步的，所述第一通孔和所述第二通孔上均设有过滤网。进一步的，所述搅拌杆与所述搅拌箱接触处设有密封圈。综上所述，本技术的有益效果为：(1)、通过设置搅拌箱使得，当需要进行清洗硅片的时候，将硅片放置到搅拌箱内，然后向搅拌箱内注入H2O2和NH4OH化学试剂以及水浸泡一小时，后启动正反电机，进行第一次清洗，使得H2O2和NH4OH化学试剂与硅片同时旋转，令硅片上溶解掉的化学试剂能够通过搅拌清洗掉，然后将H2O2和NH4OH化学试剂抽出，清洗后，注入HCL、H2O2和水进行第二次清洗，来清除掉Al、Fe、Na等金属离子，相较于普通的浸泡清洗，针对性的清洁，增加了清洗的洁净度和清洗效率。(2)、通过在搅拌箱的周围增加加热棒和导热介质，使得整个H2O2和NH4OH化学试剂与水能够得到加热，增加了去除有机污染物的力度。(3)、通过在空腔一内设有超声波发生器，使得搅拌箱内的硅片在经受搅拌清洗外，增加超声波清洗，双重清洗，进一步的增加清洗的力度。(4)、通过设置数量为两个的临时储液箱，待上述第一次清洗的化学试剂，能够转移到其中一个临时储液箱中，然后注入第二次清洗所需的化学试剂，带清洗完毕后，将第二次清洗所需的化学试剂转移到另外一个临时储液箱中，将清洗完毕的硅片转移后，注入待洗的硅片后，将临时储液箱内的第一次清洗的化学试剂转移到搅拌箱中进行第一次清洗，如此反复，能够节约化学药剂的使用，节约能源，减少资源的浪费。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据本技术实施例的一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置的结构示意图；图2是图1中A处的放大图；图3是根据本技术实施例的一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置中搅拌箱的结构示意图。附图标记：1、底座；2、搅拌箱；3、空腔一；4、空腔二；5、导热介质；6、加热棒；7、封盖；8、凹槽；9、转盘；10、立柱；11、搅拌挡板；12、搅拌杆；13、第一皮带轮；14、正反电机；15、第二皮带轮；16、皮带；17、超声波发生器；18、超声波震板；19、第一通孔；20、第二通孔；21、第一水管；22、第一阀门；23、第二水管；24、第二阀门；25、水泵；26、第三水管；27、第四水管；28、第三阀门；29、临时储液箱；30、活动轴；31、通气孔；32、通气管；33、水箱；34、弧形挡条；35、三通管；36、废液收集箱；37、过滤网。具体实施方式下面，结合附图以及具体实施方式，对技术做出进一步的描述：请参阅图1-2，根据本技术实施例的一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，包括底座1，所述底座1上固定设有搅拌箱2，所述搅拌箱2下设有空腔一3，所述搅拌箱2的侧壁内开设有空腔二4，所述空腔二4内填充有导热介质5，所述导热介质5内设有若干加热棒6，所述搅拌箱2设有封盖7，所述搅拌箱2内设有凹槽8，所述凹槽8内设有转盘9，所述转盘9上固定设有立柱10，所述立柱10周围与所述转盘9之间固定设有搅拌挡板11，所述搅拌挡板11远离所述立柱10的一侧中部固定设有搅拌杆12，所述搅拌杆12贯穿所述搅拌箱2且，延伸至所述空腔一3内，所述搅拌杆12位于所述空腔一3内的一端固定设有第一皮带轮13，所述底座1的一侧固定设有正反电机14，所述正反电机14的输出端设有第二皮带轮15，所述第一皮带轮13与所述第二皮带轮15之间通过皮带16相连接，所述皮带16贯穿所述空腔一3，所述空腔一3内固定设有若干超声波发生器17，所述超声波发生器17的输出端设有超声波震板18，所述超声波震板18位于所述搅拌箱2的底部，搅拌箱2底部开设有第一通孔19和第二通孔20，所述第一通孔19与第一水管21相连接，所述第一水管21上设有第一阀门22，所述第二通孔20与第二水管23相连接，所述第二水管23上设有第二阀门24，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，其特征在于，包括底座(1)，所述底座(1)上固定设有搅拌箱(2)，所述搅拌箱(2)下设有空腔一(3)，所述搅拌箱(2)的侧壁内开设有空腔二(4)，所述空腔二(4)内填充有导热介质(5)，所述导热介质(5)内设有若干加热棒(6)，所述搅拌箱(2)设有封盖(7)，所述搅拌箱(2)内设有凹槽(8)，所述凹槽(8)内设有转盘(9)，所述转盘(9)上固定设有立柱(10)，所述立柱(10)周围与所述转盘(9)之间固定设有搅拌挡板(11)，所述搅拌挡板(11)远离所述立柱(10)的一侧中部固定设有搅拌杆(12)，所述搅拌杆(12)贯穿所述搅拌箱(2)且，延伸至所述空腔一(3)内，所述搅拌杆(12)位于所述空腔一(3)内的一端固定设有第一皮带轮(13)，所述底座(1)的一侧固定设有正反电机(14)，所述正反电机(14)的输出端设有第二皮带轮(15)，所述第一皮带轮(13)与所述第二皮带轮(15)之间通过皮带(16)相连接，所述皮带(16)贯穿所述空腔一(3)，所述空腔一(3)内固定设有若干超声波发生器(17)，所述超声波发生器(17)的输出端设有超声波震板(18)，所述超声波震板(18)位于所述搅拌箱(2)的底部，搅拌箱(2)底部开设有第一通孔(19)和第二通孔(20)，所述第一通孔(19)与第一水管(21)相连接，所述第一水管(21)上设有第一阀门(22)，所述第二通孔(20)与第二水管(23)相连接，所述第二水管(23)上设有第二阀门(24)，所述第二水管(23)远离所述第二通孔(20)的一端与水泵(25)相连接，所述水泵(25)的另一端设有第三水管(26)，所述第三水管(26)分别与数量为两个的第四水管(27)相连通，所述第四水管(27)上设有第三阀门(28)，所述第四水管(27)分别与临时储液箱(29)相连接。...

【技术特征摘要】
1.一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，其特征在于，包括底座(1)，所述底座(1)上固定设有搅拌箱(2)，所述搅拌箱(2)下设有空腔一(3)，所述搅拌箱(2)的侧壁内开设有空腔二(4)，所述空腔二(4)内填充有导热介质(5)，所述导热介质(5)内设有若干加热棒(6)，所述搅拌箱(2)设有封盖(7)，所述搅拌箱(2)内设有凹槽(8)，所述凹槽(8)内设有转盘(9)，所述转盘(9)上固定设有立柱(10)，所述立柱(10)周围与所述转盘(9)之间固定设有搅拌挡板(11)，所述搅拌挡板(11)远离所述立柱(10)的一侧中部固定设有搅拌杆(12)，所述搅拌杆(12)贯穿所述搅拌箱(2)且，延伸至所述空腔一(3)内，所述搅拌杆(12)位于所述空腔一(3)内的一端固定设有第一皮带轮(13)，所述底座(1)的一侧固定设有正反电机(14)，所述正反电机(14)的输出端设有第二皮带轮(15)，所述第一皮带轮(13)与所述第二皮带轮(15)之间通过皮带(16)相连接，所述皮带(16)贯穿所述空腔一(3)，所述空腔一(3)内固定设有若干超声波发生器(17)，所述超声波发生器(17)的输出端设有超声波震板(18)，所述超声波震板(18)位于所述搅拌箱(2)的底部，搅拌箱(2)底部开设有第一通孔(19)和第二通孔(20)，所述第一通孔(19)与第一水管(21)相连接，所述第一水管(21)上设有第一阀门(22)，所述第二通孔(20)与第二水管(23)相连接，所述第二水管(23)上设有第二阀门(24)，所述第二水管(23)远离所述第二通孔(20)的一端与水泵(25)相连接，所述水泵(25)的另一端设有第三水管(26)，所述第三水管(26)分别与数量为两个的第四水管(27)相连通...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪伟华，
申请(专利权)人：浙江羿阳太阳能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33