【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括树脂膜和图案化的聚合物层的阵列相关申请的交叉引用本申请要求2016年12月22日提交的美国临时申请序号62/438,024的权益,该美国临时申请的内容通过引用以其整体并入本文。背景生物阵列是用于检测和分析包括脱氧核糖核酸(DNA)和核糖核酸(RNA)的分子的多种工具之一。在这些应用中,阵列被设计成包括用于在人类和其他生物体的基因中存在的核苷酸序列的探针。例如,在某些应用中,单独的DNA和RNA探针可以被附接在阵列支撑物(arraysupport)上的几何网格(geometricgrid)中(或随机)的小位置。例如来自已知的人或生物体的测试样品可以暴露于网格,使得互补片段在阵列中的单独的位点与探针杂交(hybridize)。然后可以通过扫描位点上特定频率的光来检查阵列,以通过片段杂交的位点的荧光来识别在样品中存在哪些片段。生物阵列可以用于基因测序。通常,基因测序涉及确定一段基因材料例如一段DNA或RNA的片段中核苷酸或核酸的顺序。越来越长的碱基对序列正在被分析,并且所得到的序列信息可以用于各种生物信息学方法中,以将片段逻辑地装配(logicallyfit)在一起,以便可靠地确定片段所衍生自的广泛长度的基因材料的序列。已经开发了自动化的基于计算机的特征片段的检查,并且已经被用于基因组作图、基因及其功能的识别、某些状况和疾病状态的风险评估等。除了这些应用之外,生物阵列还可以用于检测和评估宽范围的分子、分子家族、基因表达水平、单核苷酸多态性和基因分型。概述在一些方面中的是组合物,所述组合物包括支撑物(support)和在支撑物的表面上的交联的环氧基POSS树脂膜 ...
【技术保护点】
1.一种方法,包括:在支撑物表面上的交联的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜上形成图案化的疏水性聚合物层,从而暴露所述交联的环氧基POSS树脂膜的离散区域;施加聚合物涂层以在所暴露的离散区域上形成附接的涂层部分并且在所述图案化的疏水层上形成未附接的涂层部分;以及将所述未附接的涂层部分从所述图案化的疏水层上洗掉。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.22 US 62/438,0241.一种方法,包括:在支撑物表面上的交联的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜上形成图案化的疏水性聚合物层,从而暴露所述交联的环氧基POSS树脂膜的离散区域;施加聚合物涂层以在所暴露的离散区域上形成附接的涂层部分并且在所述图案化的疏水层上形成未附接的涂层部分;以及将所述未附接的涂层部分从所述图案化的疏水层上洗掉。2.如权利要求1所述的方法,还包括在所述支撑物表面上形成所述交联的环氧基POSS树脂膜,所述形成包括:在光酸产生剂和任选地敏化剂的存在下,混合环氧基硅烷和至少一种环氧基POSS单体单元,以形成树脂前体;将所述树脂前体沉积在所述支撑物表面上;以及固化所述树脂前体以形成所述交联的环氧基POSS树脂膜。3.如权利要求2所述的方法,其中所述混合和沉积同时发生。4.如权利要求2或权利要求3所述的方法,其中所述环氧基硅烷是结合至所述支撑物表面的环氧基硅烷。5.如权利要求1所述的方法,还包括在所述支撑物表面上形成所述交联的环氧基POSS树脂膜,所述形成包括:在光酸产生剂和任选地敏化剂的存在下,混合环氧基硅烷、环氧基环己基烷基POSS和缩水甘油基POSS,以形成树脂前体;将所述树脂前体沉积在所述支撑物表面上;以及固化所述树脂前体以形成所述交联的环氧基POSS树脂膜。6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中在形成所述图案化的疏水性聚合物层之前,所述方法还包括:将所述交联的环氧基POSS树脂膜暴露于等离子灰化或化学处理,以将-OH基团引入到所述交联的环氧基POSS树脂膜;以及将官能团附接至所述-OH基团中的至少一些,所述官能团选自由以下组成的组:其中n在从1至20的范围内,并且其中---表示烷基硅烷链、聚(乙二醇)-硅烷链、烷基链或聚乙二醇链。7.如权利要求1所述的方法,还包括在所述支撑物表面上形成所述交联的环氧基POSS树脂膜,所述形成包括:在光酸产生剂和任选地敏化剂的存在下,混合环氧基硅烷、环氧基环己基烷基POSS、缩水甘油基POSS和包含至少一个环氧基官能团和非环氧基官能团的POSS核,以形成树脂前体;将所述树脂前体沉积在所述支撑物表面上;以及固化所述树脂前体以形成所述交联的环氧基POSS树脂膜。8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中洗涤包括在水中的声处理。9.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中形成所述图案化的疏水性聚合物层包括:i)在所述交联的环氧基POSS树脂膜上沉积疏水性聚合物;以及使用纳米压印平版印刷术和光刻术中的至少一种来图案化所沉积的疏水性聚合物;或ii)使用喷墨印刷和微接触印刷中的至少一种,将所述疏水性聚合物以图案沉积在所述交联的环氧基POSS树脂膜上。10.如前述权利要求中任一项所述的方法,还包括将扩增引物接枝到所述附接的涂层部分。11.一种阵列,包括:支撑物;在所述支撑物的表面上的交联的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜;在所述交联的环氧基POSS树脂膜上的图案化的疏水性聚合物层,所述图案化的疏水性聚合物层界定所述交联的环氧基POSS树脂膜的暴露的离散区域;以及附接至所述暴露的离散区域的聚合物涂层。12.如权利要求11所述的阵列,其中:所述图案化的疏水层选自由含氟聚合物、负性光致抗蚀剂和聚硅氧烷组成的组;并且所述聚合物涂层包含式(I)的重复单元:其中:R1是H或任选地被取代的烷基;RA选自由叠氮基、任选地被取代的氨基、任选地被取代的烯基、任选地被取代的腙、任选地被取代的肼、羧基、羟基、任选地被取代的四唑、任选地被取代的四嗪、腈氧化物、硝酮和硫醇组成的组;R5选自由H和任选地被取代的烷基组成的组;-(CH2)p-中的每个可以是任选地被取代的;p是在1至50的范围内的整数;n是在1至50,000的范围内的整数;并且m是在1至100,000的范围内的整数。13.如权利要求11或权利要求12所述的阵列,还包括被接枝到所述聚合物涂层的扩增引物。14.一种方法,包括:在支撑物表面上的改性的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜上形成图案化的疏水性聚合物层,从而暴露所述改性的环氧基POSS树脂膜的离散区域,其中所述改性的环氧基POSS树脂膜包含聚合物生长引发位点;以及从所述暴露的离散区域中的所述聚合物生长引发位点生长聚合物刷。15.如权利要求14所述的方法,还包括在所述支撑物表面上形成所述交联的环氧基POSS树脂膜,所述形成包括:在光酸产生剂和任选地敏化剂的存在下,混合环氧基硅烷、至少一种环氧基POSS单体单元和环氧基官能化的聚合剂或受控自由基聚合(CRP)剂,以形成树脂前体;将所述树脂前体沉积在所述支撑物表面上;以及固化所述树脂前体以形成所述改性的环氧基POSS树脂膜。16.如权利要求15所述的方法,其中所述混合和所述沉积同时发生。17.如权利要求15或权利要求16所述的方法,其中所述环氧基硅烷是结合至所述支撑物表面的环氧基硅烷。18.如权利要求14所述的方法,还包括形成所述改性的环氧基POSS树脂膜,所述形成包括:在光...
【专利技术属性】
技术研发人员:韦恩·N·乔治,亚历山大·里切斯,M·谢恩·鲍恩,安德鲁·A·布朗,袁大军,奥德丽·罗斯·扎克,S·M·拉米雷兹,雷蒙德·坎波斯,
申请(专利权)人:伊鲁米那股份有限公司,伊鲁米纳剑桥有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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