有机发光二极管的基板烘烤装置及烘烤设备制造方法及图纸

技术编号:22056255 阅读:53 留言:0更新日期:2019-09-07 15:36
一种有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备,其中有机发光二极管的基板烘烤装置包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方且用于支撑目标基板,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降,所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时,所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。采用所述基板烘烤装置,可以避免目标基板四周边缘翘起的问题,有利于提高墨水材料在目标基板的成膜均匀性,有利于有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性,最终能够确保有机发光二极管效率。

The Base Baking Device and Baking Equipment of Organic Light Emitting Diode

【技术实现步骤摘要】
有机发光二极管的基板烘烤装置及烘烤设备
本申请涉及有机发光领域,特别是涉及有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备。
技术介绍
传统有机发光二极管采用喷墨打印工艺,玻璃基板经过清洗、烘干及其它前处理工序后,将功能层墨水打印在玻璃基板上,之后进行减压干燥工艺,之后再进行烘烤工艺,目的是进行一步去除墨水中溶剂,对功能材料固态形貌进行修饰,然后再进行蒸镀及封装等工艺。因此,在有机发光二极管效率的影响因素中,各功能层材料的成膜均匀性是很重要的影响点。按照有机发光二极管制作工艺中对墨水材料成膜的均匀性的影响,主要体现为三个工艺步骤:一是喷墨打印工艺,其墨滴体积,滴落角度控制的精确性对像素坑内墨水材料的成膜的均匀性有重要影响;二是减压干燥工艺,在墨水中的溶剂成分挥发速率以及腔体内的气压控制等对墨水材料成膜的均匀性也有重要影响。三是烘烤工艺,针对玻璃基板加热的均匀性对墨水材料的均匀成膜有重要影响。传统的工艺程序中,在进行烘烤工艺时,一般是使用升降Pin承接玻璃基板,然后将玻璃基板放置在热板上对玻璃基板进行加热。因为在玻璃基板升降过程中,四周的热量容易散失,玻璃基板与热板在刚接触时,中间与四周温度的差异导致玻璃基板四周容易发生翘曲。导致在烘烤工艺中,玻璃基板中心区域与玻璃基板四周区域的加热温度均匀性不好,影响成膜均匀性。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种有机发光二极管的基板烘烤装置及有机发光二极管烘烤设备。一种有机发光二极管的基板烘烤装置,包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方,所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降,所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时,所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。上述基板烘烤装置,可以避免目标基板四周边缘翘起的问题,有利于提高墨水材料在目标基板的成膜均匀性,有利于有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性,最终能够确保有机发光二极管效率。在其中一些实施例中,所述包围机构为设置在所述盖板四周的板体。在其中一些实施例中,所述盖板为矩形,所述包围机构为设置在所述盖板周边的至少一对板体。在其中一些实施例中,所述包围机构固定安装在所述盖板上。在其中一些实施例中,所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构,所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道,所述包围机构与所述第二驱动机构连接,所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降。在其中一些实施例中,所述热板设有与所述包围机构相匹配的凹槽,且在所述包围机构被配置为抵接所述热板的位置时,所述包围机构抵接所述凹槽。一种有机发光二极管烘烤设备,所述烘烤设备包括基板烘烤装置,监测装置和控制装置;所述基板烘烤装置包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方用于支撑目标基板,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降;所述监测装置包括摄像装置和信息传输模块,所述摄像装置被配置为,当所述支撑机构下降时,用于监测所述包围机构和目标基板的相对位置,并将所述包围机构和目标基板的相对位置信息通过所述信息传输模块传输给所述控制装置;所述控制装置被配置为,当所述支撑机构下降时,用于控制所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。上述有机发光二极管烘烤设备,在烘烤工艺中规避了目标基板四周边缘翘起的问题,最终有利于提高目标基板上整面区域的膜厚均匀性;应用在有机发光二极管制作中烘烤工艺中,可以有效避免烘烤工艺中玻璃基板四周边缘翘起的问题,从而保证了有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性,进而确保了经过烘烤工艺后,墨水材料在玻璃基板整面性上的膜厚均匀性,最终能够确保有机发光二极管效率。在其中一些实施例中,所述包围机构固定安装在所述盖板上,所述控制装置被配置为,当所述支撑机构下降时,用于控制所述第一驱动机构使所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。在其中一些实施例中,所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构,所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道,所述包围机构与所述第二驱动机构连接,所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降,所述控制装置与所述第二驱动机构连接,所述控制装置被配置为,当所述支撑机构下降时,用于控制所述第二驱动机构使所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。附图说明图1为本申请基板烘烤装置一实施例的结构示意图。图2为本申请基板烘烤装置另一实施例的应用示意图。图3为本申请基板烘烤装置另一实施例的结构示意图。图4为本申请基板烘烤装置另一实施例于俯视方向的结构示意图。图5为本申请基板烘烤装置另一实施例的部分结构示意图。图6为本申请基板烘烤装置另一实施例的部分结构示意图。图7为本申请有机发光二极管烘烤设备一实施例的结构示意图。具体实施方式为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进,因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。在其中一些实施例中,一种有机发光二极管的基板烘烤装置,其包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方,所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降,所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时,所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。采用所述结构的烘烤装置,可以避免目标基板四周边缘翘起的问题,有利于提高墨水材料在目标基板的成膜均匀性,有利于有机发光二极管制作中的烘烤工艺稳定性,最终能够确保有机发光二极管效率。在本申请一个实施例中,一种有机发光二极管的基板烘烤装置,其包括以下实施例的部分结构或全部结构;即,所述基板烘烤装置包括以下的部分技术特征或全部技术特征。在其中一些实施例中,所述盖板的形状没有限制,可以为圆形、椭圆形或矩形,所述本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种有机发光二极管的基板烘烤装置,包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方,所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,其特征在于,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降,所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时,所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。

【技术特征摘要】
1.一种有机发光二极管的基板烘烤装置,包括热板、支撑机构及升降机构,所述支撑机构设置在所述热板的上方,所述支撑机构具有用于支撑目标基板的支撑面,所述升降机构连接所述支撑机构且用于控制所述支撑机构相对所述热板升降,其特征在于,所述基板烘烤装置还包括盖板、第一驱动机构和包围机构,所述盖板位于所述支撑机构上方,所述第一驱动机构用于驱动所述盖板相对所述热板升降,所述包围机构被配置为当所述支撑机构下降时,所述包围机构的底边与所述支撑机构的支撑面齐平。2.根据权利要求1所述基板烘烤装置,其特征在于,所述包围机构被配置为当所述包围机构抵接所述热板的位置时,所述热板、所述包围机构及所述盖板共同形成容纳所述目标基板的腔室。3.根据权利要求1所述基板烘烤装置,其特征在于,所述包围机构为设置在所述盖板四周的板体。4.根据权利要求3所述基板烘烤装置,其特征在于,所述盖板为矩形,所述包围机构为设置在所述盖板周边的板体。5.根据权利要求1所述基板烘烤装置,其特征在于,所述包围机构固定安装在所述盖板上。6.根据权利要求1所述基板烘烤装置,其特征在于,所述基板烘烤装置还包括第二驱动机构,所述盖板设置有供所述包围机构通过的通道,所述包围机构与所述第二驱动机构连接,所述第二驱动机构用于驱动所述包围机构相对所述热板升降。7.根据权利要求1所述基板烘烤装置,其特征在于,所述热板设有与所述包围机构相匹配的凹槽,且在所述包围机构被配置为抵接所述热板的位置时,所述包围机构抵接所述凹槽。8.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员:柳开郎
申请(专利权)人:广东聚华印刷显示技术有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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