一种根据规则添加SRAF的方法技术

本发明专利技术提供一种根据规则添加SRAF的方法，涉及半导体技术领域，可提高光刻分辨率。该方法包括：获取目标图形，并确定投影区域；根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理；根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分；根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽，在生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形。

A Method of Adding SRAF Based on Rules

【技术实现步骤摘要】
一种根据规则添加SRAF的方法
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种根据规则添加SRAF的方法。
技术介绍
随着版图图形尺寸的逐步缩小，在集成电路制造过程中，对光刻分辨率的要求也越来越高。为了获得更高的光刻分辨率，需要对版图目标图形进行修正，同时在目标图形周围添加亚分辨率辅助图形（SubResolutionAssistFeature，简称SRAF），以在曝光的过程中，使得与目标图形中排布较稀疏的部分对应的光刻胶接收到的光照强度，基本等于与目标图形中排布较密集的部分对应的光刻胶接收到的光照强度。现有技术通常利用基于模型的方法或基于SRAF规则的方法，添加亚分辨率辅助图形。然而，对于一个芯片的设计来说，目标图形的数据过于庞大，利用基于模型的方法添加亚分辨率辅助图形过于耗时。因此，目前主要依赖基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形。对于现有的利用基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形，是根据部分基于模型的方法，得到少量的用于测试的亚分辨率辅助图形，以及工程师的经验，从而提供一个添加亚分辨率辅助图形的规则菜单。再根据该规则菜单为整个目标图形添加亚分辨率辅助图形。然而，这样添加的亚分辨率辅助图形会存在图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题。这些问题仍然会影响光刻分辨率。
技术实现思路
本专利技术提供一种根据规则添加SRAF的方法，可提高光刻分辨率。为达到上述目的，本专利技术采用如下技术方案：提供一种根据规则添加SRAF的方法，包括：获取目标图形，并确定投影区域；目标图形包括多个子目标图形；根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形。对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上。根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；生长区域位于子目标图形的两端、且和与其对应的子目标图形邻接。去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分。根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽，在生长区域内形成第二亚分辨率辅助图形；每个生长区域内设有一个第二亚分辨率辅助图形；每个第二亚分辨率辅助图形与子目标图形的一端对应，第二亚分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的子目标图形的一端的线宽方向平行；第二分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形正对设置。可选的，在形成第二亚分辨率辅助图形之后，添加SRAF的方法还包括：对第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分进行冲突清理，以去除第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分，或者，以将第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分放大；其中，放大后的第一亚分辨率辅助图形与第二亚分辨率辅助图形和其他第一亚分辨率辅助图形之间的距离大于或等于第三预设距离。可选的，若多个第一亚分辨率辅助图形的线宽相同，则对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线，包括：移动至少一个第一亚分辨率辅助图形的位置，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的与子目标图形11的延伸方向垂直的方向多个第一亚分辨率辅助图形排布至同一竖直线上。可选的，沿子目标图形的延伸方向，生长区域的长度为第二预设距离、第二亚分辨率辅助图形的线宽、第三预设距离之和；和/或，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向子目标图形的线宽方向，生长区域的宽度为与该生长区域对应的第二亚分辨率辅助图形的长度与2倍的第三预设距离之和。可选的，第二亚分辨率辅助图形的长度为与其对应的子目标图形的线宽的0.8~2倍。可选的，子目标图形的线宽为32nm、38nm、45nm中的一种；和/或，第一亚分辨率辅助图形的线宽和第二亚分辨率辅助图形的线宽为15~30nm。可选的，第二预设距离为40~120nm；和/或，第三预设距离为15~30nm。本专利技术实施例提供一种根据规则添加SRAF的方法，先形成第一亚分辨率辅助图形，并对第一亚分辨率辅助图形进行冲突处理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；确定生长区域，并在生长区域内形成第二亚分辨率辅助图形，且第二亚分辨率辅助图形与子目标图形之间的距离为第二预设距离、与第一亚分辨率辅助图形之间的距离为第三预设距离。这样一来，任意的子目标图形、第一亚分辨率辅助图形、以及第二亚分辨率辅助图形之间的距离，均在预设范围内，进而可避免现有技术中的图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题，不但简化了掩模图案的制备过程，还可提高光刻分辨率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的流程示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图10为本专利技术实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图。附图标记：11-子目标图形；12-第一亚分辨率辅助图形；13-第二亚分辨率辅助图形；23-生长区域。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种根据规则添加SRAF的方法，如图1所示，可通过如下步骤实现：S11、如图2-3所示，获取目标图形，并确定投影区域；目标图形包括多个子目标图形11。如图5所示，根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形12。此处，部分子目标图形11包括孤立图形；投影区域包括第一区域（图3中的21a~21c）和第二区域（图4中的22a~22c）；沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，第一区域为相邻两个子目标图形11之间的区域；第二区域为沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，与孤立图形邻接的空白区域。此外，任意一个子目标图形11可以沿一个方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，包括：获取目标图形，并确定投影区域；所述目标图形包括多个子目标图形；根据所述投影区域选择SRAF规则，并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接；去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分；根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽，在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应，所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行；所述第二分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形正对设置。...

【技术特征摘要】
1.一种根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，包括：获取目标图形，并确定投影区域；所述目标图形包括多个子目标图形；根据所述投影区域选择SRAF规则，并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接；去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分；根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽，在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应，所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行；所述第二分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形正对设置。2.根据权利要求1所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，在形成所述第二亚分辨率辅助图形之后，所述添加SRAF的方法还包括：对所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分进行冲突清理，以去除所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分，或者，以将所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分放大；...

【专利技术属性】
技术研发人员：高澎铮，韦亚一，张利斌，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11