触控显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种触控显示基板及其制作方法、显示装置，属于触控技术领域。触控显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列和触控信号线；形成阳极和与触控信号线连接的触控电极导通图形；在触控电极导通图形远离衬底基板的一侧形成阻隔结构，阻隔结构靠近衬底基板一侧的第二端面在衬底基板上的正投影位于阻隔结构远离衬底基板一侧的第一端面在衬底基板上的正投影内；在形成有阻隔结构的衬底基板上进行发光层的蒸镀；去除阻隔结构，暴露出至少部分触控电极导通图形；形成图案化的阴极，阴极与触控电极导通图形连通。通过本发明专利技术的技术方案能够实现阴极与OLED显示基板底部的触控信号线的电连接，使得阴极能够复用为触控电极。

Touch Display Substrate and Its Fabrication Method and Display Device

【技术实现步骤摘要】
触控显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及触控
，特别是指一种触控显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
在显示基板集成触控功能时，可以将显示基板的电极复用为触控电极，这样可以实现盒内触控。但现有OLED(有机电致发光二极管)显示基板的公共层为整层蒸镀，由于公共层为一整层，公共层将会阻隔阴极与OLED显示基板功能层的底部金属导通，进而无法将阴极复用为触控电极。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种触控显示基板及其制作方法、显示装置，能够实现阴极与OLED显示基板底部的触控信号线的电连接，使得阴极能够复用为触控电极。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种触控显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列和触控信号线；形成阳极和与所述触控信号线连接的触控电极导通图形；在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构，所述阻隔结构靠近所述衬底基板一侧的第二端面在所述衬底基板上的正投影位于所述阻隔结构远离所述衬底基板一侧的第一端面在所述衬底基板上的正投影内；在形成有所述阻隔结构的衬底基板上进行发光层的蒸镀；去除所述阻隔结构，暴露出至少部分所述触控电极导通图形；形成图案化的阴极，所述阴极与所述触控电极导通图形连通。可选地，所述阻隔结构的高度大于所述发光层的厚度。可选地，所述阻隔结构在垂直于所述衬底基板的方向上的纵截面为倒梯形。可选地，所述倒梯形的底角小于75°。可选地，所述在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构包括：提供一载板；在所述载板上形成所述阻隔结构，所述阻隔结构与所述载板接触的第一端面的尺寸大于远离所述载板的第二端面的尺寸；将所述载板与所述衬底基板进行对位，使所述阻隔结构的第二端面与所述触控电极导通图形接触；分离所述载板与所述阻隔结构。可选地，采用激光剥离方式或者机械剥离方式分离所述载板与所述阻隔结构。可选地，所述阻隔结构采用金属制作，所述分离所述载板与所述阻隔结构之前，所述制作方法还包括：向所述触控电极导通图形施加第一极性的电信号；向所述阻隔结构施加第二极性的电信号，所述第一极性与所述第二极性相反，以增加所述阻隔结构与所述触控电极导通图形之间的吸引力。可选地，所述去除所述阻隔结构包括：采用激光剥离方式或者机械剥离方式将所述阻隔结构从所述衬底基板上去除。可选地，所述阻隔结构采用金属制作，所述去除所述阻隔结构之前，所述制作方法还包括：向所述触控电极导通图形施加第一极性的电信号；向所述阻隔结构施加第一极性的电信号，以增加所述阻隔结构与所述触控电极导通图形之间的排斥力。本专利技术实施例还提供了一种触控显示基板，采用如上所述的制作方法制作得到。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的触控显示基板。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，在蒸镀发光层之前，在触控电极导通图形远离衬底基板的一侧形成阻隔结构，这样，发光层不会形成在阻隔结构所在区域，在蒸镀完发光层之后，从衬底基板上去除阻隔结构，由于阻隔结构靠近衬底基板一侧的第二端面在衬底基板上的正投影位于阻隔结构远离衬底基板一侧的第一端面在衬底基板上的正投影内，因此，阻隔层的侧壁上不会形成发光层，阻隔结构不会与发光层产生黏连，去除阻隔结构也不会损坏到发光层，在去除阻隔结构之后，能够暴露出触控电极导通图形，这样之后形成的阴极能够与触控电极导通图形连接，进而与触控信号线电连接，从而可以将阴极复用为触控电极，实现盒内触控。附图说明图1和图2为现有触控基板中，触控电极的分布示意图；图3为现有OLED显示基板的截面示意图；图4-图9为本专利技术实施例制作触控显示基板的流程示意图。附图标记1触控电极2触控信号线3触控导通点001基板002载板100触控电极导通图形100’阳极200阻隔结构300发光层400阴极层400’阴极具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。图1为现有一种适用于小尺寸OLED的盒内触控实现方案，如图1所示，全部触控电极分别从屏幕中心向左右两侧引出，以触控显示基板一共包括4*6个触控电极为例，其中4代表行数，6代表列数；触控电极尺寸为P，触控电极水平方向间距为a；其中，P大小为4-6mm，a大小为4-10um；可以发现，触控电极在竖直方向上间距为Q，Q范围内包括多条触控电极引线，触控电极引线宽度最小为亚像素宽度；另外，多条触控电极引线处形成触控盲区，且其比例为Q/P；对于小尺寸OLED，触控盲区内触控电极引线数量较小，触控盲区比例较小；随着OLED尺寸增加，触控盲区比例增大，该种盒内触控实现方案不再适用。图2为大尺寸OLED盒内触控示意图，触控显示基板的显示区域按照触控分辨率划分为M*N个区域，其中1为触控电极，2为触控信号线，3为触控导通点，图2中每个触控电极1对应一根触控信号线2，采用该种导通方案，各触控电极间距较小，触控盲区较小，可实现较佳触控效果。图3为现有OLED显示基板的截面示意图，其中，001代表基板，基板001可以包括衬底基板以及形成在衬底基板上的薄膜晶体管阵列和信号走线，比如触控信号线等，100’是阳极，300为OLED显示基板的发光层，包括有机发光层和公共层，公共层包括空穴注入层(HoleInjectLayer，HIL)、空穴传输层(HoleTransportLayer，HTL)、电子传输层(ElectronTransportLayer，ETL)与电子注入层(ElectronInjectLayer，EIL)等，其中，有机发光层仅形成在像素区域，而公共层是整层蒸镀，当阴极400形成后，由于公共层的阻挡，阴极400无法与OLED显示基板功能层的底部金属导通，无法实现触控电极信号的加载。本专利技术的实施例针对上述问题，提供一种触控显示基板及其制作方法、显示装置，能够实现阴极与OLED显示基板底部的触控信号线的电连接，使得阴极能够复用为触控电极。本专利技术的实施例提供一种触控显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列和触控信号线；形成阳极和与所述触控信号线连接的触控电极导通图形；在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构，所述阻隔结构靠近所述衬底基板一侧的第二端面在所述衬底基板上的正投影位于所述阻隔结构远离所述衬底基板一侧的第一端面在所述衬底基板上的正投影内；在形成有所述阻隔结构的衬底基板上进行发光层的蒸镀；去除所述阻隔结构，暴露出至少部分所述触控电极导通图形；形成图案化的阴极，所述阴极与所述触控电极导通图形连通。本实施例中，在蒸镀发光层之前，在触控电极导通图形远离衬底基板的一侧形成阻隔结构，这样，发光层不会形成在阻隔结构所在区域，在蒸镀完发光层之后，从衬底基板上去除阻隔结构，由于阻隔结构靠近衬底基板一侧的第二端面在衬底基板上的正投影位于阻隔结构远离衬底基板一侧的第一端面在衬底基板上的正投影内，因此，阻隔层的侧壁上不会形成发光层，阻隔结构不会与发光层产生黏连，去除阻隔结构也不会损坏到发光层，在去除阻隔结构之后，能够暴露出触控电极导通图形，这样之后形成的阴极能够与触控电极导通图形连接，进而与触控信号线电连接，从而可以将阴极复用为触控电极，实现盒内触控。本实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列和触控信号线；形成阳极和与所述触控信号线连接的触控电极导通图形；在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构，所述阻隔结构靠近所述衬底基板一侧的第二端面在所述衬底基板上的正投影位于所述阻隔结构远离所述衬底基板一侧的第一端面在所述衬底基板上的正投影内；在形成有所述阻隔结构的衬底基板上进行发光层的蒸镀；去除所述阻隔结构，暴露出至少部分所述触控电极导通图形；形成图案化的阴极，所述阴极与所述触控电极导通图形连接。

【技术特征摘要】
1.一种触控显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成薄膜晶体管阵列和触控信号线；形成阳极和与所述触控信号线连接的触控电极导通图形；在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构，所述阻隔结构靠近所述衬底基板一侧的第二端面在所述衬底基板上的正投影位于所述阻隔结构远离所述衬底基板一侧的第一端面在所述衬底基板上的正投影内；在形成有所述阻隔结构的衬底基板上进行发光层的蒸镀；去除所述阻隔结构，暴露出至少部分所述触控电极导通图形；形成图案化的阴极，所述阴极与所述触控电极导通图形连接。2.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述阻隔结构的高度大于所述发光层的厚度。3.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述阻隔结构在垂直于所述衬底基板的方向上的纵截面为倒梯形。4.根据权利要求3所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述倒梯形的底角小于75°。5.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述触控电极导通图形远离所述衬底基板的一侧形成阻隔结构包括：提供一载板；在所述载板上形成所述阻隔结构，所述阻隔结构与所述载板接触的第一端面的尺寸大于远离所述载板的第二端面的尺寸；将所述载板与所述衬底基板进行对位，...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨明，杨盛际，张粲，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11