一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，所述方法包括如下步骤：步骤一、镀金属膜层；步骤二、镀低折射率膜层；步骤三、镀高折射率膜层；步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层。本发明专利技术提供膜层颜色可调的PVD镀膜方法，通过不同厚度、不同的金属膜层和不同的高低折射率膜层、及不同厚度的高低折射率膜层的镀覆，实现了镀膜膜层颜色可调，满足不同产品对不同颜色的需求，使得PVD镀膜可以应用到更多的颜色装饰的领域中；该方法无需使用乙炔等特气，操作简单，生产过程安全无污染，膜层颜色鲜艳，重复性好。

A Method of PVD Coating with Adjustable Coating Color

【技术实现步骤摘要】
一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法
本专利技术涉及PVD镀膜
，尤其涉及一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法。
技术介绍
PVD即物理气相沉积，采用在真空条件下通过蒸发、溅射等方式在产品表面沉积各种薄膜层，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，具有速度快附着力好的突出优点，同时PVD镀膜技术是一种环保的镀膜工艺，因此在装饰性、功能性等镀膜领域应用越来越广泛。在装饰性镀膜行业中，膜层颜色是一个非常关键的技术指标，PVD装饰镀膜属于一种光学膜，产生颜色的主要原因就是光的干涉。PVD镀膜需要先选择靶材种类、材质和气体(氮气、氧气、乙炔、甲烷、氩气等)，确定靶材及气体种类，然后调整气体比例、用量、溅射功率、溅射时间、基材处理温度、溅射温度、溅射时间等工艺参数，制备出颜色膜层。PVD镀膜的颜色膜层与靶材反应的气体直接相关，如N2、C2H2、CH4、O2，参与靶材反应的气体为单一气体时，所镀的膜层为单色调膜层；当参与靶材反应的气体为两种或两种以上时，所镀的膜层为复合色调膜层。现有PVD镀膜技术为实现多种颜色镀膜层一般都需用到乙炔、甲烷等特气，生产过程中存在一定的危险性，同时腔室及靶材表面容易残留含碳气体，镀另一种颜色膜时需长时间清洁靶材表面，比较麻烦；再者当使用两种以上反应气体时，容易因气体分布不均匀造成每次镀膜颜色存在差异；因此，现有的PVD镀颜色膜层工艺较复杂，生产较不安全，镀膜重复性较差，现有技术还有待改进。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供了一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，通过镀覆金属膜层和高低折射率膜层，调整膜层厚度，调整高低折射率膜层的交叉结构，及高低折射率膜层的镀覆层数等实现PVD镀膜膜层颜色可调，满足不同产品表面的颜色镀覆需求。为解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案是：一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，所述方法包括如下步骤：步骤一、镀金属膜层；步骤二、镀低折射率膜层；步骤三、镀高折射率膜层；步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层。进一步的，所述步骤一镀金属膜层为将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3Pa及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的氩气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间10-300S，得到厚度为1-100nm的金属膜层。进一步的，所述金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属膜层，或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金膜层。进一步的，所述步骤二镀低折射率膜层为将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层。进一步的，所述低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层。进一步的，所述步骤三镀高折射率膜层为将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层。进一步的，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层。进一步的，所述高低折射膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N2气体流量为10-1000sccm，O2气体流量为10-1000sccm。进一步的，所述步骤四重复步骤二和步骤三的次数为1-100次。由上述对本专利技术结构的描述可知，和现有技术相比，本专利技术具有如下优点：本专利技术提供膜层颜色可调的PVD镀膜方法，通过不同厚度、不同的金属膜层和不同的高低折射率膜层、及不同厚度的高低折射率膜层的镀覆，实现了镀膜膜层颜色可调，满足不同产品对不同颜色的需求，使得PVD镀膜可以应用到更多的颜色装饰的领域中；该方法无需使用乙炔等特气，操作简单，生产过程安全无污染，膜层颜色鲜艳，重复性好。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本专利技术一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法的工艺流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。请参阅图1，本技术方案实施方式提供一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，所述方法包括如下步骤：S101，步骤一、镀金属膜层，将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3Pa及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的氩气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间10-300S，得到厚度为1-100nm的金属膜层，所述金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属膜层，或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金膜层；S102，步骤二、镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，所述低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层；S103，步骤三、镀高折射率膜层，将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层，所述高低折射膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N2气体流量为10-1000sccm，O2气体流量为10-1000sccm；S104，步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层，重复步骤二和步骤三的次数为1-100次。本专利技术提供膜层颜色可调的PVD镀膜方法，通过不同厚度、不同的金属膜层和不同的高低折射率膜层、及不同厚度的高低折射率膜层的镀覆，实现了镀膜膜层颜色可调，满足不同产品对不同颜色的需求，使得PVD镀膜可以应用到更多的颜色装饰的领域中；该方法无需使用乙炔等特气，操作简单，生产过程安全无污染，膜层颜色鲜艳，重复性好。实施例1S101，镀镍铜金属膜层；将待镀产品传入装有镍铜靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3Pa及工艺温度达到100℃后，向腔室通入500sccm的氩气，启动溅射电源，设置溅射功率7KW，镀膜时间30S，得到厚度为50nm的镍铜膜层；S102，镀氧化硅膜层；将镀完镍铜膜层的产品传入装有硅靶材的镀膜腔室，加热达到100℃后，向腔室通入600sccm/200sccm的Ar/O2工艺气体，设置溅射功率7KW，镀膜时间60S，得本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：步骤一、镀金属膜层；步骤二、镀低折射率膜层；步骤三、镀高折射率膜层；步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层。

【技术特征摘要】
1.一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：步骤一、镀金属膜层；步骤二、镀低折射率膜层；步骤三、镀高折射率膜层；步骤四、重复步骤二和步骤三数次，得到不同颜色的膜层。2.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤一镀金属膜层为将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3Pa及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的氩气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间10-300S，得到厚度为1-100nm的金属膜层。3.根据权利要求2所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述金属膜层为铜(Cu)、银(Ag)、铝(Al)、铬(Cr)等金属膜层，或镍铜(NiCu)、镍铬(NiCr)等合金膜层。4.根据权利要求1所述一种膜层颜色可调的PVD镀膜方法，其特征在于：所述步骤二镀低折射率膜层为将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300...

【专利技术属性】
技术研发人员：许志，
申请(专利权)人：福建省辉锐材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35