一种双面曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种双面曝光装置，包括汞灯箱、升降台和电控箱，在汞灯箱上设散热风扇和曝光头，升降台上设承片托盘，曝光头通过旋转部件连接汞灯箱，所述汞灯箱、升降台、散热风扇以及旋转部件均连接电控箱，于所述电控箱顶部设固定托盘，所述承片托盘和固定托盘分别与曝光头配合使用。本实用新型专利技术利用曝光头可旋转的结构，在现有电控箱上方增设固定托盘，克服了传统曝光机只能进行一次或P面标记光刻的不足，可实现P面、一次、二次、三次工艺的光刻，功能性能增加。

A Double-sided Exposure Device

【技术实现步骤摘要】
一种双面曝光装置
本技术是一种双面曝光装置，属于曝光设备

技术介绍
图1为传统曝光机的结构示意图，如图1所示，传统曝光机主要采用汞灯箱、升降台以及电控箱组成，仅可实现一次单面曝光的操作，具体测试操作方式如下：启动汞灯和机台电源，触发点亮汞灯后进行汞灯光强检验，同时，在控制箱面板上设置曝光时间、曝光间隙等参数；将曝光材料放置在升降台上的承片托盘上，手动推进承片托盘，升降台自动感应上升至曝光高度位置，汞灯箱上的曝光头转动移至升降台正上方，汞灯快门自动打开，进行曝光；曝光计时结束后，汞灯快门闭合，停止曝光，升降台下降复位，操作员手动拉出托盘，从承片托盘的吸盘上取下曝光材料，重复进行下一轮曝光作业。由于传统曝光机使用功能的不足，现有技术提出了可实现双面曝光的自动曝光机，如专利文献CN108255029A（一种双面曝光机及其曝光方法，2018.07.06）公开的设置有两组曝光机构的双面曝光机，使用时，曝光材料由翻转机构在两组曝光平台之间转移，分别由两组摄像对位装置定位后，由两组曝光机构分别对其进行曝光，相对于传统的手动对位更精确，而且能够增加曝光速率。我们知道，曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护都需要高精度的光学和电子工业基础，而上述专利采用两组曝光机构，其制作成本和维护成本将十分昂贵，经济价值低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种双面曝光装置，该装置利用曝光头可旋转的结构，在现有电控箱上方增设固定托盘，克服了传统曝光机只能进行一次或P面标记光刻的不足，可实现P面、一次、二次、三次工艺的光刻，功能性能增加。本技术通过下述技术方案实现：一种双面曝光装置，包括汞灯箱、升降台和电控箱，在汞灯箱上设散热风扇和曝光头，升降台上设承片托盘，所述汞灯箱、升降台和电控箱均设于机架座上，汞灯箱通过旋转部件连接机架座，所述汞灯箱、升降台、散热风扇以及旋转部件均连接电控箱，于所述电控箱顶部设固定托盘，所述承片托盘和固定托盘分别与曝光头配合使用。在所述机架座上还设有配合固定托盘的定位机构，所述定位机构连接电控箱。所述定位机构包括相互连接的物镜和显示屏，所述物镜配合固定托盘使用。在所述承片托盘和固定托盘均设有感应器，所述感应器连接电控箱。在所述承片托盘和固定托盘上均设有真空吸附装置，所述真空吸附装置连接电控箱。所述固定托盘通过固定支架设于电控箱顶部；所述承片托盘通过移动支架设于升降台顶部，移动支架顶部设凸起，承片托盘底部设供凸起卡入的滑槽，承片托盘通过移动支架滑动设于升降台上。本技术与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：（1）本技术是在传统曝光机的结构上进行的改进，通过在电控箱上方增加固定的固定托盘，利用传统曝光机曝光头可左右旋转的特点，分别对承片托盘和固定托盘上的曝光材料进行交叉重复的曝光操作，有效的提高了设备的利用效率。（2）本技术通过增加固定托盘，可用于P面标记光刻，在交叉重复进行光刻机使用的过程中，大大节省了单独标记P面的资源占用，缩短了工艺周期，提高了设备利用效益。（3）本技术通过在机架座上增加物镜和显示屏的设置，用于对固定托盘上的曝光材料进行观察，利用显示屏增加可视功能，提高操作的便利性。附图说明图1为传统曝光机的结构示意图。图2为本技术的结构示意图（一）。图3为本技术的结构示意图（二）。图4为本技术的操作流程图。其中，1—汞灯箱，2—升降台，3—电控箱，4—散热风扇，5—曝光头，6—承片托盘，7—固定托盘，8—机架座，9—物镜，10—显示屏，11—真空吸附装置，12—固定支架，13—移动支架，14—旋转部件。具体实施方式下面结合实施例对本技术作进一步地详细说明，但本技术的实施方式不限于此。实施例：本实施例提出了一种双面曝光装置。该装置是在现有曝光机（例如型号为G-25X的曝光机）的结构上进行改进而得到的可实现P面、一次、二次、三次工艺光刻的双面曝光装置。如图2、图3所示，该双面曝光装置包括以下结构：汞灯箱1、升降台2、电控箱3、散热风扇4、曝光头5、承片托盘6、固定盘等等，散热风扇4和曝光头5设于汞灯箱1上，汞灯箱1通过旋转部件14连接机架座8上，可实现汞灯箱1上曝光头5最大270°的转动，承片托盘6设于升降台2上，由升降台2自动感应并上升/下降至适宜高度的曝光位置，固定盘设于电控箱3顶部。使用时，由电控箱3控制汞灯箱1、升降台2、散热风扇4以及旋转部件14的工作，利用曝光头5可旋转的功能，可分别对承片托盘6和固定托盘7上的曝光材料进行交叉重复的曝光操作，能有效的提高设备的利用效率。如图2、图3所示，汞灯箱1、升降台2和电控箱3均设于机架座8上，为提高固定托盘7上曝光操作的精确度，本实施例在机架座8上还设有配合固定托盘7的定位机构，定位机构包括相互连接的物镜9和显示屏10，物镜9用于配合固定托盘7使用，并将固定托盘7上曝光材料的位置发送至显示屏10，并提供可视化的功能。承片托盘6和固定托盘7上均设有真空吸附装置11，用于曝光材料的吸附，使用时，由电控箱3控制真空吸附装置11的真空阀自动开启或关闭。承片托盘6和固定托盘7上设置的感应器连接电控箱3，可感应曝光头5的位置，并通过预先设置位置的方式，实现承片托盘6和固定托盘7上曝光材料的自动曝光操作。传统曝光机结构中，升降台2可实现承片托盘6的自动升降，在承片托盘6上装载曝光材料时，承片托盘6可移动，本实施例中，承片托盘6通过移动支架13设于升降台2顶部，移动支架13顶部设凸起，承片托盘6底部设供凸起卡入的滑槽，承片托盘6通过移动支架13滑动设于升降台2上，固定托盘7不可移动，通过固定支架12设于电控箱3顶部。参见图4所示流程示意图，本实施例进行一次曝光和一次P面光刻时的具体操作步骤：a.启动设备电源，汞灯电源启动，触发点亮汞灯后进行汞灯光强检验；b.在电控箱3的面板上设置曝光时间、曝光间隙等参数；c.在承片托盘6上放置好晶圆，启动承片托盘6上真空吸附装置11的真空阀吸附晶圆，手动推进承片托盘6；d.推进承片托盘6后，升降台2自动感应上升至曝光高度位置；e.转动曝光头5移至升降台2正上方，此时汞灯快门自动打开，进行曝光；f.在固定托盘7上单片放置待P面光刻晶圆；g.升降台2曝光计时结束后，汞灯快门闭合，停止曝光，升降台2下降复位；操作员拉出托盘，从升降台2承片托盘6上取下晶圆，重复进行下一片相应工艺光刻操作；h.升降台2光刻结束后，将曝光头5转动至固定承片盘上方，汞灯快门自动打开，进行P面光刻，曝光计时结束后关闭，取走晶圆，重复进行下一片P面光刻。以上所述，仅是本技术的较佳实施例，并非对本技术做任何形式上的限制，凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面曝光装置，包括汞灯箱（1）、升降台（2）和电控箱（3），在汞灯箱（1）上设散热风扇（4）和曝光头（5），升降台（2）上设承片托盘（6），所述汞灯箱（1）、升降台（2）和电控箱（3）均设于机架座（8）上，汞灯箱（1）通过旋转部件（14）连接机架座（8），所述汞灯箱（1）、升降台（2）、散热风扇（4）以及旋转部件（14）均连接电控箱（3），其特征在于：于所述电控箱（3）顶部设固定托盘（7），所述承片托盘（6）和固定托盘（7）分别与曝光头（5）配合使用。

【技术特征摘要】
1.一种双面曝光装置，包括汞灯箱（1）、升降台（2）和电控箱（3），在汞灯箱（1）上设散热风扇（4）和曝光头（5），升降台（2）上设承片托盘（6），所述汞灯箱（1）、升降台（2）和电控箱（3）均设于机架座（8）上，汞灯箱（1）通过旋转部件（14）连接机架座（8），所述汞灯箱（1）、升降台（2）、散热风扇（4）以及旋转部件（14）均连接电控箱（3），其特征在于：于所述电控箱（3）顶部设固定托盘（7），所述承片托盘（6）和固定托盘（7）分别与曝光头（5）配合使用。2.根据权利要求1所述的一种双面曝光装置，其特征在于：在所述机架座（8）上还设有配合固定托盘（7）的定位机构，所述定位机构连接电控箱（3）。3.根据权利要求2所述的一种双面曝光装置，其特征在于：所述定位机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓鹏，
申请(专利权)人：乐山嘉洋科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51