三色滤光片制造技术

本发明专利技术涉及光学领域，特别涉及一种三色滤光片。该滤光片由光学玻璃基体以及分别沉积在光学玻璃基体的两侧面上的三通滤光膜和宽带通滤光膜组成，所述三通滤光膜的三个通带分别对应红、绿、蓝三基色，所述宽带通滤光膜截止红、绿、蓝三通带以外的其它旁通带。本发明专利技术的三个透射通带分别位于红、绿、蓝三基色的波长范围内，当自然光通过该滤光片时会被分成红、绿、蓝三基色，不仅透过谱带较窄、峰值透过率高，而且可阻断混合光源中的紫外线和红外线，有助于获得强度理想、色彩饱和度高的红、绿、蓝三色光，此外，仅通过在单个玻璃基体上进行双面镀膜，克服了现有技术中体积大、加工成本高、难度大等缺点。

Tricolor filter

【技术实现步骤摘要】
三色滤光片
本专利技术涉及光学领域，特别涉及一种三色滤光片。
技术介绍
三基色原理是色度学最基本的原理，被广泛应用到各种图像技术和显示技术中，通常红色光波长范围为622-700nm，绿色光波长范围为492-577nm，蓝色光波长范围为450-492nm。在前几代显示技术的应用中，其三基色光谱带较宽，强度不理想、色彩饱和度低，直接导致色度空间小，彩色表现能力不高。而采用光谱带宽更窄的激光光源的第四代激光显示技术，则可以实现大色域的显示功能，再现更完美的色彩还原。现有的三色滤光片往往是由多个单通带滤光片(多个玻璃基板上分别镀不同的滤光膜)通过胶合或其它结合方式来实现三基色输出的效果，其滤光膜设计复杂，设计层数多，其滤光膜层总计超过100层，加工成本高，难度大，且体积较大限制其微型化应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服以上缺点，提供一种三色滤光片，该三色滤光片的三个透射通带分别位于红、绿、蓝三基色的波长范围内，当自然光通过该滤光片时会被分成红、绿、蓝三基色，不仅透过谱带较窄、峰值透过率高，而且可阻断混合光源中的紫外线和红外线，有助于获得强度理想、色彩饱和度高的红、绿、蓝三色光，此外，仅通过在单个玻璃基体上进行双面镀膜，克服了现有技术中体积大、加工成本高、难度大等缺点。本专利技术是这样实现的：一种三色滤光片，其特征在于：该滤光片由光学玻璃基体以及分别沉积在光学玻璃基体的两侧面上的三通滤光膜和宽带通滤光膜组成，所述三通滤光膜的三个通带分别对应红、绿、蓝三基色，所述宽带通滤光膜截止红、绿、蓝三通带以外的其它旁通带。优选的，所述三通滤光膜采用基于法布里-珀珞滤光膜结构的11层膜层组成。优选的，所述三通滤光膜的膜系结构为AIR|^2H12LH(LH)^2|SUB，其中H为四分之一光学厚度的高折射率膜层，L为四分之一光学厚度的低折射率膜层，AIR为入射介质空气，SUB为光学玻璃基体，^2表示膜堆重复次数为两次。优选的，所述三通滤光膜的膜系结构为AIR|^2H10LH(LH)^2|SUB，其中H为四分之一光学厚度的高折射率膜层，L为四分之一光学厚度的低折射率膜层，AIR为入射介质空气，SUB为光学玻璃基体，^2表示膜堆重复次数为两次。优选的，所述三通滤光膜由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料SiO2膜层依次交替堆叠的11层膜组成，该11层膜的厚度从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第2层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第3层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第4层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第5层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第6层，SiO2膜层，厚度为1118.8-1141.4nm；第7层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第8层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第9层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第10层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm，第11层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm。优选的，所述三通滤光膜的11层膜的厚度依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第2层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第3层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第4层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第5层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第6层，SiO2膜层，厚度为1130.1nm；第7层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第8层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第9层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第10层，SiO2膜层，厚度为94.2nm，第11层，TiO2膜层，厚度为57.7nm。优选的，所述宽带通滤光膜由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料SiO2膜层依次交替堆叠的34层膜组成，该34层膜的厚度从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为16.7-17.0nm；第2层，SiO2膜层，厚度为44.0-44.9nm；第3层，TiO2膜层，厚度为161.0-164.2nm；第4层，SiO2膜层，厚度为63.7-65.0nm；第5层，TiO2膜层，厚度为23.9-24.4nm；第6层，SiO2膜层，厚度为71.9-73.3nm；第7层，TiO2膜层，厚度为48.5-49.5nm；第8层，SiO2膜层，厚度为70.7-72.1nm；第9层，TiO2膜层，厚度为31.3-32.0nm；第10层，SiO2膜层，厚度为62.2-63.4nm，第11层，TiO2膜层，厚度为47.1-48.0nm；第12层，SiO2膜层，厚度为75.4-77.0nm；第13层，TiO2膜层，厚度为32.8-33.4nm；第14层，SiO2膜层，厚度为55.7-56.8nm；第15层，TiO2膜层，厚度为147.8-150.8nm；第16层，SiO2膜层，厚度为84.3-86.0nm；第17层，TiO2膜层，厚度为126.0-128.6nm；第18层，SiO2膜层，厚度为74.5-76.0nm；第19层，TiO2膜层，厚度为46.2-47.1nm；第20层，SiO2膜层，厚度为196.8-200.8nm；第21层，TiO2膜层，厚度为53.9-55.0nm；第22层，SiO2膜层，厚度为120.9-123.4nm；第23层，TiO2膜层，厚度为101.9-104.0nm；第24层，SiO2膜层，厚度为98.4-100.4nm；第25层，TiO2膜层，厚度为73.3-74.7nm；第26层，SiO2膜层，厚度为170.0-173.4nm；第27层，TiO2膜层，厚度为56.0-57.1nm；第28层，SiO2膜层，厚度为342.5-349.4nm；第29层，TiO2膜层，厚度为86.8-88.5nm；第30层，SiO2膜层，厚度为117.1-119.4nm；第31层，TiO2膜层，厚度为102.0-104.1nm；第32层，SiO2膜层，厚度为90.0-91.8nm；第33层，TiO2膜层，厚度为98.0-100.0nm；第34层，SiO2膜层，厚度为59.0-60.1nm。优选的，所述宽带通滤光膜的34层膜的厚度依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为16.9nm；第2层，SiO2膜层，厚度为44.4nm；第3层，TiO2膜层，厚度为162.6nm；第4层，SiO2膜层，厚度为64.3nm；第5层，TiO2膜层，厚度为24.2nm；第6层，SiO2膜层，厚度为72.6nm；第7层，TiO2膜层，厚度为49.0nm；第8层，SiO2膜层，厚度为71.4nm；第9层，TiO2膜层，厚度为31.6nm；第10层，SiO2膜层，厚度为62.8nm，第11层，TiO2膜层，厚度为47.5nm；第12层，SiO2膜层，厚度为76.2nm；第13层，TiO2膜层，厚度为33.1nm；第14层，SiO2膜层，厚度为56.2m；第15层，TiO2膜层，厚度为149.3nm；第16层，SiO2膜层，厚度为85.2nm；第17层，TiO2膜层，厚度为127.3nm；第18层，SiO2膜层，厚度为75.3nm；第19层，TiO2膜层，厚度为46.7nm；第20层，SiO2膜层，厚度为198.8n本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三色滤光片，其特征在于：该滤光片由光学玻璃基体(1)以及分别沉积在光学玻璃基体(1)的两侧面上的三通滤光膜(2)和宽带通滤光膜(3)组成，所述三通滤光膜(2)的三个通带分别对应红、绿、蓝三基色，所述宽带通滤光膜(3)截止红、绿、蓝三通带以外的其它旁通带。

【技术特征摘要】
1.一种三色滤光片，其特征在于：该滤光片由光学玻璃基体(1)以及分别沉积在光学玻璃基体(1)的两侧面上的三通滤光膜(2)和宽带通滤光膜(3)组成，所述三通滤光膜(2)的三个通带分别对应红、绿、蓝三基色，所述宽带通滤光膜(3)截止红、绿、蓝三通带以外的其它旁通带。2.根据权利要求1所述的三色滤光片，其特征在于：所述三通滤光膜(2)采用基于法布里-珀珞滤光膜结构的11层膜层组成。3.根据权利要求1所述的三色滤光片，其特征在于：所述三通滤光膜(2)的膜系结构为AIR|(HL)^2H12LH(LH)^2|SUB，其中H为四分之一光学厚度的高折射率膜层，L为四分之一光学厚度的低折射率膜层，AIR为入射介质空气，SUB为光学玻璃基体(1)，^2表示膜堆重复次数为两次。4.根据权利要求1所述的三色滤光片，其特征在于：所述三通滤光膜(2)的膜系结构为AIR|(HL)^2H10LH(LH)^2|SUB，其中H为四分之一光学厚度的高折射率膜层，L为四分之一光学厚度的低折射率膜层，AIR为入射介质空气，SUB为光学玻璃基体(1)，^2表示膜堆重复次数为两次。5.根据权利要求1所述的三色滤光片，其特征在于：所述三通滤光膜(2)由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料SiO2膜层依次交替堆叠的11层膜组成，该11层膜的厚度从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第2层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第3层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第4层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第5层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第6层，SiO2膜层，厚度为1118.8-1141.4nm；第7层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第8层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm；第9层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm；第10层，SiO2膜层，厚度为93.2-95.1nm，第11层，TiO2膜层，厚度为57.1-58.2nm。6.根据权利要求5所述的三色滤光片，其特征在于：所述三通滤光膜(2)的11层膜的厚度依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第2层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第3层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第4层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第5层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第6层，SiO2膜层，厚度为1130.1nm；第7层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第8层，SiO2膜层，厚度为94.2nm；第9层，TiO2膜层，厚度为57.7nm；第10层，SiO2膜层，厚度为94.2nm，第11层，TiO2膜层，厚度为57.7nm。7.根据权利要求1所述的三色滤光片，其特征在于：所述宽带通滤光膜(3)由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料SiO2膜层依次交替堆叠的34层膜组成，该34层膜的厚度从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为16.7-17.0nm；第2层，SiO2膜层，厚度为44.0-44.9nm；第3层，TiO2膜层，厚度为161.0-164.2nm；第4层，SiO2膜层，厚度为63.7-65.0nm；第5层，TiO2膜层，厚度为23.9-24.4nm；第6层，SiO2膜层，厚度为71.9-73.3nm；第7层，TiO2膜层，厚度为48.5-49.5nm；第8层，SiO2膜层，厚度为70.7-72.1nm；第9层，TiO2膜层，厚度为31.3-32.0nm；第10层，SiO...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱元强，
申请(专利权)人：福建福特科光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35