蒸镀源清洁设备及蒸镀系统技术方案

本发明专利技术公开了一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统。该蒸镀源清洁设备包括真空腔室、设置在真空腔室内的第一蒸镀源加热单元和第二蒸镀源加热单元，第一蒸镀源加热单元包括支撑部，支撑部用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元内能够生成热辐射以对点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元与第一蒸镀源加热单元间隔分布，第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽，容置槽能够产生热辐射对线蒸镀源或面蒸镀源进行清洁。本发明专利技术公开的蒸镀源清洁设备能够去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质，不会对蒸镀腔室的工艺造成影响，进而可以提升蒸镀效率，提升蒸镀系统稼动率。

Clean Equipment and Evaporation System of Evaporation Plating Source

【技术实现步骤摘要】
蒸镀源清洁设备及蒸镀系统
本专利技术属于显示
，尤其涉及一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示具有成本低、视角宽、驱动电压低、响应速度快、发光色彩丰富、制备工艺简单、可实现大面积柔性显示等优点，被认为是最具发展前景的显示技术之一。OLED的阵列基板的蒸镀工艺通常在蒸镀设备的蒸镀腔室中进行，蒸镀过程中，蒸镀材料会残留在加热器和坩埚上，需要定期在蒸镀腔室进行烘烤(baking)以去除蒸镀中使用的加热器、坩埚内壁残留的杂质。烘烤过程耗时较长直接影响蒸镀系统稼动率。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统，旨在提升蒸镀系统稼动率。第一方面，本专利技术提供一种蒸镀源清洁设备，包括：真空腔室；第一蒸镀源加热单元，设置于真空腔室内，第一蒸镀源加热单元包括支撑部，支撑部用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元内能够生成热辐射以对点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元，设置于真空腔室内，与第一蒸镀源加热单元间隔分布，第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽，容置槽能够产生热辐射对放置在容置槽内的线蒸镀源或面蒸镀源进行清洁。根据本专利技术的一个方面，真空腔室包括相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一蒸镀源加热单元设置于第一腔室，第二蒸镀源加热单元设置于第二腔室。根据本专利技术的一个方面，支撑部包括呈阵列分布的多个支撑盘，每个支撑盘能够对应设置一个点蒸镀源，支撑盘能够产生热辐射清洁点蒸镀源；或者支撑盘上设置有多个通电装置，通电装置能够与点蒸镀源的加热器电连接，以使点蒸镀源的加热器产生热辐射进行清洁。根据本专利技术的一个方面，每个支撑盘能够对应设置不同型号的点蒸镀源。根据本专利技术的一个方面，第一腔室内还设置有筒状的第一散热装置，第一散热装置设置于支撑部上，且包围支撑盘设置，点蒸镀源能够位于第一散热装置内，且与第一散热装置的内表面相距第一预设距离。根据本专利技术的一个方面，第一腔室内进一步设置有第二散热装置，第二散热装置连接于第一腔室的内表面，且罩设在第一蒸镀源加热单元的顶部。根据本专利技术的一个方面，第二腔室内还设置有第三散热装置，第三散热装置能够环绕容置槽设置，且与容置槽的外表面相距第二预设距离。根据本专利技术的一个方面，容置槽的个数为两个以上，两个以上的容置槽中的至少一个容置槽能够放置不同型号的线蒸镀源或不同型号的面蒸镀源进行清洁，两个以上的容置槽中的至少一个容置槽与预定尺寸的预熔融坩埚相匹配，以放置预熔融坩埚进行预熔融处理。根据本专利技术第一个方面，第一腔室与第二腔室均具有开口端；蒸镀源清洁设备进一步包括抽气装置，抽气装置对应连接至第一腔室的开口端与第二腔室的开口端。第二方面，本专利技术提供一种蒸镀系统，包括：蒸镀腔室和上述任一实施例的蒸镀源清洁设备，其中蒸镀源清洁设备设置于蒸镀腔室外。本专利技术实施例中，蒸镀源清洁设备包括在真空腔室内设置的第一蒸镀源加热单元和第二蒸镀源加热单元，其中第一蒸镀源加热单元包括用于放置至少一个点蒸镀源的支撑部，第一蒸镀源加热单元能够产生热辐射对放置在支撑部的点蒸镀源进行烘烤以去除点蒸镀源的杂质，实现对点蒸镀源的清洁；第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源和面蒸镀源的容置槽，容置槽能够产生热辐射对放置在其内的线蒸镀源或面蒸镀源进行烘烤以去除线蒸镀源或面蒸镀源的杂质，实现对线蒸镀源或面蒸镀源的清洁。利用本实施例的蒸镀源清洁设备能够去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质，不会对蒸镀腔室的工艺造成影响，进而可以提升蒸镀效率，提升蒸镀系统稼动率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备结构示意图；图2是本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备的打开舱门的结构视图；图3是本专利技术实施例的第一蒸镀源加热单元和第一散热装置的结构示意图；图4是本专利技术实施例的第二蒸镀源加热单元和第三散热装置的结构示意图。图中：10-第一腔室；11-第一蒸镀源加热单元；110-支撑部；111-支撑盘；12-第一散热装置；13-第二散热装置；14-第一舱门；20-第二腔室；21-第二蒸镀源加热单元；211-容置槽；22-第三散热装置；23-第二舱门；30-隔热板；40-抽气装置。具体实施方式下面将详细描述本专利技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本专利技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本专利技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本专利技术的示例来提供对本专利技术的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本专利技术造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本专利技术的实施例的具体结构进行限定。在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将结合附图对实施例进行详细描述。下面结合图1至图4对本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备及蒸镀系统进行详细说明。请参照图1至图4所示，图1是本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备的结构示意图；图2是本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备的打开舱门的结构示意图；图3是本专利技术实施例的第一蒸镀源加热单元和第一散热装置的结构示意图；图4是本专利技术实施例的第二蒸镀源加热单元和第三散热装置的结构示意图。本专利技术实施例的蒸镀源清洁设备至少包括真空腔室、位于真空腔室内的第一蒸镀源加热单元11和第二蒸镀源加热单元21，其中第一蒸镀源加热单元11与第二蒸镀源加热单元21间隔分布，以防止在第一蒸镀源加热单元11与第二蒸镀源加热单元21同时工作状态下相互影响。第一蒸镀源加热单元11包括支撑部110，支撑部110用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元11内能够生成热辐射以对点蒸镀源烘烤进行清洁。可以理解的是，点蒸镀源可以包括点蒸镀源的加热器以及点蒸镀源的坩埚，本专利技术实施例的第一蒸镀源加热单元11既可以对点蒸镀源的加热器进行清洁，也可以对点蒸镀源的坩埚进行清洁。第二蒸镀源加热单元21包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽211，在容置槽211内能够产生热辐射对放置在容置槽211内的线蒸镀源或面蒸镀源烘烤以进行清洁。可以理解的是，线蒸镀源可以包括线蒸镀源的坩埚，可以将线蒸镀源的坩埚放置在容置槽211内进行清洁；面蒸镀源可以包括面蒸镀源的坩埚，可以将面蒸镀源的坩埚放置在容置槽211内进行清洁。本专利技术实施例中，蒸镀源清洁设备的腔室为真空状态，可以通过抽气装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀源清洁设备，其特征在于，包括：真空腔室；第一蒸镀源加热单元(11)，设置于所述真空腔室内，所述第一蒸镀源加热单元(11)包括支撑部(110)，所述支撑部(110)用于放置至少一个点蒸镀源，所述第一蒸镀源加热单元(11)内能够生成热辐射以对所述点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元(21)，设置于所述真空腔室内，与所述第一蒸镀源加热单元(11)间隔分布，所述第二蒸镀源加热单元(21)包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽(211)，所述容置槽(211)能够产生热辐射对放置在所述容置槽(211)内的所述线蒸镀源或所述面蒸镀源进行清洁。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀源清洁设备，其特征在于，包括：真空腔室；第一蒸镀源加热单元(11)，设置于所述真空腔室内，所述第一蒸镀源加热单元(11)包括支撑部(110)，所述支撑部(110)用于放置至少一个点蒸镀源，所述第一蒸镀源加热单元(11)内能够生成热辐射以对所述点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元(21)，设置于所述真空腔室内，与所述第一蒸镀源加热单元(11)间隔分布，所述第二蒸镀源加热单元(21)包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽(211)，所述容置槽(211)能够产生热辐射对放置在所述容置槽(211)内的所述线蒸镀源或所述面蒸镀源进行清洁。2.根据权利要求1所述的蒸镀源清洁设备，其特征在于，所述真空腔室包括相互隔离的第一腔室(10)和第二腔室(20)，所述第一蒸镀源加热单元(11)设置于所述第一腔室(10)，所述第二蒸镀源加热单元(21)设置于所述第二腔室(20)。3.根据权利要求2所述的蒸镀源清洁设备，其特征在于，所述支撑部(110)包括呈阵列分布的多个支撑盘(111)，每个所述支撑盘(111)能够对应设置一个所述点蒸镀源，所述支撑盘(111)能够产生热辐射清洁所述点蒸镀源；或者所述支撑盘(111)上设置有多个通电装置，所述通电装置能够与所述点蒸镀源的加热器电连接，以使所述点蒸镀源的加热器产生热辐射进行清洁。4.根据权利要求3所述的蒸镀源清洁设备，其特征在于，每个所述支撑盘(111)能够对应设置不同型号的所述点蒸镀源。5.根据权利要求3所述的蒸镀源清洁设备，其特征在于，所述第一腔室(10)内还设置有筒...

【专利技术属性】
技术研发人员：方刚，陈策，王宝友，尹俊，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32