基板搬入搬出装置、处理装置和基板搬送容器的除电方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够对FOUP的内表面进行除电，抑制微粒向FOUP的内表面的附着的基板搬入搬出装置、处理装置和基板搬送容器的除电方法。一个实施方式的基板搬入搬出装置具有：隔壁，其划分出基板搬送区域和容器搬送区域；搬送口，其形成于所述隔壁；以及气体供给机构，其从所述搬送口的开口缘部向使基板收纳容器的取出口的开口缘部与所述搬送口的开口缘部紧密接合后的基板收纳容器的内部吹送被电离了的气体。

Electricity Removal Method of Base Plate Moving in and Out Device, Processing Device and Base Plate Moving Container

【技术实现步骤摘要】
基板搬入搬出装置、处理装置和基板搬送容器的除电方法
本专利技术涉及一种基板搬入搬出装置、基板处理装置和基板搬送容器的除电方法。
技术介绍
在半导体制造装置中，已知一种抑制FOUP(FrontOpeningUnifiedPod：前开式晶圆盒)的搬送区域的微粒经由FOUP的盖体而混入到基板搬送区域的盖体开闭装置(例如参照专利文献1)。上述的盖体开闭装置具备：载置台，其以使FOUP的盖体的前表面朝向由开闭门进行打开和关闭的搬送口的方式载置FOUP；气体喷出口，其设置于与FOUP相向的相向面部；以及进退机构，其使被载置于载置台的FOUP相对于相向面部相对地进退。而且，在从气体喷出口至FOUP的盖体为止的距离为5mm以下时向盖体供给吹扫气体，由此在盖体与相向面部之间流动的吹扫气体的流速增大，能够容易地去除盖体的微粒。专利文献1：日本特开2012-204645号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在上述的装置中，难以去除附着于FOUP的内表面的微粒。存在附着于FOUP的内表面的微粒附着于FOUP中收纳的基板、在拆卸FOUP的盖体时混入到基板搬送区域的情况。因此，在本专利技术的一个方式中，其目的在于提供一种能够对FOUP的内表面进行除电，抑制微粒向FOUP的内表面附着的基板搬入搬出装置。用于解决问题的方案为了实现上述目的，本专利技术的一个方式所涉及的基板搬入搬出装置具有：隔壁，其划分出基板搬送区域和容器搬送区域；搬送口，其形成于所述隔壁；以及气体供给机构，其从所述搬送口的开口缘部向使基板收纳容器的取出口的开口缘部与所述搬送口的开口缘部紧密接合后的基板收纳容器的内部吹送被电离了的气体。专利技术的效果根据公开的基板搬入搬出装置，能够对FOUP的内表面进行除电，抑制微粒向FOUP的内表面的附着。附图说明图1是本专利技术的实施方式所涉及的基板处理装置的概要结构图。图2是本专利技术的实施方式所涉及的基板处理装置的概要俯视图。图3是承载件和开闭门的纵截面图。图4是承载件和开闭门的横截面图。图5是搬送口和承载件的立体图。图6是表示承载件的除电方法的一例的流程图。图7是表示承载件的除电方法的一例的工序图(1)。图8是表示承载件的除电方法的一例的工序图(2)。图9是表示承载件的除电方法的一例的工序图(3)。图10是表示承载件的除电方法的一例的工序图(4)。图11是表示承载件的除电方法的一例的工序图(5)。附图标记说明1：基板处理装置；10：壳体；11：隔壁；12：搬送口；22：处理容器；27：晶圆搬送机构；40：承载件；43：取出口；44：开口缘部；50：开闭门；60：盖体开闭机构；70：气体供给机构；71：气体供给管；72：喷出口；73：气体供给管线；74：气体供给源；75：电离器；77：电位计；100：控制部；S10：承载件搬送区域；S20：晶圆搬送区域；W：晶圆。具体实施方式以下参照附图来说明具体实施方式。此外，在本说明书和附图中对实质上相同的结构标注相同的标记，由此省略重复的说明。(基板处理装置)对具备本专利技术的实施方式所涉及的基板搬入搬出装置的基板处理装置进行说明。本专利技术的实施方式所涉及的基板搬入搬出装置能够应用于各种基板处理装置，但为了容易理解，以使用立式热处理装置来作为基板处理装置的一例的情况为例进行说明。图1是本专利技术的实施方式所涉及的基板处理装置的概要结构图。图2是本专利技术的实施方式所涉及的基板处理装置的概要俯视图。基板处理装置1构成为被收容于构成装置的外壳体的壳体10中。在壳体10内形成有承载件搬送区域S10和晶圆搬送区域S20。承载件搬送区域S10和晶圆搬送区域S20是通过隔壁11划分出的。在隔壁11上设置有使承载件搬送区域S10与晶圆搬送区域S20连通并用于搬送晶圆W的搬送口12。搬送口12被依据FIMS(Front-OpeningInterfaceMechanicalStandard：前开式接口机械标准)标准的开闭门50进行打开和关闭。开闭门50与驱动机构51连接，开闭门50构成为借助驱动机构51在前后方向以及上下方向上自由移动，以打开和关闭搬送口12。此外，在后面对搬送口12和开闭门50的周围的结构进行叙述。另外，以下将承载件搬送区域S10和晶圆搬送区域S20的排列方向设为基板处理装置1的前后方向。将承载件搬送区域S10设为大气气氛。承载件搬送区域S10是用于将收纳了作为基板的一例的半导体晶圆(以下称作“晶圆W”。)的承载件40搬入到基板处理装置1或从基板处理装置1搬出的区域。承载件40例如可以是FOUP(Front-OpeningUnifiedPod)。通过将FOUP内的清洁度保持为规定的水平，能够防止异物向晶圆W的表面的附着、自然氧化膜的形成。承载件搬送区域S10包括第一搬送区域S11和位于第一搬送区域S11的后方(晶圆搬送区域S20侧)的第二搬送区域S12。在第一搬送区域S11的左右方向上设置有两个用于载置承载件40的第一载置台14。在第一载置台14的用于载置承载件40的面上设置有用于对承载件40进行定位的多个(例如三个)定位销14a。在第二搬送区域S12中，以与第一载置台14前后排列的方式，在左右方向配置有两个第二载置台16。第二载置台16构成为借助进退机构17前后自由移动，在用于将晶圆W从承载件40交接到晶圆搬送区域S20的交接位置与从承载件搬送机构19接受承载件40的接受位置之间搬送承载件40。在第二载置台16的用于载置承载件40的面上设置有用于对承载件40进行定位的多个(例如三个)定位销16a和用于固定承载件40的钩部16b。在第二搬送区域S12的上部设置有用于保管承载件40的承载件保管部18。承载件保管部18例如包括两层的架，各架能够在左右方向上载置两个承载件40。在第二搬送区域S12中设置有在第一载置台14、第二载置台16、以及承载件保管部18之间搬送承载件40的承载件搬送机构19。承载件搬送机构19具备沿左右方向延伸且自由升降的引导部19a、一边被引导部19a引导一边在左右方向上移动的移动部19b以及关节臂19c，该关节臂19c设置于移动部19b，保持承载件40并沿水平方向搬送承载件40。晶圆搬送区域S20为从承载件40取出晶圆W并实施各种处理的区域。将晶圆搬送区域S20设为非活性气体气氛，例如氮气(N2)气氛，以防止在晶圆W上形成氧化膜。在晶圆搬送区域S20中设置有将下端作为炉口而开口的立式的处理容器22。在处理容器22的下方，将以棚架状保持多张晶圆W的晶圆舟23隔着绝热部24而载置在盖部25上。盖部25支承在升降机构26上，借助升降机构26将晶圆舟23搬入到处理容器22或将晶圆舟23从处理容器22搬出。在晶圆舟23与搬送口12之间设置有晶圆搬送机构27。晶圆搬送机构27构成为在移动体27b上设置有五个自由进退的臂27c，其中，移动体27b沿着左右方向延伸的引导机构27a移动并且绕铅垂轴转动，晶圆搬送机构27在晶圆舟23与第二载置台16上的承载件40之间搬送晶圆W。图3是承载件40和开闭门50的纵截面图。图4是承载件40和开闭门50的横截面图。图5是搬送口12和承载件40的立体图。承载件40包括作为容器主体的承载件主体41和盖体42。在承载件主体41内的左右侧设置有多层用于支承晶圆W的背面侧周缘部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板搬入搬出装置，具有：隔壁，其划分出基板搬送区域和容器搬送区域；搬送口，其形成于所述隔壁；以及气体供给机构，其从所述搬送口的开口缘部向使基板收纳容器的取出口的开口缘部与所述搬送口的开口缘部紧密接合后的基板收纳容器的内部吹送被电离了的气体。

【技术特征摘要】
2017.12.06 JP 2017-2344761.一种基板搬入搬出装置，具有：隔壁，其划分出基板搬送区域和容器搬送区域；搬送口，其形成于所述隔壁；以及气体供给机构，其从所述搬送口的开口缘部向使基板收纳容器的取出口的开口缘部与所述搬送口的开口缘部紧密接合后的基板收纳容器的内部吹送被电离了的气体。2.根据权利要求1所述的基板搬入搬出装置，其特征在于，所述气体供给机构具有：气体供给管，其形成于所述隔壁，具有喷出所述气体的喷出口；气体供给管线，其与所述气体供给管连通，向所述气体供给管供给所述气体；以及电离装置，其设置于所述气体供给管线，使在所述气体供给管线中流动的所述气体电离。3.根据权利要求2所述的基板搬入搬出装置，其特征在于，具有：电位计，其检测所述基板收纳容器的内表面的电位；以及控制部，其基于由所述电位计检测出的所述基板收纳容器的内表面的电位来控制所述电离装置的动作。4.根据权利要求3所述的基板搬入搬出装置，其特征在于，具有开闭门，所述开闭门用于打开和关闭所述搬送口，所述电位计安装于所述开闭门。5.一种基板处理装置，具有：根据权利要求1至4中的任一项所述的基板搬入搬出装置；搬送机构，其设置于所述基板搬送区域内，用于搬...

【专利技术属性】
技术研发人员：大冈雄一，门部雅人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP