掩膜版组件及其制备方法技术

本申请实施例提供了一种掩膜版组件及其制备方法，掩膜版组件包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版。主掩膜版和辅助掩膜版层叠设置，主掩膜版的外周区域和辅助掩膜版的外周区域，分别与框形架的内周区域连接。主掩膜版设置有多个工艺孔，辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，工艺孔与对应的避让孔中一部分区域正对。辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。框形架与辅助掩膜版预先形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件，主掩膜版再连接至第一状态的框形架后，第一状态的框形架不会再次发生较明显的变形，使得主掩膜版的平坦度误差较小，主掩膜版的工艺孔形状精度以及相对于框形架的位置精度较高。

Mask module and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
掩膜版组件及其制备方法
本申请涉及掩膜版的
，具体而言，本申请涉及一种掩膜版组件及其制备方法。
技术介绍
在显示面板制备过程中，需通过掩膜版组件实现对发光材料的蒸镀。掩膜版组件通常包括框形架和掩膜版，掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接，掩膜版设置有多个工艺孔，发光材料透过工艺孔镀在显示面板上的预设位置。在掩膜版组件中，掩膜版的平坦度以及掩膜版中工艺孔相对于框形架的位置精度是两项重要的指标。为了保证掩膜版的平坦度，通常需要对掩膜版进行拉伸后再连接于框形架。然而，拉伸后的掩膜版与框形架之间存在拉伸力，这会导致掩膜版和框形架变形，使得掩膜版中工艺孔相对于框形架的实际位置偏离期望位置；另外，工艺孔自身的形状也会发生变形。为了制备更大尺寸的显示面板(如折叠屏设备的面板或平板电脑的面板)，需要相应地增加掩膜版组件的尺寸。对于较大尺寸的掩膜版组件，由于掩膜版的拉伸而造成的工艺孔位置偏移和形状改变的问题更加严重，导致具有大尺寸显示面板的显示设备的窄边框技术难以实现。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜版组件及其制备方法，用以解决现有技术存在的技术问题。第一方面，本申请实施例提供了一种掩膜版组件，包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版；主掩膜版和辅助掩膜版层叠设置，主掩膜版的外周区域和辅助掩膜版的外周区域，分别与框形架的内周区域连接；主掩膜版设置有多个工艺孔，辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，工艺孔与对应的避让孔中一部分区域正对；辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。第二方面，本申请实施例提供了一种掩膜版组件的制备方法，用于本申请实施例第一方面提供的掩膜版组件的制备，包括：以第一拉伸力对辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；将主掩膜版移至辅助掩膜版上方，以第二拉伸力对主掩膜版进行拉伸和对位后，将主掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；第一拉伸力大于第二拉伸力。本申请实施例提供的技术方案，至少具有如下有益效果：在本申请实施例提供的掩膜版组件中，由于主掩膜版的工艺孔与辅助掩膜版中对应的避让孔中一部分区域正对，也就是说，工艺孔的边缘完全在对应的避让孔的边缘之内，因此，在利用该掩膜版组件进行蒸镀时，工艺孔的位置和形状直接决定了发光材料层的位置和形状。这就要求主掩膜版平坦度误差较小，同时工艺孔也需要具备较高的位置精度和形状精度。为了达到上述目的，在制备掩膜版组件时，以较大的拉伸力对辅助掩膜版进行拉伸和对位后，将辅助掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接；以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸和对位后，将主掩膜版的外周区域与框形架的内周区域连接。这样可以保证辅助掩膜版与框形架之间的拉伸力，大于主掩膜版与框形架之间的拉伸力。在安装主掩膜版之前，辅助掩膜版与框形架之间已具有较大的拉伸力，框形架已变形至第一状态，此时框形架与辅助掩膜版形成的是一个不易再次变形且具有较高强度的组件，因此主掩膜版被较小的拉伸力拉伸并连接至第一状态的框形架后，第一状态的框形架不会再次发生较明显的变形，这就保证了主掩膜版的工艺孔相对于第一状态的框形架的位置精度。另外，以较小的拉伸力对主掩膜版进行拉伸，既可以保证主掩膜版的平坦度误差较小，又可以避免主掩膜版中工艺孔发生较大程度的变形，保证工艺孔的形状精度。即使本申请实施例提供的掩膜版组件的具有较大的尺寸，也能够保证主掩膜版的平坦度较小、且工艺孔的位置精度和形状精度较高，应用该较大尺寸的掩膜版组件可以为大尺寸显示面板进行蒸镀，使得具有的大尺寸显示面板显示设备的窄边框技术得以实现。本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。附图说明本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的结构示意图；图2是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的拆解示意图；图3是本申请实施例提供的框形架和辅助掩膜版的装配示意图；图4是本申请实施例提供的一种辅助掩膜版的结构示意图；图5是本申请实施例提供的一种工艺孔和避让孔的数量对应关系示意图；图6是本申请实施例提供的又一种辅助掩膜版的结构示意图；图7是本申请实施例提供的又一种工艺孔和避让孔的数量对应关系示意图；图8是本申请实施例提供的第一膜片中，工艺孔周边区域的结构示意图；图9是本申请实施例提供的一种掩膜版组件的制备方法的流程示意图。其中，附图标号的说明如下：1-框形架；2-主掩膜版；21-第一膜片；22-第一连接片；23-工艺孔；24-第一凹槽；25-第二凹槽；3-辅助掩膜版；31-第二膜片；32-第二连接片；33-避让孔。具体实施方式下面详细描述本申请，本申请实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。在显示面板制备过程中，需通过掩膜版组件实现对发光材料的蒸镀。发光材料透过掩膜版的工艺孔镀在显示面板上的预设位置，形成与工艺孔形状一致的发光材料层。因此，掩膜版的平坦度、工艺孔的位置精度和形状精度会直接影响发光材料层的成型质量。然而，利用拉伸掩膜版的来提高掩膜版的平坦度的方式，却会对工艺孔的位置精度和形状精度产生不良影响，这导致掩膜版的平坦度、工艺孔的位置精度和形状精度无法同时达到较佳的状态。基于上述原因，本申请实施例提供了一种掩膜版组件，如图1和图2所示，包括框形架1、主掩膜版2和辅助掩膜版3。主掩膜版2和辅助掩膜版3层叠设置，主掩膜版2的外周区域和辅助掩膜版3的外周区域，分别与框形架1的内周区域连接。主掩膜版2设置有多个工艺孔23，辅助掩膜版3设置有至少一个避让孔33，工艺孔23与对应的避让孔33中一部分区域正对。辅助掩膜版3与框形架1之间的拉伸力，大于主掩膜版2与框形架1之间的拉伸力。在本申请实施例提供的掩膜版组件中，由于主掩膜版2的工艺孔23与辅助掩膜版3中对应的避让孔33中一部分区域正对，也就是说，工艺孔23的边缘完全在对应的避让孔33的边缘之内，因此，在利用该掩膜版组件进行蒸镀时，工艺孔23的位置和形状直接决定了发光材料层的位置和形状。这就要求主掩膜版2平坦本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版；所述主掩膜版和所述辅助掩膜版层叠设置，所述主掩膜版的外周区域和所述辅助掩膜版的外周区域，分别与所述框形架的内周区域连接；所述主掩膜版设置有多个工艺孔，所述辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，所述工艺孔与对应的所述避让孔中一部分区域正对；所述辅助掩膜版与所述框形架之间的拉伸力，大于所述主掩膜版与所述框形架之间的拉伸力。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括框形架、主掩膜版和辅助掩膜版；所述主掩膜版和所述辅助掩膜版层叠设置，所述主掩膜版的外周区域和所述辅助掩膜版的外周区域，分别与所述框形架的内周区域连接；所述主掩膜版设置有多个工艺孔，所述辅助掩膜版设置有至少一个避让孔，所述工艺孔与对应的所述避让孔中一部分区域正对；所述辅助掩膜版与所述框形架之间的拉伸力，大于所述主掩膜版与所述框形架之间的拉伸力。2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述辅助掩膜版的平坦度误差包括所述辅助掩膜版的顶面中任意两点之间的高度差；所述辅助掩膜版的平坦度误差在120微米以下。3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述框形架设置有至少一个定位标记；所述主掩膜版中所述工艺孔相对于所述定位标记的位置的误差为±40微米。4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述主掩膜版的中央区域包括第一膜片，所述主掩膜版的外周区域包括多个第一连接片，所述工艺孔设置在所述第一膜片中；多个所述第一连接片在所述第一膜片的外周边缘沿周向间隔排列；每个所述第一连接片的两端，分别与所述第一膜片的外周边缘和所述框形架的内周边缘连接。5.根据权利要求4所述的掩膜版组件，其特征在于，所述辅助掩膜版的中央区域包括第二膜片，所述辅助掩膜版的外周区域包括多个第二连接片，所述避让孔在所述第二膜片中阵列排布；多个所述第二连接片在所述第二膜片的外周边缘沿周向间隔排列；每个所述第二连接片的两端，分别与所述第二膜片的外周边缘和所述框形架的内周边缘连接；相邻的所述第一连接片和所述第二连接片，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏，嵇凤丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11