一种便于更换的霍尔离子源均气板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种便于更换的霍尔离子源均气板，涉及离子源技术领域。本实用新型专利技术包括气板本体，均气板本体轴心处开设有凹槽，凹槽底部开设有锥形通孔，凹槽内部设置有填充件，填充件包括与凹槽相配合的连接板，连接板底部设置有与锥形通孔相配合的填充锥体。本实用新型专利技术通过在离子源均气板上离子束重点集中轰击处进行挖圆孔，并做填充件对圆孔进行填充，使用螺钉将填充件与均气板本体固定连接，使用过程中，能够视填充件损坏程度进行及时更换，更换时只需拿出即将损坏的填充件换入新的即可，可以在不需要拆离子源的情况下对均气板进行维护，直接降低了离子源的损坏可能性，也提高了设备生产效率，降低了使用成本。

An Easy Replacement Horizontal Plate for Hall Ion Source

【技术实现步骤摘要】
一种便于更换的霍尔离子源均气板
本技术属于离子源
，特别是涉及一种便于更换的霍尔离子源均气板。
技术介绍
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。霍尔离子源通过在真空环境下，利用发射的电子在电场和磁场的相互作用下，使充入真空室的气体产生离化，在电场和磁场的作用下发射离子。霍尔离子源作为一种无栅网式离子源，因其维护价格低廉，被广泛应用在一般辅助镀膜领域。现有的霍尔离子源的金属均气板为整体式，在强离子束的直接轰击下，离子束会将均气板击穿，击穿后需要拆开离子源换新均气板，不仅增加了使用成本，而且在拆装离子源的过程中安装不到位会直接损坏离子源。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种便于更换的霍尔离子源均气板，通过在离子源均气板上离子束重点集中轰击处进行挖孔，填充一方便更换的填充件，解决了现有的金属均气板被击穿后，需要拆开离子源进行更换，十分繁琐，整体更换均气板，使用成本高，拆装过程中安装不到位会直接损坏离子源的问题。为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：本技术为一种便于更换的霍尔离子源均气板，包括均气板本体，所述均气板本体轴心处开设有凹槽，所述凹槽底部开设有与均气板本体同圆心的锥形通孔，所述凹槽内部设置有填充件，所述填充件所使用的材料与均气板本体的材料相同；所述均气板本体又被称为导流板，用于连接离子源中气体输入管道，通过均气板本体，能够使工艺气体均匀的扩散到阳极口。所述填充件包括与凹槽相配合的连接板，所述连接板底部设置有与锥形通孔相配合的填充锥体，所述填充锥体底部的圆台面积与离子源均气板上离子束重点集中轰击处面积相同。进一步地，所述气板本体上开设有通气孔和通孔，所述通气孔呈环形等距排列在凹槽外部。进一步地，所述凹槽为圆形结构，所述凹槽底部开设有定位孔，所述定位孔底部开设有螺纹孔。进一步地，所述连接板底部固定有与定位孔相配合的定位环，所述连接板上开设有与螺纹孔相配合的安装孔，所述安装孔为沉头孔。进一步地，所述填充锥体的横截面为等腰梯形结构，所述填充锥体斜边倾斜角为30°。进一步地，所述填充件的厚度与均气板本体的厚度相同。本技术具有以下有益效果：1、本技术通过在离子源均气板上离子束重点集中轰击处进行挖圆孔，并做填充件对圆孔进行填充，使用螺钉将填充件与均气板本体固定连接，使用过程中，能够视填充件损坏程度进行及时更换，更换时只需拿出即将损坏的填充件换入新的即可，可以在不需要拆离子源的情况下对均气板进行维护，直接降低了离子源的损坏可能性，也提高了设备生产效率，降低了使用成本。2、本技术通过锥形通孔和填充锥体的配合使用，方便安装定位的同时提高了安装时填充件与均气板本体同心度，进一步提高了安装精度。3、本技术定位孔、螺纹孔、连接板和定位环的配合使用，方便安装定位的同时增强了填充件与均气板本体的连接强度。当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术便于更换的霍尔离子源均气板的结构示意图；图2为图1的剖面结构示意图；图3为本技术均气板本体的结构示意图；图4为图3的剖面结构示意图；图5为本技术填充件的结构示意图；图6为图5的剖面结构示意图；图7为本技术均气板本体和填充件相配合的结构示意图；附图中，各标号所代表的部件列表如下：1-均气板本体，101-凹槽，102-锥形通孔，103-通气孔，104-通孔，105-定位孔，106-螺纹孔，2-填充件，201-连接板，202-填充锥体，203-定位环，204-安装孔。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-7所示，本技术为一种便于更换的霍尔离子源均气板，包括均气板本体1，均气板本体1轴心处开设有凹槽101，凹槽101底部开设有与均气板本体1同圆心的锥形通孔102，凹槽101内部设置有填充件2，填充件2所使用的材料与均气板本体1的材料相同。填充件2包括与凹槽101相配合的连接板201，连接板201底部设置有与锥形通孔102相配合的填充锥体202，填充锥体202底部的圆台面积与离子源均气板上离子束重点集中轰击处面积相同。其中，气板本体1上开设有通气孔103和通孔104，通气孔103呈环形等距排列在凹槽101外部。其中，凹槽101为圆形结构，凹槽101底部开设有定位孔105，定位孔105底部开设有螺纹孔106。其中，连接板201底部固定有与定位孔105相配合的定位环203，连接板201上开设有与螺纹孔106相配合的安装孔204，安装孔204为沉头孔。其中，填充锥体202的横截面为等腰梯形结构，填充锥体202斜边倾斜角为30°。其中，填充件2的厚度与均气板本体1的厚度相同。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。以上公开的本技术优选实施例只是用于帮助阐述本技术。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该技术仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本技术的原理和实际应用，从而使所属
技术人员能很好地理解和利用本技术。本技术仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种便于更换的霍尔离子源均气板，包括均气板本体(1)，其特征在于：所述均气板本体(1)轴心处开设有凹槽(101)，所述凹槽(101)底部开设有与均气板本体(1)同圆心的锥形通孔(102)，所述凹槽(101)内部设置有填充件(2)；所述填充件(2)包括与凹槽(101)相配合的连接板(201)，所述连接板(201)底部设置有与锥形通孔(102)相配合的填充锥体(202)。

【技术特征摘要】
1.一种便于更换的霍尔离子源均气板，包括均气板本体(1)，其特征在于：所述均气板本体(1)轴心处开设有凹槽(101)，所述凹槽(101)底部开设有与均气板本体(1)同圆心的锥形通孔(102)，所述凹槽(101)内部设置有填充件(2)；所述填充件(2)包括与凹槽(101)相配合的连接板(201)，所述连接板(201)底部设置有与锥形通孔(102)相配合的填充锥体(202)。2.根据权利要求1所述的一种便于更换的霍尔离子源均气板，其特征在于，所述气板本体(1)上开设有通气孔(103)和通孔(104)，所述通气孔(103)呈环形等距排列在凹槽(101)外部。3.根据权利要求1所述的一种便于更换的霍尔离子源均气板，其特征在于，所述凹槽(10...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宸佳，
申请(专利权)人：江阴市中兴光电实业有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32