【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在外部射束放射治疗中控制在治疗靶标之外的剂量分布并使所述剂量分布成形相关申请的交叉引用本PCT申请要求于2016年9月22日提交的名称为“CONTROLLINGANDSHAPINGTHEDOSEDISTRIBUTIONOUTSIDETREATMENTTARGETSINEXTERNAL-BEAMRADIATIONTREATMENTS”的美国非临时专利申请号15/273,373的权益和优先权,所述专利申请的全部内容出于所有目的以引用的方式并入本文。
本公开总体涉及用于使用外部射束放射治疗系统进行放射疗法的治疗计划,并且更特别地涉及控制在治疗靶标之外的剂量分布并且使所述剂量分布成形。
技术介绍
一般而言,放射疗法包括使用电离辐射来治疗活组织,通常为肿瘤。有许多不同类型的电离辐射用于放射疗法中,包括高能x-射线、电子束和光子束。将放射线施用于患者的过程可能有点泛化,而不管所使用的放射线的类型如何。现代放射疗法技术包括调强放疗(“IMRT”)的使用,这通常借助于配备有多叶准直器(“MLC”)的外部放射治疗系统,诸如线性加速器。多叶准直器在一般以及尤其是IMRT领域中的使用允许放射科医师在改变放射束的形状和剂量的同时从通向靶标的给定入射方向治疗患者,从而在避免对邻近健康组织的过度辐照的同时提供大大增强的向治疗区内的靶标递送放射线的能力。然而,IMRT和其他复杂的放疗技术,诸如容积旋转调强放疗(VMAT,其中系统机架可在递送放射线的同时移动)和三维适形放疗(“3D适形”或“3DCRT”)提供给放射科医师的较大自由度已使得拟定治疗计划的任务变得更为困难。如本文所使用,术语 ...
【技术保护点】
1.一种在放射治疗计划中控制在患者的感兴趣的域内的一个或多个治疗靶区之外的剂量分布以用于使用外部射束放射治疗系统来将放射线递送到一个或多个治疗靶标的方法,所述方法包括:由计算机系统接收与所述一个或多个靶区有关的几何信息,其中所述一个或多个靶区包括第一靶区,并且其中所述几何信息包括所述第一靶区的轮廓信息;由所述计算机系统接收包括针对所述第一靶区的剂量下限的剂量处方;由所述计算机系统基于(i)所述第一靶区的所述轮廓信息和(ii)针对所述第一靶区的所述剂量下限而确定针对在所述第一靶区之外的体素的第一剂量下降约束轮廓,其中所述第一剂量下降约束轮廓包括针对在所述第一靶区之外的每个体素的、由第一剂量下降约束曲线限定的第一上限剂量约束;由所述计算机系统获得成本函数,所述成本函数包括第一项,所述第一项与在所述第一靶区之外的每个相应的体素处的剂量值相对于所述第一剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的对应值的超出量成比例;以及由所述计算机系统使用所述成本函数来确定最优治疗计划,其中所述最优治疗计划针对在所述第一靶区之外的体素产生符合所述第一剂量下降约束轮廓的剂量分布,并且其中所述最优放射治疗计划包括控制点序 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.22 US 15/273,3731.一种在放射治疗计划中控制在患者的感兴趣的域内的一个或多个治疗靶区之外的剂量分布以用于使用外部射束放射治疗系统来将放射线递送到一个或多个治疗靶标的方法,所述方法包括:由计算机系统接收与所述一个或多个靶区有关的几何信息,其中所述一个或多个靶区包括第一靶区,并且其中所述几何信息包括所述第一靶区的轮廓信息;由所述计算机系统接收包括针对所述第一靶区的剂量下限的剂量处方;由所述计算机系统基于(i)所述第一靶区的所述轮廓信息和(ii)针对所述第一靶区的所述剂量下限而确定针对在所述第一靶区之外的体素的第一剂量下降约束轮廓,其中所述第一剂量下降约束轮廓包括针对在所述第一靶区之外的每个体素的、由第一剂量下降约束曲线限定的第一上限剂量约束;由所述计算机系统获得成本函数,所述成本函数包括第一项,所述第一项与在所述第一靶区之外的每个相应的体素处的剂量值相对于所述第一剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的对应值的超出量成比例;以及由所述计算机系统使用所述成本函数来确定最优治疗计划,其中所述最优治疗计划针对在所述第一靶区之外的体素产生符合所述第一剂量下降约束轮廓的剂量分布,并且其中所述最优放射治疗计划包括控制点序列和多叶准直器(MLC)叶片序列以供所述外部射束放射治疗系统使用来递送所述放射线。2.如权利要求1所述的方法,其中确定所述最优治疗计划包括:由所述计算机系统识别多个候选放射治疗计划,每个候选放射治疗计划具有相应的控制点序列和相应的多叶准直器(MLC)叶片序列以用于使用所述外部射束放射治疗系统来递送所述放射线;针对所述多个候选放射治疗计划中的每一个:确定针对在所述第一靶区之外的体素的对应的剂量分布;以及基于所述对应的剂量分布和所述第一剂量下降约束轮廓而确定所述成本函数的所述第一项的值;以及在所述多个候选放射治疗计划中选择最小化所述成本函数的所述最优放射治疗计划。3.如权利要求1或2所述的方法,还包括:向所述外部射束放射治疗系统的控制电路传输所述最优放射治疗计划,以使所述外部射束放射治疗系统根据所述最优放射治疗计划的所述控制点序列和所述多叶准直器(MLC)叶片序列而将所述放射线递送到所述一个或多个治疗靶标。4.如权利要求1、2或3所述的方法,其中所述成本函数的所述第一项与在所述第一靶区之外的每个相应的体素处的所述剂量值相对于所述第一剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的所述对应值的所述超出量的平方成比例。5.如权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述第一剂量下降约束曲线根据远离所述第一靶区的表面并在正交于所述表面的方向上的距离而以指数方式大幅衰减。6.如权利要求5所述的方法,其中所述第一剂量下降约束曲线针对远离所述第一靶区的所述表面的距离渐近地衰减到针对所述第一靶区的所述剂量下限的预定百分率。7.如权利要求1至6中任一项所述的方法,其中:所述剂量处方还包括针对所述第一靶区的剂量上限;并且确定所述第一剂量下降约束轮廓是基于针对所述第一靶区的所述剂量下限和所述剂量上限两者。8.如权利要求1至7中任一项所述的方法,其中:所述一个或多个靶区还包括第二靶区;与所述一个或多个靶区有关的所述几何信息还包括所述第二靶区的轮廓信息;所述剂量处方还包括针对所述第二靶区的剂量下限;并且所述方法还包括:基于(i)所述第二靶区的所述轮廓信息和(ii)针对所述第二靶区的所述剂量下限而确定针对在所述第二靶区之外的体素的第二剂量下降约束轮廓,其中所述第二剂量下降约束轮廓包括针对在所述第二靶区之外的每个体素的、由第二剂量下降约束曲线限定的第二上限剂量约束;并且其中所述成本函数的所述第一项进一步与在所述第二靶区之外的每个相应的体素处的剂量值相对于所述第二剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的对应值的超出量成比例。9.如权利要求8所述的方法,其中所述第一剂量下降约束曲线和所述第二剂量下降约束曲线中的每一个针对远离所述第一靶区的所述表面和所述第二靶区的表面的距离渐近地衰减到以下中的较大者的预定百分率:(i)针对所述第一靶区的所述剂量下限和(ii)针对所述第二靶区的所述剂量下限。10.如权利要求8或9所述的方法,其中对于在所述第一靶区和所述第二靶区之外的区域中的每个相应的体素,所述成本函数的所述第一项与所述相应的体素处的剂量值相对于以下中的较大者的超出量成比例:(i)所述第一剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的对应值,以及(ii)所述第二剂量下降约束轮廓在所述相应的体素处的对应值。11.如权利要求10所述的方法,所述方法还包括:由所述计算机系统确定针对在所述第一靶区之外的体素的第一剂量下降约束包络,其中所述第一剂量下降约...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·奥尔里拉,M·韦尼奥,J·佩尔托拉,J·诺德,
申请(专利权)人:瓦里安医疗系统国际股份公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。