一种双面无掩模光刻系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种双面无掩模光刻系统。所述双面无掩模光刻系统包括：计算机控制及图形系统(100)、两个激光装置(100)，两个激光装置(100)在感光基板(400)的两侧各设置一个，计算机控制及图形系统(200)控制激光装置(100)在感光基板(400)的两侧同步进行照射，激光装置(100)包括：多个激光器(2)、多个调制开关(1)以及多个光纤(5)，并且每个激光器(2)对应一个调制开关(1)和一个光纤(5)，每个光纤(5)与对应的激光器(2)直接耦合，所述多个光纤(5)的出光口(52)排列成阵列而形成出光口阵列，所述调制开关(1)控制相应激光器(2)所发出的光束进入相应光纤(5)的通断。

A Two-sided Maskless Lithography System

【技术实现步骤摘要】
一种双面无掩模光刻系统
本技术涉及光刻
，特别是涉及一种双面无掩模光刻系统。
技术介绍
随着PCB朝向高密度互联HDI和多层化等趋势发展，PCB电路板需要更小的线宽和更高的对准精度。在高精度HDI多层线路板领域、平板显示器领域、集成电路封装领域，无掩模光刻设备与传统的光刻设备相比，在线宽精度、使用灵活、生产良率、生产管理、节约耗材、节约能源等方面具有明显优势，缺点主要是产能较低，设备一次性投入大等。为了解决精度和生产良率的问题，很多电路板生产目前都采用了单面曝光的无掩模曝光系统。在需要双面曝光的情况下，单面无掩模曝光系统不仅需要对第一面和第二面采取至少两次曝光，还需要对准过程以对准两侧的图案。由于较差的对准条件，这个过程会大大降低系统的生产率和产量。此外，现有技术中通常采用单激光束扫描技术，由于受到调制器频率和光学系统尺寸的限制，不可能做到大面积高速生产。另一个广泛使用的是以DMD器件为空间光调制器的多光束扫描技术，虽然采用了多光束技术，可以提高产能，但受到DMD器件接受能量的限制，使得激光功率无法提高，无法满足高能量感光材料的产能要求。因此，希望有一种技术方案来克服或至少减轻现有技术的上述缺陷中的至少一个。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种双面无掩模光刻系统来克服或至少减轻现有技术的上述缺陷中的至少一个。为实现上述目的，本技术提供一种双面无掩模光刻系统，所述双面无掩模光刻系统包括：计算机控制及图形系统、两个激光装置、以及移动平台，其中，所述移动平台用于驱动感光基板运动，两个激光装置在所述感光基板的两侧各设置一个，所述激光装置是如上所述的激光装置，所述计算机控制及图形系统控制所述激光装置在所述感光基板的两侧同步进行照射，所述激光装置包括：多个激光器、多个调制开关以及多个光纤，并且每个激光器对应一个调制开关和一个光纤，每个光纤与对应的激光器直接耦合，所述多个光纤的出光口排列成阵列而形成出光口阵列，其中，所述调制开关以控制相应激光器所发出的光束进入相应光纤的通断。优选地，所述移动平台为一维驱动平台，驱动所述感光基板沿设定直线运动，且所述激光装置的出光口阵列的行的延伸方向垂直于所述设定直线。优选地，所述激光装置的出光口阵列的行的延伸尺寸大于等于所述感光基板的最大感光宽度。优选地，所述移动平台的基板承载部为透明材质。优选地，所述两个激光装置的出光口阵列以位置可调的方式设置在同一个基座构件上。优选地，所述调制开关与计算机控制及图形系统信号连接，所述计算机控制及图形系统控制所述调制开关的开启和关闭，从而控制所述激光装置的出光口阵列所输出的图案。优选地，所述出光口阵列为矩形排列、交错排列或者正六边形蜂巢排列。优选地，所述出光口阵列由一行直线排列的出光口组成；或者由两行交错排列的出光口组成。优选地，所述调制开关的开关频率大于等于图形移动的频率。优选地，所述激光装置是紫外激光装置。本技术的激光装置中，激光器与光纤一一对应，多个光纤的出光口组成阵列，从而所述激光装置的激光器可以选用较小功率的激光器，而且不会受到调制器频率和光学系统尺寸的限制，也不会受到激光器或DMD器件接受能量的限制，能做到大面积高速生产，且能够满足高能量感光材料的产能要求。也就是说，可以解决激光功率低的问题，很好的解决了高能量感光材料光刻的需求。此外，本技术的双面无掩模光刻系统不需要进行两侧图案对齐，并且能够与传统的双面曝光设备和其他工艺兼容。尤其对于单面无掩模光刻设备来说，设备数量和成本都会大大增加。附图说明图1是根据本技术一实施例的激光装置的示意图。图2是根据本技术另一实施例的激光装置的示意图。图3是出光口阵列的第一形式的示意图。图4是出光口阵列的第二形式的示意图。图5是出光口阵列的第三形式的示意图。图6是出光口阵列的第四形式的示意图。图7是根据本技术一实施例的双面无掩模光刻系统的示意图。附图标记：100激光装置2激光器200计算机控制及图形系统3准直透镜300移动平台4耦合透镜400感光基板5光纤1调制开关52出光口具体实施方式在附图中，使用相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面结合附图对本技术的实施例进行详细说明。在本技术的描述中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术保护范围的限制。如图1和图2，本技术提供一种激光装置，所述激光装置100包括：多个激光器2、多个调制开关1以及多个光纤5，并且每个激光器2对应一个调制开关1和一个光纤5，每个光纤5与对应的激光器2直接耦合，所述多个光纤5的出光口52排列成阵列而形成出光口阵列，其中，所述调制开关1控制相应激光器2所发出的光束进入相应光纤5的通断。在图1所示的实施例中，调制开关1是电控制器件，直接控制激光器2的工作状态。例如，在开启状态，使得激光器2工作，向外发射激光；在断开状态，使得激光器不工作，不向外发射激光。更具体地，在一个可选实施例中，激光器2包括激光发生器和激光发射器，激光发生器发生激光，且在曝光过程中始终处于工作状态。激光发射器用于将激光发生器发生的激光向光纤投射。调制开关控制激光发射器，使之工作或不工作。从而，向光纤发射激光，或不发射激光。在图2所示的实施例中，调制开关1是遮挡机构，可以快速动作而在遮挡位置和敞开位置之间运动。所述遮挡位置对应于断开状态；所述敞开位置对应于开启状态。图2中遮挡机构的遮挡件的位置可以根据需要设置，有利的是，设置在激光器的出射口和光纤的出光口之间。此种结构的在另一个未图示的实施例中，调制开关1是反射镜，具体地是类似于DMD器件中反射镜的器件。能够在对准状态和非对准状态之间快速切换。在对准状态下，将激光器发射的激光反射至对应的光纤；在非对准状态下，将激光器发射的激光反射至无效区域。在一个优选的实施例中，在所述无效区域对激光进行能量回收。例如，对激光照射无效区域导致的温度升高而集聚的热能进行回收。可以采用水冷装置进行热能回收。通过控制前述的调制开关，就可以控制前述出光口阵列的出光图案。可以采用任何适当的装置来控制前述的调制开关。有利的是，采用并行的方式控制前述的调制开关。从而，减少出光口切换动作的时间偏差，提高曝光的一致性。如图所示，本技术的实施例采用计算机控制及图形系统200来控制调制开关1。具体地，所述调制开关1与计算机控制及图形系统200信号连接，所述计算机控制及图形系统200控制所述调制开关1的开启和关闭，从而控制所述激光装置100的出光口阵列所输出的图案。计算机控制及图形系统200一方面接收或生成曝光图案，同时，与所述曝光图案相对应生成所要求的出光口阵列所输出的图案，并根据所要求的出光口阵列所输出的图案来控制相应的调制开关1，以获得所要求的出光口阵列输出图案，进而最终得到所需的曝光图案。计算机控制及图形系统200可以采用现有技术中已有的任何适当的计算机系统，只要其能够实现前述的功能即可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面无掩模光刻系统，其特征在于，包括：计算机控制及图形系统(100)、两个激光装置(100)、以及移动平台(300)，其中，所述移动平台(300)用于驱动感光基板运动，两个激光装置(100)在所述感光基板(400)的两侧各设置一个，所述计算机控制及图形系统(200)控制所述激光装置(100)在所述感光基板(400)的两侧同步进行照射，其中，所述激光装置(100)包括：多个激光器(2)、多个调制开关(1)以及多个光纤(5)，并且每个激光器(2)对应一个调制开关(1)和一个光纤(5)，每个光纤(5)与对应的激光器(2)直接耦合，所述多个光纤(5)的出光口(52)排列成阵列而形成出光口阵列，其中，所述调制开关(1)控制相应激光器(2)所发出的光束进入相应光纤(5)的通断。

【技术特征摘要】
1.一种双面无掩模光刻系统，其特征在于，包括：计算机控制及图形系统(100)、两个激光装置(100)、以及移动平台(300)，其中，所述移动平台(300)用于驱动感光基板运动，两个激光装置(100)在所述感光基板(400)的两侧各设置一个，所述计算机控制及图形系统(200)控制所述激光装置(100)在所述感光基板(400)的两侧同步进行照射，其中，所述激光装置(100)包括：多个激光器(2)、多个调制开关(1)以及多个光纤(5)，并且每个激光器(2)对应一个调制开关(1)和一个光纤(5)，每个光纤(5)与对应的激光器(2)直接耦合，所述多个光纤(5)的出光口(52)排列成阵列而形成出光口阵列，其中，所述调制开关(1)控制相应激光器(2)所发出的光束进入相应光纤(5)的通断。2.根据权利要求1所述的双面无掩模光刻系统，其特征在于，所述移动平台(300)为一维驱动平台，驱动所述感光基板(400)沿设定直线运动，且所述激光装置(100)的出光口阵列的行的延伸方向垂直于所述设定直线。3.根据权利要求2所述的双面无掩模光刻系统，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李源，徐珍华，韩建崴，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44