一种全自动刷洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种全自动刷洗机，包括底板、具备旋转升降伸缩功能的机械手机构以及多组刷洗系统；所述底板上设置有触控显示屏，所述机械手机构位于所述底板中心位置处，所述刷洗系统包括进料机构、定位机构、横移机构与出料机构，所述定位机构包括底块与定位块，所述横移机构靠近所述定位机构一端设置有清洗机构，所述清洗机构上设置有刷头，所述进料机构、定位机构、出料机构均位于所述底板表面且沿所述底板周向间隔分布，所述触控显示屏与所述进料机构、机械手机构、清洗机构、横移机构、出料机构均电性连接。本实用新型专利技术能够快速对化合物半导体平面片进行洗刷操作，提高洗刷效率，并且保证了洗刷效果。

【技术实现步骤摘要】
一种全自动刷洗机
本技术属于刷洗清洁
，尤其涉及一种全自动刷洗机。
技术介绍
在电子器件的制作过程中，经常需要使用到化合物半导体平面片，化合物半导体平面片的应用要求其表面具有光滑、无缺陷、无损伤等特点，故而化合物半导体平面片在使用一段时间之后，需要对其进行洗刷。目前对于化合物半导体平面片的洗刷，一般采用人工方式进行操作，即操作工人对化合物半导体平面片一个个单独进行洗刷操作，这种方式需要消耗大量人力，效率低下，容易对化合物半导体平面片造成损伤，并且人工洗刷效果较差，容易影响化合物半导体平面片后续的使用。
技术实现思路
本技术克服了现有技术的不足，提供一种全自动刷洗机，能够快速对化合物半导体平面片进行洗刷操作，提高洗刷效率，并且保证了洗刷效果。为达到上述目的，本技术采用的技术方案为：一种全自动刷洗机，包括底板、具备旋转升降伸缩功能的机械手机构以及多组刷洗系统；所述底板上设置有触控显示屏，所述机械手机构位于所述底板中心位置处，所述刷洗系统包括进料机构、定位机构、横移机构与出料机构，所述进料机构上设置有进料输送带，所述定位机构包括底块与定位块，所述横移机构通过横移导轨与所述底板连接，所述横移机构靠近所述定位机构一端设置有清洗机构，所述清洗机构上设置有刷头，所述横移机构能够带动所述清洗机构沿所述横移导轨长度方向进行直线往复运动，所述出料机构上设置有出料输送带，所述进料机构、定位机构、出料机构均位于所述底板表面且沿所述底板周向间隔分布，所述触控显示屏与所述进料机构、机械手机构、清洗机构、横移机构、出料机构均电性连接。本技术一个较佳实施例中，所述刷洗系统数量为两组且关于所述底板中心对称。本技术一个较佳实施例中，所述底块位于所述底板上，所述定位块位于所述底块上，所述定位块上设置有真空吸盘。本技术一个较佳实施例中，当所述清洗机构移动至所述定位机构上方时，所述刷头与所述定位块位置对应。本技术一个较佳实施例中，所述导轨一侧设置有限位块。本技术一个较佳实施例中，所述横移机构通过丝杠与外部电机连接。本技术解决了
技术介绍
中存在的缺陷，本技术具备以下有益效果：通过机械手机构将待清洗的化合物半导体平面片移动至定位机构上，通过真空吸盘进行定位，而后在刷头的作用下，对化合物半导体平面片进行洗刷操作，保证了洗刷效果，并且多组刷洗系统的使用，能够极大提高刷洗效率。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明；图1为本技术的优选实施例的整体结构示意图；图中：1、底板；2、进料机构；3、机械手机构；4、定位机构；41、底块；42、定位块；5、清洗机构；6、横移机构；7、横移导轨；8、出料机构；9、触控显示屏；10、限位块。具体实施方式现在结合附图和实施例对本技术作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1所示，一种全自动刷洗机，包括底板1、具备旋转升降伸缩功能的机械手机构3以及多组刷洗系统；底板1上设置有触控显示屏9，机械手机构3位于底板1中心位置处，刷洗系统包括进料机构2、定位机构4、横移机构6与出料机构8，进料机构2上设置有进料输送带，定位机构4包括底块41与定位块42，横移机构6通过横移导轨7与底板1连接，横移机构6靠近定位机构4一端设置有清洗机构5，清洗机构5上设置有刷头，横移机构6能够带动清洗机构5沿横移导轨7长度方向进行直线往复运动，出料机构8上设置有出料输送带，进料机构2、定位机构4、出料机构8均位于底板1表面且沿底板1周向间隔分布，触控显示屏9与进料机构2、机械手机构3、清洗机构5、横移机构6、出料机构8均电性连接，本技术在使用过程中，触控显示屏9内设置有PLC控制器，由PLC控制器控制进料操作、机械手的抓取操作、横移操作、清洗操作以及后续的出料操作，首先，通过进料机构2的输送带持续进料，使用机械手机构3进行搬运，将待清洗的化合物半导体平面片移至定位机构4，通过真空吸盘进行定位，而后清洗机构5通过横移机构6移动至与待清洗化合物半导体平面片对应位置处，使刷头与待清洗化合物半导体平面片对应，再通过触控显示屏9内的PLC控制器控制刷头开始工作，实现对化合物半导体平面片的刷洗，刷洗完成之后，机械手机构3将完成清洗的化合物半导体平面片移至出料机构8，通过出料机构8的输送带将化合物半导体平面片运出。进一步地，刷洗系统数量为两组且关于底板1中心对称，两组刷洗系统的存在，能够极大地提高刷洗效率。具体地，底块41位于底板1上，定位块42位于底块41上，定位块42上设置有真空吸盘，由真空吸盘对化合物半导体平面片进行固定。具体而言，当清洗机构5移动至定位机构4上方时，刷头与定位块42位置对应。进一步地，导轨一侧设置有限位块10，限位块10能够对横移机构6移动的极限距离进行限定。具体地，横移机构6通过丝杠与外部电机连接，横移机构6的运动，通过外部电机带动丝杠进行转动，实现横移机构6的直线往复运动。总而言之，本技术通过机械手机构3将待清洗的化合物半导体平面片移动至定位机构4上，通过真空吸盘进行定位，而后在刷头的作用下，对化合物半导体平面片进行洗刷操作，保证了洗刷效果，并且多组刷洗系统的使用，能够极大提高刷洗效率。以上依据本技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关人员完全可以在不偏离本项技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种全自动刷洗机，其特征在于：包括底板、具备旋转升降伸缩功能的机械手机构以及多组刷洗系统；所述底板上设置有触控显示屏，所述机械手机构位于所述底板中心位置处，所述刷洗系统包括进料机构、定位机构、横移机构与出料机构，所述进料机构上设置有进料输送带，所述定位机构包括底块与定位块，所述横移机构通过横移导轨与所述底板连接，所述横移机构靠近所述定位机构一端设置有清洗机构，所述清洗机构上设置有刷头，所述横移机构能够带动所述清洗机构沿所述横移导轨长度方向进行直线往复运动，所述出料机构上设置有出料输送带，所述进料机构、定位机构、出料机构均位于所述底板表面且沿所述底板周向间隔分布，所述触控显示屏与所述进料机构、机械手机构、清洗机构、横移机构、出料机构均电性连接。

【技术特征摘要】
1.一种全自动刷洗机，其特征在于：包括底板、具备旋转升降伸缩功能的机械手机构以及多组刷洗系统；所述底板上设置有触控显示屏，所述机械手机构位于所述底板中心位置处，所述刷洗系统包括进料机构、定位机构、横移机构与出料机构，所述进料机构上设置有进料输送带，所述定位机构包括底块与定位块，所述横移机构通过横移导轨与所述底板连接，所述横移机构靠近所述定位机构一端设置有清洗机构，所述清洗机构上设置有刷头，所述横移机构能够带动所述清洗机构沿所述横移导轨长度方向进行直线往复运动，所述出料机构上设置有出料输送带，所述进料机构、定位机构、出料机构均位于所述底板表面且沿所述底板周向间隔分布，所述触控显示屏与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨杰，蒋君，孔玉朋，宋昌万，
申请(专利权)人：拓思精工科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32