【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光烧蚀装置和方法
本专利技术涉及脉冲激光沉积(PLD)中的激光扫描并且利用该技术涂覆各种材料。
技术介绍
脉冲激光沉积是一种技术,其中短激光脉冲用于从固体目标分离和释放材料,该过程称为激光烧蚀,并且分离的材料将行进到基底或基础材料上,其中它粘附并形成涂层。可以设计激光源,使得可以控制或选择脉冲的波长、脉冲长度、脉冲能量和重复率。此外,可以使用光学器件来控制例如目标表面上的激光脉冲的偏振、光斑尺寸和强度分布。在某些条件下,材料的分离可以在目标表面上没有显著的热加热的情况下发生。可以在目标表面上扫描激光脉冲,以增加被释放材料涂覆的区域并使目标能够平滑地磨损。另外,基底可以在涂覆区域中移动,以在基底上涂覆更大的区域。与这两者一起,有效的激光扫描和基底操作,使脉冲激光沉积方法更适用于工业涂覆工艺。基于PLD的方法的生产率是高度关注的,并且与现有技术的涂覆溶液相比,非常希望增加。提高基于PLD的涂覆方法的生产率或有效性的一种方法是增加激光脉冲的重复率和激光在目标上的扫描速度。高扫描速度可以通过旋转的光学元件(如镜)实现,其中激光脉冲被引导到其中。当镜绕轴旋转时,反射激光脉冲将被分配到由光学设备限定的角度。多面镜与特定扫描透镜一起是在平面表面上实现聚焦激光束的高扫描速度的常用且可商购的方式。基于旋转光学元件的扫描的简单实现是旋转单面镜,具有一个反射表面,其可以围绕旋转轴产生圆形扫描线,非常像灯塔中的原理。仍然存在各种可选设备,这些光学装置如何可以用于脉冲激光沉积,具有将目标相对于光学元件放置以及目标具有什么物理形状的若干可能性。FI20146142提出并描述了基于P ...
【技术保护点】
1.一种用于涂覆基底(64,75,86,94,104,116,126)的激光烧蚀装置,其中该装置包括:‑控制单元,‑发射激光脉冲的至少一个激光源,其特征在于,该装置还包括‑至少两个目标(11‑12,31‑34,41‑46,51‑53,62,73,84,92,102,114,124),其中至少两个目标中的每个的烧蚀表面形成为圆弧,‑至少两个可控制的扫描镜(13‑14,35‑36,47‑49,54‑56,61,72,83,91,101,112,122),每个分别围绕其轴是可旋转的,并且该扫描镜构造成以相同的角速度彼此同步旋转,‑可控制的光学开关(15,37,40,57),其能够将入射激光脉冲引导至至少两个不同的路径,其中入射激光脉冲指向光学开关(15,37,40,57)并且输出脉冲一次被引导到选定的扫描镜(13‑14,35‑36,47‑49,54‑56,61,72,83,91,101,112,122),并进一步指向至少两个目标中的选定目标,其中‑控制单元被构造为在选定的时间段内激活光学开关(15,37,40,57),使得烧蚀的材料(63,74,85,93,103,115,125)与至少两个 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.10 FI 201658461.一种用于涂覆基底(64,75,86,94,104,116,126)的激光烧蚀装置,其中该装置包括:-控制单元,-发射激光脉冲的至少一个激光源,其特征在于,该装置还包括-至少两个目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124),其中至少两个目标中的每个的烧蚀表面形成为圆弧,-至少两个可控制的扫描镜(13-14,35-36,47-49,54-56,61,72,83,91,101,112,122),每个分别围绕其轴是可旋转的,并且该扫描镜构造成以相同的角速度彼此同步旋转,-可控制的光学开关(15,37,40,57),其能够将入射激光脉冲引导至至少两个不同的路径,其中入射激光脉冲指向光学开关(15,37,40,57)并且输出脉冲一次被引导到选定的扫描镜(13-14,35-36,47-49,54-56,61,72,83,91,101,112,122),并进一步指向至少两个目标中的选定目标,其中-控制单元被构造为在选定的时间段内激活光学开关(15,37,40,57),使得烧蚀的材料(63,74,85,93,103,115,125)与至少两个目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124)连续分离,以便在基底(64,75,86,94,104,116,126)上形成涂层。2.根据权利要求1所述的激光烧蚀装置,其特征在于,所述目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124)的弧相加一起形成完整的圆。3.根据权利要求1或2所述的激光烧蚀装置,其特征在于,基底(64,75,86,94,104,116,126)放置在目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124)的近距离处,以便使烧蚀材料作为单层涂层或多层涂层粘附在基底上。4.根据权利要求1-3中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,存在两个目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124)由不同材料或材料组合物制成。5.根据权利要求1-4中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,所述目标(11-12,31-34,41-46,51-53,62,73,84,92,102,114,124)被成形为像圆环、圆柱体、圆锥体、截锥体、或在其端部倾斜或歪斜的圆柱形元件,或目标(11-12,31-34,41-6,51-53,62,73,84,92,102,114,124)是板。6.根据权利要求1-5中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,在烧蚀过程中,控制单元被构造为同时控制所有扫描镜(13-14,35-36,47-49,54-56,61,72,83,91,101,112,122)的旋转,以及光学开关(15,37,40,57)被装置成将激光脉冲引导到所选择的扫描镜达给定时间段。7.根据权利要求1-6中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,到达目标表面的激光脉冲是线性或椭圆或圆偏振的。8.根据权利要求1-7中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,对于所有扫描镜(13-14,35-36,47-49,54-56,61,72,83,91,101,112,122),通过旋转器件将旋转速度选择为相互相同。9.根据权利要求1-8中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,所述至少两个扫描镜(13-14,35-36,47-49,54-56,61,72,83,91,101,112,122)的旋转轴彼此平行排列。10.根据权利要求1-9中任一项所述的激光烧蚀装置,其特征在于,第一目标(11)由第一物质制成,第二目标(12)由不同于第一物质的第二物质制成,其中,所述装置被构造成在所述装置接通时制造在所述基底(64,75,...
【专利技术属性】
技术研发人员:V克科宁,M西尔塔宁,
申请(专利权)人:普尔塞德翁公司,
类型:发明
国别省市:芬兰,FI
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