一种镂空透明珐琅首饰制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，包括如下步骤：S1、珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；S2、填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上。本发明专利技术在制备过程中使用羧甲基纤维素来增加珐琅釉料的粘度，避免生产后的珐琅首饰出现大量的气泡和杂质，同时避免分段烧制导致打磨破损，同时避免变色，制备的首饰珐琅气泡和杂质少，打磨不易破损，产品质量高，解决了现有方法制备的珐琅首饰容易出现气泡和大量的杂质，影响珐琅首饰的品质的问题。

A preparation process of hollow transparent Enamel Jewelry

The invention discloses a hollow transparent Enamel Jewelry preparation process, which comprises the following steps: S1, enamel glaze treatment: dividing the hollow part with ribs and threads, adding carboxymethyl cellulose to the enamel glaze with hollow space less than 2.5 mm in diameter to adjust the paste viscosity; S2, filling enamel glaze: the bottom of the hollow position with a diameter exceeding 2.5 mm on the enamel jewelry. After the metal foil is affixed to the part, the enamel glaze is filled into all the hollow parts of the enamel jewelry. The invention uses carboxymethyl cellulose to increase the viscosity of enamel glaze in the preparation process, avoids a large number of bubbles and impurities in the Enamel Jewelry after production, avoids grinding damage caused by sectional firing guidance, avoids discoloration, and produces less bubbles and impurities in the enamel, which is not easy to grind, and has high product quality. The Enamel Jewelry prepared by the existing method is easy to appear. Bubbles and a large number of impurities affect the quality of enamel jewelry.

【技术实现步骤摘要】
一种镂空透明珐琅首饰制备工艺
本专利技术涉及首饰加工
，具体为一种镂空透明珐琅首饰制备工艺。
技术介绍
珐琅是一个外来语的音译词。珐琅一词源于中国隋唐时古西域地名拂菻。当时东罗马帝国和西亚地中海沿岸诸地制造的搪瓷嵌釉工艺品称拂菻嵌或佛郎嵌、佛朗机，简化为拂菻。出现景泰蓝后转音为发蓝，后又为珐琅。透明珐琅是珐琅器品种之一。在金属胎上用金属錾刻或锤花技法锤錾出浅浮雕，再罩以具透明或半透明性质的珐琅釉，经烧制后，显露出因图案线条粗细深浅不同而引起的视觉上明暗浓淡的变化。透明珐琅是在錾胎珐琅衰落时开始兴起并发展起来的。现有的透明珐琅制备方法制造的珐琅首饰容易出现气泡和大量的杂质，影响珐琅首饰的品质，为此，我们提出一种镂空透明珐琅首饰制备工艺。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，包括如下步骤：S1、珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；S2、填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；S3、烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；S4、抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；S5、电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。优选的，所述步骤S1中羧甲基纤维素的质量占珐琅釉料质量的0.06-0.08％，所述羧甲基纤维素的粘度为9500-10000Pa·s。优选的，所述步骤S2中金属箔片为金、银和铂族金属中的一种，且金属箔片的厚度为0.1-0.15毫米。优选的，所述步骤S4中的绿色蜡块是含铬的氧化物，所述抛光毛刷采用棕毛刷。优选的，所述步骤S4中粗抛光是将金属托架表面上的锉痕、钳痕、钻痕、毛刺以及接焊留下的黑色氧化层先行抛掉，达到金属托架平整、协调、弧度圆滑、线条流畅的要求。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术在制备过程中使用羧甲基纤维素来增加珐琅釉料的粘度，并未使用黄芪粉，避免生产后的珐琅首饰出现大量的气泡和杂质，且本技术方案的珐琅釉料一次填充完成，避免分段烧制导致打磨破损，同时避免变色，本技术方案制备的首饰珐琅气泡和杂质少，打磨不易破损，产品质量高，解决了现有方法制备的珐琅首饰容易出现气泡和大量的杂质，影响珐琅首饰的品质的问题。具体实施方式下面对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供一种技术方案：一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，包括如下步骤：S1、珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；S2、填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；S3、烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；S4、抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；S5、电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。实施例一：珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。实施例二：珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度，羧甲基纤维素的质量占珐琅釉料质量的0.06-0.08％，羧甲基纤维素的粘度为9500-10000Pa·s；填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。实施例三：珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度，羧甲基纤维素的质量占珐琅釉料质量的0.06-0.08％，羧甲基纤维素的粘度为9500-10000Pa·s；填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上，其中金属箔片为金、银和铂族金属中的一种，且金属箔片的厚度为0.1-0.15毫米；烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。实施例四：珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度，羧甲基纤维素的质量占珐琅釉料质量的0.06-0.08％，羧甲基纤维素的粘度为9500-10000Pa·s；填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上，其中金属箔片为金、银和铂族金属中的一种，且金属箔片的厚度为0.1-0.15毫米；烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光，绿色蜡块是含铬的氧化物，抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：S1、珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；S2、填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；S3、烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50‑60秒；S4、抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂‑绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；S5、电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2‑0.4毫米厚度后取出。

【技术特征摘要】
1.一种镂空透明珐琅首饰制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：S1、珐琅釉料处理：用筋线对镂空部分进行分割，向珐琅首饰上直径小于2.5毫米的镂空位的珐琅釉料中添加羧甲基纤维素调整浆料的粘度；S2、填充珐琅釉料：在珐琅首饰上直径超过2.5毫米的镂空位的底部贴上金属箔片后，将珐琅釉料填充到珐琅首饰所有的镂空部位上；S3、烧制：将珐琅首饰放置在超过800摄氏度的高温窑中烧制，高温窑中烧制的时间为50-60秒；S4、抛光处理：首先对珐琅首饰进行粗抛，然后开动抛光电动机，借电动机轴转动力量旋转上抛光毛刷，毛刷旋紧后将粗扫光剂-绿色蜡块涂抹在毛刷上进行抛光；S5、电镀处理：在铸液中铸件为阴模，表面活化处理后产生导电层，通过电泳作用使金属逐渐沉积在阴模表面，达到0.2-0.4毫米厚度后取出。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵国柱，
申请(专利权)人：深圳市中宝盈珠宝科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44