The invention relates to equipment in semiconductor production, in particular to a heating and cooling composite disk device for semiconductor equipment. Including heating zone, composite disk frame, cooling plate, cooling zone lifting mechanism, cooling plate conveying mechanism, heating plate lifting mechanism and cooling plate area, in which the heating zone and cooling plate area are set in the composite disk frame, the lifting mechanism of hot plate area is set in the heating zone of the hot plate, the lifting mechanism of the cooling zone and the cooling plate are set in the heating zone of the hot plate, and the lifting mechanism of the cooling zone and the cooling plate are set in the heating zone of the hot plate. The conveying mechanism is set in the cooling plate area, the cooling plate is set on the cooling plate conveying mechanism, the cooling plate conveying mechanism is used to transfer the cooling plate between the cooling plate area and the heating area of the hot plate, and the cooling zone lifting mechanism is used to pick up the wafer. After baking in the heating area of the hot disc, the cooling disc conveyor directly removes the wafer and transfers it to the cooling disc area, which reduces the time wasted on the conveying path of the wafer, and increases the efficiency of the equipment to process the wafer compared with the traditional manipulator to send the wafer.
【技术实现步骤摘要】
半导体设备加热冷却复合盘装置
本专利技术涉及半导体生产中的设备,特别涉及一种半导体设备加热冷却复合盘装置。
技术介绍
在半导体设备中,对晶圆的加热及冷却的精准控制是必不可少的环节,针对不同制成会产生不同的工艺配方,因而对设备的功能性要求日趋提高,传统半导体设备中加热及制冷盘分别处与设备不同位置,这中间对晶圆的传递主要依靠机械手臂完成,因而会收到机械手臂本身传递时间,传送条件等的影响。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术的目的在于提供一种半导体设备加热冷却复合盘装置,该装置集合热盘与冷盘于一体,用以形成均布的光刻胶及光刻胶图形。为了实现上述目的,本专利技术采用以下技术方案:一种半导体设备加热冷却复合盘装置,包括热盘加热区、复合盘框架、冷却盘、冷却区升降机构、冷却盘传送机构、热盘区升降机构及冷却盘区域,其中热盘加热区和冷却盘区域设置于复合盘框架内,所述热盘区升降机构设置于所述热盘加热区内,所述冷却区升降机构和所述冷却盘传送机构均设置于所述冷却盘区域内,所述冷却盘设置于所述冷却盘传送机构上,所述冷却盘传送机构用于将所述冷却盘在所述冷却盘区域与所述热盘加热区之间传送,所述冷却区升降机构用于接取晶圆。所述冷却盘传送机构包括水平导轨和直线驱动机构I,其中水平导轨沿靠近所述热盘加热区方向设置于所述冷却盘区域内,所述冷却盘与所述水平导轨滑动连接,所述直线驱动机构I与所述冷却盘连接,用于驱动所述冷却盘沿所述水平导轨运动。所述冷却区升降机构设置于所述冷却盘传送机构的下方。所述冷却区升降机构包括顶针组件I和直线驱动机构II,其中直线驱动机构II设置于所述冷却盘区域的底部、并且沿 ...
【技术保护点】
1.一种半导体设备加热冷却复合盘装置,其特征在于,包括热盘加热区(1)、复合盘框架(2)、冷却盘(3)、冷却区升降机构(4)、冷却盘传送机构(5)、热盘区升降机构(6)及冷却盘区域(7),其中热盘加热区(1)和冷却盘区域(7)设置于复合盘框架(2)内,所述热盘区升降机构(6)设置于所述热盘加热区(1)内,所述冷却区升降机构(4)和所述冷却盘传送机构(5)均设置于所述冷却盘区域(7)内,所述冷却盘(3)设置于所述冷却盘传送机构(5)上,所述冷却盘传送机构(5)用于将所述冷却盘(3)在所述冷却盘区域(7)与所述热盘加热区(1)之间传送,所述冷却区升降机构(4)用于接取晶圆。
【技术特征摘要】
1.一种半导体设备加热冷却复合盘装置,其特征在于,包括热盘加热区(1)、复合盘框架(2)、冷却盘(3)、冷却区升降机构(4)、冷却盘传送机构(5)、热盘区升降机构(6)及冷却盘区域(7),其中热盘加热区(1)和冷却盘区域(7)设置于复合盘框架(2)内,所述热盘区升降机构(6)设置于所述热盘加热区(1)内,所述冷却区升降机构(4)和所述冷却盘传送机构(5)均设置于所述冷却盘区域(7)内,所述冷却盘(3)设置于所述冷却盘传送机构(5)上,所述冷却盘传送机构(5)用于将所述冷却盘(3)在所述冷却盘区域(7)与所述热盘加热区(1)之间传送,所述冷却区升降机构(4)用于接取晶圆。2.根据权利要求1所述的半导体设备加热冷却复合盘装置,其特征在于,所述冷却盘传送机构(5)包括水平导轨和直线驱动机构I,其中水平导轨沿靠近所述热盘加热区(1)方向设置于所述冷却盘区域(7)内,所述冷却盘(3)与所述水平导轨滑动连接,所述直线驱动机构l与所述冷却盘(3)连接,用于驱动所述冷却...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹硕,
申请(专利权)人:沈阳芯源微电子设备股份有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁,21
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