一种阵列基板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板、其制作方法及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板，位于衬底基板上的多个顶发射型发光器件，位于发光器件与衬底基板之间的感光器件，以及位于感光器件与发光器件之间的折射层；折射层与感光器件具有设定距离，折射层至少覆盖各发光器件之间的间隙区域，折射层的折射率大于间隙区域内折射层靠近衬底基板一侧相邻膜层的折射率；感光器件在衬底基板上的正投影与发光器件在衬底基板上的正投影至少部分重叠。通过在发光器件之间设置高折射率的折射层可以使外界反射光能够照射更大的面积，从而可以将部分感光器件设置在发光器件所在区域，即增大了感光器件接收光的面积，从而可以提高感光器件输出信号的强度。

An array substrate, its fabrication method and display device

The invention discloses an array substrate, its fabrication method and display device. The array substrate includes: a substrate substrate, a plurality of top emitting light emitting devices located on the substrate, a photosensitive device located between the light emitting device and the substrate substrate, and a refractive layer located between the photosensitive device and the light emitting device; a refractive layer has a set distance from the photosensitive device, and a refractive layer is coated at least. The refractive index of the refractive layer in the gap area between the light emitting devices is larger than that of the adjacent film layer near the substrate in the gap area. The positive projection of the photosensitive device on the substrate overlaps at least partially with the positive projection of the light emitting device on the substrate. By setting a refractive layer with high refractive index between the light-emitting devices, the external reflected light can illuminate a larger area, so that part of the photosensitive devices can be set in the area where the light-emitting devices are located, that is, the area of the light-receiving devices is increased, thus the intensity of the output signal of the photosensitive devices can be enhanced.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、其制作方法及显示装置
本专利技术涉及显示面板
，尤其涉及一种阵列基板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的发展，人们日益追求全面屏显示，因此屏下指纹识别技术的研究显得尤为重要。相关技术中，为了实现屏下指纹识别，会在阵列基板中设置感光元件以对指纹反射光进行采集，但是由于在阵列基板中各发光器件存在遮光阳极层，会对外界反射光产生一定的遮挡，因此感光元件只能设置在阵列基板中各发光器件的间隙处，以获取到光信号，从而实现指纹信号的传输与识别。但是为了保证显示面板的开口率，阵列基板中各发光器件之间的间隙的面积较小，这就会限制感光元件的受光面积，从而导致指纹识别信号较弱。因此，如何提高感光元件接受光的面积以提高信号强度是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板、其制作方法及显示装置，用以解决相关技术中感光元件接受光的面积较小导致信号强度较弱的技术问题。本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的多个顶发射型发光器件，位于所述发光器件与所述衬底基板之间的感光器件，以及位于所述感光器件与所述发光器件之间的折射层；所述折射层与所述感光器件具有设定距离，所述折射层至少覆盖各所述发光器件之间的间隙区域，所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率；所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，在所述发光器件指向所述衬底基板的方向上，位于所述发光器件与所述感光器件之间的各膜层的折射率依次降低。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述感光器件部分位于所述间隙区域，部分位于所述发光器件的下方。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述感光器件在所述衬底基板的正投影完全覆盖所述间隙区域。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述感光器件包括：与所述折射层呈第一预设距离的第一感光元件，以及与所述折射层呈第二预设距离的第二感光元件，其中，所述第一预设距离小于所述第二预设距离；所述第一感光元件在所述衬底基板上的正投影仅覆盖所述间隙区域，所述第二感光元件至少部分位于所述发光器件的下方；其中，所述第一感光元件与所述第二感光元件并联设置。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第二感光元件在所述衬底基板上的正投影位于所述间隙区域。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第二感光元件在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一感光元件在所述衬底基板上的正投影。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第一预设距离的取值范围为0.5μm～1μm；所述第一感光元件与所述第二感光元件之间的垂直距离的取值范围为0.5μm～1μm。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述第二感光器件与所述衬底基板之间的读取晶体管；所述第一感光元件和所述第二感光元件均包括上电极和下电极；所述第一感光元件的下电极和所述第二感光元件的下电极均与所述读取晶体管的源电极相连；所述第一感光元件的上电极和所述第二感光元件的上电极均与偏置信号线相连。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述第一感光元件与所述第二感光元件之间的第一绝缘层，以及位于所述第一感光元件与所述折射层之间的第二绝缘层；所述第二绝缘层的折射率大于所述第一绝缘层的折射率。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述折射层背离所述衬底基板一侧的像素界定层；所述像素界定层的折射率大于所述第二绝缘层的折射率。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述折射层的材料包括：Si3N4和/或环氧树脂。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述感光元件包括光电二极管。另一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板的制作方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成感光器件，其中，所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠；在所述感光器件背离所述衬底基板的一侧形成至少覆盖所述间隙区域的折射层，其中，所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，当所述感光器件包括第一感光元件和第二感光元件时；所述方法包括：在所述衬底基板上形成所述第二感光元件，其中，所述第二感光元件至少部分位于所述发光器件的下方；在所述第二感光元件背离所述衬底基板一侧形成第一绝缘层的图形；在所述第一绝缘层背离所述衬底基板的一侧形成所述第一感光元件，其中，所述第一感光元件在所述衬底基板上的正投影仅覆盖所述间隙区域；在所述第一感光元件背离所述衬底基板一侧形成第二绝缘层图形；在所述第二绝缘层背离所述衬底基板一侧形成所述折射层。另一方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括上述任一实施例所述的阵列基板。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供了一种阵列基板、其制作方法及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板，位于所述衬底基板上的多个顶发射型发光器件，位于所述发光器件与所述衬底基板之间的感光器件，以及位于所述感光器件与所述发光器件之间的折射层；所述折射层与所述感光器件具有设定距离，所述折射层至少覆盖各所述发光器件之间的间隙区域，所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率；所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。通过在发光器件之间设置高折射率的折射层可以使外界反射光能够照射更大的面积，从而可以将部分感光器件设置在发光器件所在区域，即增大了感光器件接收光的面积，从而可以提高感光器件输出信号的强度。附图说明图1为相关技术中阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图之一；图3为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图之二；图4为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图之三；图5为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图之四；图6为本专利技术实施例提供的阵列基板的结构示意图之五；图7a-图7e为本专利技术实施例提供的阵列基板的制作过程的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图。具体实施方式相关技术中，如图1所示，为了实现屏下指纹识别，会在阵列基板中设置感光元件02以对指纹反射光进行采集。具体为，依次在衬底基板01上形成感光元件02、绝缘层图形03、发光器件的阳极层04以及像素界定层05，由于位于衬底基板01上的各发光器件存在遮光阳极层04，会对外界反射光产生一定的遮挡，因此感光元件02只能设置在衬底基板01中各发光器件的间隙处，以获取到光信号，从而实现指纹信号的传输与识别。但是为了保证显示面板的开口率，衬底基板01中各发光器件之间的间隙的面积较小，这就会限制感光元件02的受光面积，从而导致指纹识别信号较弱。针对相关技术中的阵列基板存在的上述技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的多个顶发射型发光器件，位于所述发光器件与所述衬底基板之间的感光器件，以及位于所述感光器件与所述发光器件之间的折射层；所述折射层与所述感光器件具有设定距离，所述折射层至少覆盖各所述发光器件之间的间隙区域，所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率；所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的多个顶发射型发光器件，位于所述发光器件与所述衬底基板之间的感光器件，以及位于所述感光器件与所述发光器件之间的折射层；所述折射层与所述感光器件具有设定距离，所述折射层至少覆盖各所述发光器件之间的间隙区域，所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率；所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述发光器件指向所述衬底基板的方向上，位于所述发光器件与所述感光器件之间的各膜层的折射率依次降低。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述感光器件部分位于所述间隙区域，部分位于所述发光器件的下方。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述感光器件在所述衬底基板的正投影完全覆盖所述间隙区域。5.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述感光器件包括：与所述折射层呈第一预设距离的第一感光元件，以及与所述折射层呈第二预设距离的第二感光元件，其中，所述第一预设距离小于所述第二预设距离；所述第一感光元件在所述衬底基板上的正投影仅覆盖所述间隙区域，所述第二感光元件至少部分位于所述发光器件的下方；其中，所述第一感光元件与所述第二感光元件并联设置。6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第二感光元件在所述衬底基板上的正投影位于所述间隙区域。7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第二感光元件在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一感光元件在所述衬底基板上的正投影。8.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一预设距离的取值范围为0.5μm～1μm；所述第一感光元件与所述第二感光元件之间的垂直距离的取值范围为0.5μm～1μm。9.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述第二感光器件与所述衬底基板之间的读取晶体管；所述第一感光元件和所述第二感光元件均包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘清召，王国强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11