一种高效真空磁控溅射设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种高效真空磁控溅射设备，包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有下遮挡板，下遮挡板上设有若干第一导粉通孔，下遮挡板的下方设有粉末收集盒，粉末收集盒内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括第二导粉通孔和第三导粉通孔，粉末清除机构还包括除粉擦，除粉擦的下表面与下遮挡板的上表面相贴合，除粉擦的下方设有驱动除粉擦沿第一导粉通孔的长度方向往复直线运动的驱动机构。本实用新型专利技术通过除粉擦将落在下遮挡板上的粉末状颗粒扫入到粉末收集盒中，大大减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率。

A High Efficiency Vacuum Magnetron Sputtering Equipment

The utility model provides an efficient vacuum magnetron sputtering device, which comprises a vacuum sputtering chamber and a target set in a vacuum sputtering chamber. Under the target, a lower shield plate is provided with a number of first powder-guiding through holes. Under the lower shield plate, a powder collecting box is provided with a powder-cleaning mechanism. The powder-cleaning mechanism includes a second powder-guiding through hole and a second powder-guiding through hole. The powder removal mechanism also includes a powder removal mechanism. The lower surface of the powder removal mechanism fits the upper surface of the lower shield plate. The lower surface of the powder removal mechanism is provided with a driving mechanism to drive the powder removal to move in a straight line along the length direction of the first powder removal through hole. The utility model sweeps the powder particles falling on the lower shield plate into the powder collection box by removing powder eraser, greatly reduces the cleaning or replacement frequency of the lower shield plate under the target material, and improves the crop mobility of the equipment.

【技术实现步骤摘要】
一种高效真空磁控溅射设备
本技术属于玻璃镀膜
，具体涉及一种高效真空磁控溅射设备。
技术介绍
真空溅射镀膜是利用靶材发生溅射，使溅射物附着在工件表面形成膜层，即达到镀膜，磁控溅射镀膜机是常见的真空溅射镀膜设备。真空磁控溅射时，基板和靶材正对间隔放置在真空溅射室中，在基板和靶材的四周围设有遮挡板，遮挡板遮挡住从靶材上溅射出来的靶材粒子，防止靶材粒子溅射到真空溅射室的内壁。靶材粒子不断地在遮挡板的表面沉积，形成粉末状的颗粒。由于重力的作用，位于靶材下方的遮挡板上积累的粉末状颗粒尤其多。为避免遮挡板上沉积过多的靶材粒子，在使用一段时间后需要打开真空溅射室对遮挡板进行清洁或者定期更换遮挡板，操作繁琐，在此期间磁控溅射设备无法使用，设备稼动率较低。
技术实现思路
有鉴于此，本技术旨在提出一种高效真空磁控溅射设备，该设备可以减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率。为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：一种高效真空磁控溅射设备，包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有上遮挡板，靶材的下方设有下遮挡板，靶材的两侧设有侧遮挡板，下遮挡板上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔，下遮挡板的下方设有粉末收集盒，粉末收集盒内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括设于下遮挡板上且相互平行的第二导粉通孔和第三导粉通孔，第二导粉通孔长度方向与第一导粉通孔的长度方向相垂直，第二导粉通孔位于第一导粉通孔的一端，第三导粉通孔位于第一导粉通孔的另一端，第二导粉通孔、第三导粉通孔均与各第一导粉通孔相连通，粉末清除机构还包括除粉擦，除粉擦与第一导粉通孔一一对应，除粉擦的下表面与下遮挡板的上表面相贴合，除粉擦的下方设有驱动除粉擦沿第一导粉通孔的长度方向在第二导粉通孔与第一导粉通孔之间往复直线运动的驱动机构。进一步的，驱动机构包括若干移动分杆和一个连接各移动分杆的移动总杆，移动分杆与除粉擦一一对应，移动分杆的上端穿过第一导粉通孔与除粉擦固定连接，移动分杆的下端位于粉末收集盒内，移动总杆与移动分杆的下端固定连接，粉末收集盒的外壁上设有气缸，气缸的伸缩杆穿过粉末收集盒的侧壁与移动总杆固定连接以驱动移动总杆沿第一导粉通孔的长度方向往复直线运动。进一步的，第一导粉通孔共有六个，第一导粉通孔的长度方向与下遮挡板的宽度方向相同。进一步的，第一导粉通孔的横截面呈上大下小的梯形，移动分杆的直径小于第一导粉通孔的最下端的宽度。进一步的，各除粉擦位于同一条直线上，相邻的除粉擦之间无间隙，除粉擦的下表面设有刷毛。进一步的，上遮挡板的内表面均匀分布有多个尖刺状的凸起。进一步的，粉末收集盒的材质为透明的亚克力板。相对于现有技术，本技术所述的高效真空磁控溅射设备具有以下优势：(1)本技术所述的高效真空磁控溅射设备，通过除粉擦将落在下遮挡板上的粉末状颗粒扫入到粉末收集盒中，大大减少位于靶材下方的下遮挡板的清洁或者更换频率，提高设备的稼动率；(2)本技术所述的高效真空磁控溅射设备，上遮挡板的内表面均匀分布有多个凸起，凸起使得上遮挡板的面积变大，有利于提高上遮挡板容纳粉末状颗粒的能力。附图说明构成本技术的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1为本技术实施例所述的高效真空磁控溅射设备(省略了真空溅射室)的立体图；图2为本技术实施例所述的高效真空磁控溅射设备的剖视图；图3为本技术实施例所述的高效真空磁控溅射设备的剖视图；图4为图3的局部视图；图5为本技术实施例所述的高效真空磁控溅射设备的除粉擦靠近第二导粉通孔的状态图；图6为本技术实施例所述的高效真空磁控溅射设备的除粉擦位于第二导粉通孔和第三导粉通孔之间的状态图。附图标记说明：1、基片固定板；2、靶材安装座；3、上遮挡板；31、凸起；4、下遮挡板；41、第一导粉通孔；42、第二导粉通孔；43、第三导粉通孔；5、侧遮挡板；6、粉末收集盒；7、除粉擦；71、刷毛；8、驱动机构；81、移动分杆；82、移动总杆；83、气缸。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。一种高效真空磁控溅射设备，结合图1和图3所示，包括真空溅射室(图中未示出)、设置在真空溅射室内的靶材。靶材的下方设有上遮挡板3，靶材的下方设有下遮挡板4，靶材的两侧设有侧遮挡板5。上遮挡板3、下遮挡板4和侧遮挡板5围合形成棱柱筒状，筒状的轴线水平。真空溅射室内设有用于放置待镀膜玻璃基片的基片固定板1和靶材安装座2，基片固定板1和靶材安装座2正对设置，靶材设置在靶材安装座2的朝向基片固定板1的一侧的中部。上遮挡板3、下遮挡板4和侧遮挡板5与基片固定板1可拆卸连接。在真空磁控溅射镀膜时，靶材被激发溅射出大量的靶材粒子，激发出的靶材粒子大部分沉积在玻璃上形成镀膜层，少部分沉积在上遮挡板3、下遮挡板4和侧遮挡板5上形成粉末状颗粒，下遮挡板4上的粉末状颗粒尤其多。结合图2、图3和图4所示，为方便沉积在下遮挡板4上的粉末状颗粒落下，下遮挡板4上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔41。第一导粉通孔41共有六个，第一导粉通孔41的长度方向与下遮挡板4的宽度方向相同。下遮挡板4的下方设有粉末收集盒6，粉末收集盒6内设有粉末清除机构。如图2所示，粉末清除机构包括设于下遮挡板4上且相互平行的第二导粉通孔42和第三导粉通孔43，第二导粉通孔42长度方向与第一导粉通孔41的长度方向相垂直。第二导粉通孔42位于第一导粉通孔41的一端，第三导粉通孔43位于第一导粉通孔41的另一端，第二导粉通孔42、第三导粉通孔43均与各第一导粉通孔41相连通。结合图2和图4所示，粉末清除机构还包括除粉擦7，除粉擦7与第一导粉通孔41一一对应。各除粉擦7位于同一条直线上，相邻的除粉擦7之间无间隙，除粉擦7的下表面设有刷毛71。刷毛71与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高效真空磁控溅射设备，其特征在于：包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有上遮挡板(3)，靶材的下方设有下遮挡板(4)，靶材的两侧设有侧遮挡板(5)，下遮挡板(4)上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔(41)，下遮挡板(4)的下方设有粉末收集盒(6)，粉末收集盒(6)内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括设于下遮挡板(4)上且相互平行的第二导粉通孔(42)和第三导粉通孔(43)，第二导粉通孔(42)长度方向与第一导粉通孔(41)的长度方向相垂直，第二导粉通孔(42)位于第一导粉通孔(41)的一端，第三导粉通孔(43)位于第一导粉通孔(41)的另一端，第二导粉通孔(42)、第三导粉通孔(43)均与各第一导粉通孔(41)相连通，粉末清除机构还包括除粉擦(7)，除粉擦(7)与第一导粉通孔(41)一一对应，除粉擦(7)的下表面与下遮挡板(4)的上表面相贴合，除粉擦(7)的下方设有驱动除粉擦(7)沿第一导粉通孔(41)的长度方向在第二导粉通孔(42)与第一导粉通孔(41)之间往复直线运动的驱动机构(8)。

【技术特征摘要】
1.一种高效真空磁控溅射设备，其特征在于：包括真空溅射室、设置在真空溅射室内的靶材，靶材的下方设有上遮挡板(3)，靶材的下方设有下遮挡板(4)，靶材的两侧设有侧遮挡板(5)，下遮挡板(4)上设有若干截面呈长方形且相互平行的第一导粉通孔(41)，下遮挡板(4)的下方设有粉末收集盒(6)，粉末收集盒(6)内设有粉末清除机构，粉末清除机构包括设于下遮挡板(4)上且相互平行的第二导粉通孔(42)和第三导粉通孔(43)，第二导粉通孔(42)长度方向与第一导粉通孔(41)的长度方向相垂直，第二导粉通孔(42)位于第一导粉通孔(41)的一端，第三导粉通孔(43)位于第一导粉通孔(41)的另一端，第二导粉通孔(42)、第三导粉通孔(43)均与各第一导粉通孔(41)相连通，粉末清除机构还包括除粉擦(7)，除粉擦(7)与第一导粉通孔(41)一一对应，除粉擦(7)的下表面与下遮挡板(4)的上表面相贴合，除粉擦(7)的下方设有驱动除粉擦(7)沿第一导粉通孔(41)的长度方向在第二导粉通孔(42)与第一导粉通孔(41)之间往复直线运动的驱动机构(8)。2.根据权利要求1所述的高效真空磁控溅射设备，其特征在于：驱动机构(8)包括若干移动分杆(81)和一个连接各移动分杆(81)的移动总杆(82)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜彦，王烁，刘双，宁超，李鹏，
申请(专利权)人：天津南玻节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12