【技术实现步骤摘要】
显示装置和用于制造显示装置的方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年10月30日提交的第10-2017-0142792号韩国专利申请以及于2018年1月30日提交的第10-2018-0011478号韩国专利申请的优先权以及从其获得的所有权益,这些韩国专利申请的内容通过引用以其整体并入本文。
本专利技术示例性实施方式涉及在密封单元与衬底之间的联接力和紫外(“UV”)光阻挡能力方面得到改善的显示装置以及涉及制造显示装置的方法。
技术介绍
与具有重量大和体积大的缺点的阴极射线管(“CRT”)相比,具有重量和体积得到减小的优点的显示装置可包括例如液晶显示(“LCD”)装置、场发射显示(“FED”)装置、等离子显示面板(“PDP”)装置和有机发光二极管(“OLED”)显示装置。在这些显示装置之中,OLED显示装置使用OLED来显示图像,其中,OLED通过电子与空穴的复合来产生光。
技术实现思路
包含在太阳光中的紫外(“UV”)光被施加到有机发光二极管(“OLED”)显示装置的阻光层,并且可能从包括有机材料的阻光层中产生废气。这种废气损坏OLED,而这可能导致如像素收缩的缺陷。本专利技术示例性实施方式可涉及能够增强密封单元与衬底之间的联接力并且具有优异的UV光阻挡能力的显示装置、以及制造显示装置的方法。根据本专利技术示例性实施方式,显示装置包括衬底、像素电路单元、阻光层、发光层和密封单元,其中,像素电路单元布置在衬底上并且像素电路单元中限定有第一孔,阻光层布置在像素电路单元上并且阻光层中限定有第二孔,第二孔定位成与第一孔对应,发光层布置在像素电路单元上以与由阻光层限定 ...
【技术保护点】
1.显示装置,包括:衬底;像素电路单元,所述像素电路单元布置在所述衬底上,并且具有第一孔;阻光层,所述阻光层布置在所述像素电路单元上,并且具有第二孔,所述第二孔定位成与所述第一孔对应;发光层,所述发光层布置在所述像素电路单元上,以与由所述阻光层限定的发光区域对应;以及密封单元,所述密封单元位于所述阻光层上,其中,所述衬底包括:第一层,所述第一层具有与所述第一孔对应的凹陷部;以及第二层,所述第二层布置在所述第一层与所述像素电路单元之间,并且具有位于所述凹陷部与所述第二孔之间的第三孔,所述密封单元包括:盖部,所述盖部布置在所述阻光层上;以及延伸部,所述延伸部从所述盖部延伸以插入到所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部中,以及所述凹陷部具有比所述第三孔的宽度大的宽度。
【技术特征摘要】
2017.10.30 KR 10-2017-0142792;2018.01.30 KR 10-2011.显示装置,包括:衬底;像素电路单元,所述像素电路单元布置在所述衬底上,并且具有第一孔;阻光层,所述阻光层布置在所述像素电路单元上,并且具有第二孔,所述第二孔定位成与所述第一孔对应;发光层,所述发光层布置在所述像素电路单元上,以与由所述阻光层限定的发光区域对应;以及密封单元,所述密封单元位于所述阻光层上,其中,所述衬底包括:第一层,所述第一层具有与所述第一孔对应的凹陷部;以及第二层,所述第二层布置在所述第一层与所述像素电路单元之间,并且具有位于所述凹陷部与所述第二孔之间的第三孔,所述密封单元包括:盖部,所述盖部布置在所述阻光层上;以及延伸部,所述延伸部从所述盖部延伸以插入到所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部中,以及所述凹陷部具有比所述第三孔的宽度大的宽度。2.如权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹陷部具有沿从所述第一层朝向所述第二层的方向逐渐增加的宽度。3.如权利要求2所述的显示装置,其中,所述凹陷部的相互面对的内壁中的至少一个内壁相对于所述第一层与所述第二层之间的界面倾斜预定角度。4.如权利要求3所述的显示装置,其中,所述凹陷部的相互面对的内壁中的所述至少一个内壁与所述界面之间限定的角度为钝角。5.如权利要求1所述的显示装置,其中,在平面图中,所述第三孔被所述凹陷部围绕。6.如权利要求1所述的显示装置,其中,所述第三孔与所述凹陷部重叠。7.如权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部位于所述衬底的显示区域和非显示区域中的至少一个中。8.如权利要求7所述的显示装置,其中,所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部位于布置在所述显示区域中并且彼此相邻的高电位线与数据线之间。9.如权利要求7所述的显示装置,还包括:驱动电路单元,所述驱动电路单元位于所述非显示区域中,并且连接到所述像素电路单元的扫描线或发射控制线。10.如权利要求9所述的显示装置,还包括:多个时钟线,所述多个时钟线布置在所述非显示区域中,并且连接到所述驱动电路单元,其中,所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部位于所述多个时钟线中相邻的时钟线之间。11.如权利要求1所述的显示装置,其中,所述凹陷部的相互面对的内壁中的一个内壁和所述第一孔的相互面对的内壁中的一个内壁位于直线上。12.如权利要求1所述的显示装置,其中,所述第一层和所述第二层中的一个包括有机材料,并且所述第一层和所述第二层中的另一个包括无机材料。13.显示装置,包括:衬底;像素电路单元,所述像素电路单元位于所述衬底上;阻光层,所述阻光层布置在所述像素电路单元上,并且具有第一孔;发光层,所述发光层布置在所述像素电路单元上,以与由所述阻光层限定的发光区域对应;以及密封单元,所述密封单元布置在所述阻光层上,其中,所述像素电路单元包括:第一层,所述第一层具有与所述第一孔对应的凹陷部;第二层,所述第二层布置在所述第一层上,并且具有位于所述凹陷部与所述第一孔之间的第二孔;以及第三层,所述第三层布置在所述第二层上,并且具有位于所述第二孔与所述第一孔之间的第三孔,所述密封单元包括:盖部,所述盖部布置在所述阻光层上;以及延伸部,所述延伸部从所述盖部延伸以插入到所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部中,以及所述凹陷部具有比所述第二孔的宽度大的宽度。14.如权利要求13所述的显示装置,其中,所述凹陷部具有沿从所述第一层朝向所述第二层的方向逐渐增加的宽度。15.如权利要求14所述的显示装置,其中,所述凹陷部的相互面对的内壁中的至少一个内壁相对于所述第一层与所述第二层之间的界面倾斜预定角度。16.如权利要求15所述的显示装置,其中,所述凹陷部的相互面对的内壁中的所述至少一个内壁与所述界面之间限定的角度为钝角。17.如权利要求13所述的显示装置,其中,所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部位于所述衬底的显示区域和非显示区域中的至少一个中。18.制造显示装置的方法,所述方法包括:制备载体衬底;在所述载体衬底上顺序地形成第一层和第二层;在所述第二层上形成像素电路单元;在所述像素电路单元上形成阻光层,所述阻光层限定发光区域;形成穿过所述阻光层的第一孔;形成穿过所述像素电路单元的绝缘层的、与所述第一孔对应的第二孔;形成穿过所述第二层的、与所述第二孔对应的第三孔;在所述第一层中形成凹陷部,以与所述第三孔对应,其中,所述凹陷部具有比所述第三孔的宽度大的宽度;以及形成密封单元,其中,所述密封单元包括:盖部,所述盖部位于所述阻光层上;以及延伸部,所述延伸部从所述盖部延伸以埋入所述第一孔、所述第二孔、所述第三孔和所述凹陷部中。19.如权利要求18所述的方法,其中,所述凹陷部通过氧干蚀刻或激光束来限定。20.如权利要求18所述的方法,其中,所述第一层包括有机材料,并且所述第二层包括无机材料。21.如权利要求18所述的方法,其中,当通过选择性地去除所述第二层来限定所述第三孔时,一同去除所述显示装置的弯曲部的绝缘层。22.显示装置,包括:衬底;开关元件,所述开关元件位于所述衬底上;像素电极,所述像素电极布置在所述开关元件上,并且连接到所述开关元件;发光层,所述发光层位于所述像素电极上;公共电极,所述公共电极位于所述发光层上;以及密封单元,所述密封单元布置在所述公共电极上,其中,所述密封单元包括:有机层;以及至少一个第一复合无机层,所述至少一个第一复合无机层布置在所述有机层与所述公共电极之间,所述至少一个第一复合无机层包括:第一无机层,所述第一无机层位于所述公共电极与所述有机层之间;以及第二无机层,所述第二无机层位于所述第一无机层与所述有机层之间,以及所述第一无机层和所述第二无机层具有彼此不同的折射率,并且彼此接触。23.如权利要求22所述的显示装置,其中,所述第一无机层的所述折射率高于所述第二无机层的所述折射率。24.如权利要求22所述的显示装置,其中,所述第一无机层的所述折射...
【专利技术属性】
技术研发人员:成宇镛,徐政汉,尹瓘赫,金秀燕,金锺棋,尹昇好,李禧缘,张文源,
申请(专利权)人:三星显示有限公司,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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