清洗方法以及清洗装置制造方法及图纸

本公开内容的清洗方法具有以下工序：蒸汽清洗工序，对被处理物(W)进行蒸汽清洗；挥发清洗工序，使附着在被处理物(W)的液体污垢成分挥发；浸渍清洗工序，使被处理物(W)浸渍于清洗液；干燥工序，干燥所述被处理物(W)，交替地多次重复所述挥发清洗工序与所述浸渍清洗工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗方法以及清洗装置
本公开内容涉及清洗方法以及清洗装置。本申请基于2016年12月7日在日本申请的特愿2016-237653号主张优先权，在此引用其内容。
技术介绍
例如，在专利文献1中公开了一种真空清洗机，具备：蒸汽清洗室，对工件(被清洗物)进行蒸汽清洗；浸渍室，对工件进行浸渍清洗。利用蒸汽清洗室对工件实施蒸汽清洗后，利用浸渍室对工件实施浸渍清洗。进而使减压状态的冷凝室与蒸汽清洗室连通，由此对蒸汽清洗室的工件实施干燥处理。现有技术文献专利文献专利文献1：日本国特开平6-220672号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题采用这样的真空清洗机的真空脱脂清洗方法被应用于各种形状的被处理物，但是在垂直方向的上表面形成有凹部的被处理物的情况下，难以通过蒸汽清洗来清洗凹部的污垢。进而，即便在浸渍清洗中，也存在不能够充分地去除凹部的污垢的情况。因此，在将在垂直方向的上表面形成有凹部的被处理物搬入至专利文献1的真空清洗机时，需要进行如下的配置：以凹部朝向侧方或者下方的方式来改变被处理物的姿态。然而，能够想到作为真空清洗机的对象的被处理物的形状并不固定，存在有在各表面形成凹部或者槽等的复杂的形状的情况。进而，还能够想到各种形状的被处理物在混载状态下被搬入至真空清洗机的情况。在这些情况下，难以变更被处理物的姿态以便容易清洗，被处理物的污垢有可能未被充分地清洗。本公开内容是鉴于上述问题点而完成的，目的是提供一种清洗方法以及清洗装置，即便对于形状复杂的被处理物也能够以不变更被处理物的姿态的方式进行清洗。用于解决上述技术问题的方案本公开内容的一方案的清洗方法，具备以下工序：蒸汽清洗工序，对被处理物进行蒸汽清洗；挥发清洗工序，使附着在上述被处理物的液体污垢成分挥发；浸渍清洗工序，使上述被处理物浸渍于清洗液；干燥工序，使上述被处理物干燥，其中，交替地多次重复上述挥发清洗工序与上述浸渍清洗工序。本公开内容的一方案的清洗装置具备：蒸汽清洗装置，对被处理物进行蒸汽清洗；挥发清洗装置，使附着在上述被处理物的液体污垢成分挥发；浸渍清洗装置，使上述被处理物浸渍于清洗液；干燥装置，使上述被处理物干燥。专利技术效果根据本公开内容，通过浸渍清洗工序，使清洗液流进凹部或者槽从而稀释污垢，进而通过挥发清洗工序使被稀释的污垢挥发。通过在进行了挥发清洗工序之后，再次进行浸渍清洗工序，能够使在第一次的清洗中未能彻底清洗的部位的污垢浮出。通过多次重复这样的工序，即便对于具有复杂的形状的被处理物，也能够充分地洗掉污垢。因此，即便对于形状复杂的被处理物，也能够以不变更被处理物的姿态的方式进行清洗。附图说明图1是本公开内容的一实施方式的真空清洗装置的沿着左右方向的剖视图。图2是本公开内容的一实施方式的真空清洗装置的沿着前后方向的剖视图。图3是将本公开内容的一实施方式的真空清洗装置的特征性构成进行放大后的纵剖视图。图4是从后方观察本公开内容的一实施方式的真空清洗装置的侧视图。图5A是本公开内容的一实施方式的冷凝器的俯视图。图5B是本公开内容的一实施方式的冷凝器的纵剖视图。图6是示出了本公开内容的一实施方式的真空清洗装置的动作的流程图。具体实施方式以下参照附图对本公开内容的一实施方式进行说明。如图1以及图2所示，本实施方式的真空清洗装置(清洗装置)具备清洗器1、冷凝器2、真空泵3、蒸汽产生装置4、鼓泡装置5、超声波振动装置6(振荡装置)以及控制装置7。本实施方式的真空清洗装置除了清洗器1、冷凝器2、真空泵3、蒸汽产生装置4、鼓泡装置5、超声波振动装置6以及控制装置7以外，还具备各种各样的设备，例如具备再生浓缩器等作为辅机。清洗器1在利用清洗液的蒸汽(清洗蒸汽)将附着了污垢成分的工件W(被处理物)进行蒸汽清洗之后，通过将工件W浸渍于清洗液而对工件W进行清洗。即，清洗器1在整个规定期间连续地接收由蒸汽产生装置4产生的清洗蒸汽，并在容纳于清洗室R1的工件W的表面连续地进行清洗蒸汽的附着与冷凝，由此将附着在工件W的表面的污垢成分与清洗液的冷凝液一起从工件W的表面洗掉。进而，清洗器1通过将工件W浸渍于贮存在浸渍槽R2的清洗液中，除去附着在工件W的细部的污垢，并再次在清洗室R1中进行喷淋清洗，从而洗掉污垢。工件W例如是因加工而在表面附着了切削油等污垢成分的金属零件。此外，清洗液是烃类的清洗液，例如正构烷烃类、异构烷烃类、环烷烃类、芳香族类的烃类清洗剂。更具体而言，清洗液是被称为清洗溶剂的TECLEAN(注册商标)N20、CleansolG、NSCLEAN(注册商标)、Daphne溶剂等第3石油类的清洗液。如图所示，清洗器1具备清洗器壳体1a，在其内部形成有清洗室R1以及浸渍槽R2(浸渍清洗装置)。清洗器壳体1a整体形成为中空的长方体形状。清洗器壳体1a的内部的空间通过后述的中间门1g被上下分割为清洗室R1与浸渍槽R2。在清洗器壳体1a的正面设置有工件插通口1b。工件插通口1b是沿着垂直方向的开口，用于在清洗器壳体1a(即清洗器1)与外部之间进出工件W，由上下活动自如的前门1c关闭或者敞开。另外，在清洗器壳体1a中经由被控制装置7控制的控制阀而与真空泵3连接，能够将清洗室R1的气氛变为规定气压的真空气氛(减压气氛)。如图2所示，在清洗器壳体1a中的安装了冷凝器2的侧面(背面、在图2中的右侧面)形成有连通口1d，用于使清洗器1的内部空间即清洗室R1与冷凝器2的内部空间即冷凝室G连通。如图3所示，连通口1d是形成在清洗器壳体1a的一部分的圆形开口。在清洗器壳体1a的连通口1d的周围，与后述的阀体2i抵接的表面构成阀座1f。另外，有关阀座1f的详细内容将在后述进行。进而，清洗器1具备中间门1g、升降机构1h、蒸汽导入阻尼器1i、喷淋喷嘴1j以及浸渍槽加热器1k。中间门1g是将清洗器壳体1a在上下方向分割成清洗室R1与浸渍槽R2的平板状部件。通过关闭中间门1g，清洗室R1成为与浸渍槽隔离的密闭空间。升降机构1h是在清洗器壳体1a内使工件W向清洗室R1以及浸渍槽R2升降的机构。蒸汽导入阻尼器1i与蒸汽产生装置4的后述的清洗液贮存箱4a连接，并且连接于清洗室R1。蒸汽导入阻尼器1i是能够对从蒸汽产生装置4朝向清洗室R1的清洗蒸汽的流路的开度进行调节的机构，对导入至清洗室R1的清洗蒸汽的流量进行调整。喷淋喷嘴1j设置在清洗室R1的上方，将从清洗液贮存箱4a供给的清洗液排出至清洗室R1内。此外，喷淋喷嘴1j与蒸汽产生装置4的清洗液贮存箱4a之间由未图示的管路连接，该管路由阀门开闭。浸渍槽加热器1k被埋入设置在清洗器壳体1a的下方的侧壁，加热浸渍槽R2的清洗液。冷凝器2是如图所示的大致圆柱状的形状，从连通口1d取入清洗室R1内的蒸汽并使其冷凝(液化)。在清洗器1中的工件W的清洗结束的状态下，清洗液附着在工件W的表面或者清洗器壳体1a的内表面。虽然详细情况将在后面进行描述，但是冷凝器2在工件W清洗后使残留在清洗室R1内的清洗液(特别是附着在工件W的表面的清洗液)气化从而变为蒸汽(剩余蒸汽)，并且将该剩余蒸汽从清洗室R1移动至冷凝室G并使其冷凝(液化)。冷凝器2与真空泵一起作为干燥装置以及挥发清洗装置发挥功能，其具备冷凝器壳体2a、两个冷却盘管2b、2c、保持部件2d以及开闭机构2e。此外，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗方法，具有以下工序：蒸汽清洗工序，对被处理物进行蒸汽清洗；挥发清洗工序，使附着在所述被处理物的液体污垢成分挥发；浸渍清洗工序，使所述被处理物浸渍于清洗液；干燥工序，使所述被处理物干燥，其中，交替地多次重复所述挥发清洗工序与所述浸渍清洗工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.12.07 JP 2016-2376531.一种清洗方法，具有以下工序：蒸汽清洗工序，对被处理物进行蒸汽清洗；挥发清洗工序，使附着在所述被处理物的液体污垢成分挥发；浸渍清洗工序，使所述被处理物浸渍于清洗液；干燥工序，使所述被处理物干燥，其中，交替地多次重复所述挥发清洗工序与所述浸渍清洗工序。2.如权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，在所述浸渍清洗工序中，通过在所述清洗液中产生气泡而进行鼓泡清洗。3.如权利要求1或者权利要求2所述的清洗方法，其特征在于，在所述浸渍清洗工序中，利用超声波振动进行超声波清洗。4.如权利要求1～3中的任一项所述的清洗方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：胜俣和彦，三塚正敏，永田乔裕，木屋升，
申请(专利权)人：株式会社IHI，IHI机械系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP