本发明专利技术提供一种喷嘴待机装置。在喷嘴收纳部中，将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层时，能够节省向喷嘴收纳部供给的溶剂。使喷嘴在喷嘴收纳部待机，从溶剂出液口以第一流量供给溶剂，以封闭喷嘴的出口的方式形成液膜后，以比第一流量少的第二流量供给溶剂。第二流量是能够维持喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量，形成于喷嘴的出口的液膜与溶剂接触，由此利用表面张力将溶剂吸入喷嘴的前端部，形成溶剂的液层。因此，不需要在喷嘴收纳部形成溶剂的积液，而且在从溶剂出液口供给溶剂的期间，使该供给流量从第一流量减少至第二流量，因此能够节省溶剂。
【技术实现步骤摘要】
喷嘴待机装置、液处理装置及其运转方法和存储介质
本专利技术涉及使用于吐出会因干燥而固化的处理液的喷嘴在喷嘴收纳部待机，将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层的技术。
技术介绍
在半导体器件的制造工序中，存在为了形成抗蚀剂图案而将抗蚀剂液涂敷于基板的处理。抗蚀剂液的涂敷例如通过一边使保持在旋转卡盘的半导体晶片(以下称为“晶片”)旋转，一边从喷嘴向该晶片的大致中心部吐出抗蚀剂液来进行。抗蚀剂液包含由有机材料形成的抗蚀剂膜的成分和该成分的溶剂例如稀释液(thinner)，具有与大气接触时容易干燥的性质，可能因干燥而浓度等发生变化。因此，采用在喷嘴的前端内部的抗蚀剂液层的外侧形成空气层和溶剂层(溶剂的液层)，以防止喷嘴内的抗蚀剂液干燥的方法。例如模拟吐出喷嘴内的抗蚀剂液之后，将空气吸引到该喷嘴内以形成空气层，接着将喷嘴的前端部浸渍在溶剂中并将溶剂吸引到喷嘴内，由此来执行该方法。专利文献1记载有一种方法，其中在使喷嘴进入清洗室后，吸引喷嘴内的抗蚀剂液，接着在清洗室内形成溶剂的积液，将喷嘴浸渍的前端在该积液中并吸引该积液，由此形成溶剂层。清洗室构成为倒圆锥形的漏斗状，其下端经由排出孔设置有排出路径。但是，在使用如三维NAND型存储用的抗蚀剂薄膜那样的粘度较高的抗蚀剂液的情况下，抗蚀剂液容易附着并堆积在排出孔的内壁，因此在排出孔容易发生堵塞。因此，例如在下一次模拟排出抗蚀剂液时抗蚀剂液溢出，喷嘴的前端有可能被污染。若扩大排出孔，则能够改善抗蚀剂液的堵塞情况，但是溶剂变得难以存积在清洗室内，为了在清洗室中形成积液，不得不增大溶剂的流量，存在溶剂的消耗量变多的缺点。专利文献2中提出了一种抑制喷嘴清洗液的消耗量的方法。该方法中，向在底面部设置有排出流路的喷嘴收纳部内供给清洗液，并且也向排出流路内供给清洗液以形成涡流，通过该涡流来调整排出流量，抑制在喷嘴收纳部内存积清洗液时的清洗液的消耗量。但是，该方法为在喷嘴收纳部内存积清洗液的方法，故而当增大排出流路的内径时，清洗液的供给量变多，难以解决本专利技术的课题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-62352号公报专利文献2：日本特开2017-92239号公报(0069、0070段等)
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术是鉴于这样的情况而完成的，其目的在于提供一种技术，其使用于吐出处理液的喷嘴在喷嘴收纳部待机，在将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层时，能够节省向喷嘴收纳部供给的溶剂。用于解决技术问题的技术方案因此，本专利技术为一种喷嘴待机装置，其用于：使用于吐出会因干燥而固化的处理液的喷嘴待机，将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层，上述喷嘴待机装置的特征在于，包括：喷嘴收纳部，其包括以包围上述喷嘴的前端部的方式形成的内周面，与喷嘴的出口相对地形成有收纳部排出口；溶剂出液口，其在上述喷嘴收纳部内开口，并形成为沿上述喷嘴收纳部的内周面引导从该溶剂出液口吐出的溶剂而使其从上述收纳部排出口排出；和溶剂供给部，在上述喷嘴的前端部形成溶剂的液层时，其以第一流量向溶剂出液口供给溶剂，利用该溶剂以封闭上述喷嘴的出口的方式形成液膜后，以比上述第一流量少的第二流量向溶剂出液口供给溶剂，其中上述第二流量是能够维持上述喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量。另外，本专利技术的液处理装置的特征在于，包括：保持基板的基板保持部；喷嘴，其用于向保持于上述基板保持部的基板的表面吐出会因干燥而固化的处理液；上述喷嘴待机装置；和吸引机构，其用于向在上述喷嘴待机装置待机的喷嘴内的流路的上游侧进行吸引，以吸入溶剂。另外，本专利技术的液处理装置的运转方法的特征在于，包括：从喷嘴向保持于基板保持部的基板的表面吐出会因干燥而固化的处理液的工序；接着使上述喷嘴在喷嘴收纳部待机的工序，上述喷嘴收纳部包括以包围喷嘴的前端部的方式形成的内周面，且与喷嘴的出口相对地形成有收纳部排出口；从在上述喷嘴收纳部待机的喷嘴的出口吐出处理液，并从与该喷嘴的出口相对的收纳部排出口排出处理液的工序；接着，以第一流量从在上述喷嘴收纳部内开口的溶剂出液口吐出溶剂，沿上述喷嘴收纳部的内周面引导吐出的溶剂，利用该溶剂以封闭上述喷嘴的出口的方式形成液膜的工序；和然后，从在上述喷嘴收纳部内开口的溶剂出液口以比上述第一流量少的第二流量吐出溶剂，沿上述喷嘴收纳部的内周面引导吐出的溶剂的工序，其中第二流量是能够维持上述喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量。另外，本专利技术的存储介质存储在液处理装置中使用的计算机程序，上述液处理装置从喷嘴向保持在基板保持部的基板的表面吐出会因干燥而固化的处理液，上述存储介质的特征在于：上述计算机程序中编入有步骤组，以执行上述的液处理装置的运转方法。专利技术效果根据本专利技术，在喷嘴收纳部中，将溶剂吸入用于吐出处理液的喷嘴的前端部以形成溶剂的液层时，从喷嘴收纳部的溶剂出液口以第一流量供给溶剂，在以封闭喷嘴的出口的方式形成液膜后，以比第一流量少的第二流量供给溶剂。第二流量是能够维持喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量，形成于喷嘴的出口的液膜和溶剂接触，由此利用表面张力将溶剂吸入喷嘴的前端部，形成溶剂的液层。因此，不需要在喷嘴收纳部形成溶剂的积液，而且在从溶剂出液口供给溶剂期间，使该供给流量从第一流量减少至第二流量，因此能够节省溶剂。附图说明图1是表示本专利技术的设有喷嘴待机装置的液处理装置的一实施方式的纵截侧面图。图2是概略地表示液处理装置的立体图。图3是表示设置在液处理装置的喷嘴单元的立体图。图4是表示设置在喷嘴单元的涂敷喷嘴和待机单元的一部分的纵截侧面图。图5是表示喷嘴单元和待机单元的纵截侧面图。图6是表示液处理装置的作用的纵截侧面图。图7是表示液处理装置的作用的纵截侧面图。附图标记说明1液处理装置2旋转卡盘3喷嘴单元32移动机构41涂敷喷嘴42溶剂喷嘴46流路47出口5待机单元51喷嘴收纳部52缩径部53收纳部排出口56溶剂出液口57溶剂供给路径59流量调整部6控制部81处理液层82空气层83溶剂的液层(溶剂层)VA回吸阀W半导体晶片。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的一个实施方式进行说明。图1和图2是本专利技术的一实施方式的液处理装置1的纵截侧面图和立体图。液处理装置1包括旋转卡盘2，其作为吸附并水平保持晶片W的背面中央部的基板保持部。该旋转卡盘2通过驱动轴21被驱动机构22驱动，能够以保持着晶片W的状态绕铅垂轴旋转和升降，并被设定为晶片W的中心位于在该旋转轴上。在旋转卡盘2的周围，以包围旋转卡盘2上的晶片W的方式设置有在上方侧具有开口部231的罩(cup)23，罩23的侧周面上端侧形成为向内侧倾斜的倾斜部232。在罩23的底部侧设置有例如呈凹部状的液接收部24。液接收部24由分隔壁241在晶片W的周缘下方侧以遍及整周的方式被划分为外侧区域和内侧区域，在外侧区域的底部设置有用于排出存积的抗蚀剂等的排液口25，在内侧区域的底部设置有用于排出处理气氛的排气口26。利用喷嘴单元3的涂敷喷嘴41向保持于旋转卡盘2的晶片表面的大致中央吐出涂敷液。如图3所示，该喷嘴单元3通过将用于吐出处理液的多个(例如10个)涂敷喷嘴41和用于吐出作为处理液的溶剂的例如一个溶剂喷嘴42一体地固定在共用的支承部31而构成。该例中的处理液会因干燥而固化，溶剂例如为稀释液。作为处理本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种喷嘴待机装置，其用于：使用于吐出会因干燥而固化的处理液的喷嘴待机，将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层，所述喷嘴待机装置的特征在于，包括：喷嘴收纳部，其包括以包围所述喷嘴的前端部的方式形成的内周面，与喷嘴的出口相对地形成有收纳部排出口；溶剂出液口，其在所述喷嘴收纳部内开口，并形成为沿所述喷嘴收纳部的内周面引导从该溶剂出液口吐出的溶剂而使其从所述收纳部排出口排出；和溶剂供给部，在所述喷嘴的前端部形成溶剂的液层时，其以第一流量向溶剂出液口供给溶剂，利用该溶剂以封闭所述喷嘴的出口的方式形成液膜后，以比所述第一流量少的第二流量向溶剂出液口供给溶剂，其中所述第二流量是能够维持所述喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量。
【技术特征摘要】
2017.10.23 JP 2017-2047141.一种喷嘴待机装置，其用于：使用于吐出会因干燥而固化的处理液的喷嘴待机，将溶剂吸入喷嘴的前端部以形成溶剂的液层，所述喷嘴待机装置的特征在于，包括：喷嘴收纳部，其包括以包围所述喷嘴的前端部的方式形成的内周面，与喷嘴的出口相对地形成有收纳部排出口；溶剂出液口，其在所述喷嘴收纳部内开口，并形成为沿所述喷嘴收纳部的内周面引导从该溶剂出液口吐出的溶剂而使其从所述收纳部排出口排出；和溶剂供给部，在所述喷嘴的前端部形成溶剂的液层时，其以第一流量向溶剂出液口供给溶剂，利用该溶剂以封闭所述喷嘴的出口的方式形成液膜后，以比所述第一流量少的第二流量向溶剂出液口供给溶剂，其中所述第二流量是能够维持所述喷嘴的出口被溶剂封闭的状态的流量。2.如权利要求1所述的喷嘴待机装置，其特征在于：从溶剂供给部以第一流量供给溶剂的溶剂出液口与从溶剂供给部以第二流量供给溶剂的溶剂出液口为共用的溶剂出液口。3.如权利要求1或2所述的喷嘴待机装置，其特征在于：在所述喷嘴收纳部中从溶剂出液口吐出的溶剂成为回旋流而下落的部位，形成有越向下去内径越小的缩径部。4.如权利要求1至3的任一项所述的喷嘴待机装置，其特征在于：与所述喷嘴的出口对应的部位的喷嘴的外径为2.5mm～3.0mm，所述喷嘴的出口的内径为3.2mm～3.6mm。5.如权利要求1至4的任一项所述的喷嘴待机装置，其特征在于：第一流量为90ml/分钟～150ml/分钟，第二流量为...
【专利技术属性】
技术研发人员：大田黑弘城，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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