带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。本发明专利技术某形态的带电粒子束描绘装置具备：描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束而描绘图案；标记，设置于所述平台；高度检测器，检测所述标记的表面高度；焦点调整部，使所述带电粒子束合焦于所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度；照射位置检测器，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；漂移修正部，从基于所述照射位置检测器检测出的所述照射位置计算所述标记表面的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量生成修正所述基板的表面上的漂移导致的照射位置偏移的修正信息；描绘控制部，用所述修正信息修正所述带电粒子束的照射位置。

【技术实现步骤摘要】
带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法
本专利技术涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。
技术介绍
伴随LSI的高集成化，半导体设备所要求的电路线宽正逐年微细化。为了形成半导体设备所希望的电路图案，采用了以缩小投影型曝光装置而将石英上形成的高精度的原画图案(称为掩膜，或者通过步进器或扫描器而被使用的也特别称为光罩。)缩小转印于晶片上的手法。由电子束描绘装置描绘高精度的原画图案，使用了所谓电子束光刻技术。电子束描绘装置中，由于各种因素，电子束的照射位置在描绘中随着时间推移而移位的所谓束流漂移的现象会发生。为了抵消该束流漂移，会进行漂移修正。在漂移修正中，用电子束扫描形成于配置在平台上的标记基板的测定用标记来测定电子束的照射位置而求出漂移量。描绘对象的样本(掩膜)的厚度由于公差而致使每个样本都不同，通常，样本表面的高度与标记基板的表面的高度不一致。电子束斜着入射样本或标记基板的情况下，由于表面高度的不同，标记表面上的漂移量与样本表面上的漂移量之间产生误差。若将标记表面上的漂移量原封不动地用于漂移修正，则会有漂移修正由于误差部分而变得不充分的问题。日本专利公开公报2013-38297号中公开了一种手法：在平台上设置高度不同的多个标记，选择比样本表面的高度低的标记和比样本表面高度高的标记，基于所选择的2个标记的表面上的漂移量而求出样本表面上的漂移量，而抑制依存于样本表面与标记表面的高低差的束流照射位置的偏差。但是，日本专利公开公报2013-38297号的手法中，由于需要用电子束扫描至少2个标记来测定漂移量，描绘吞吐量降低。
技术实现思路
本专利技术提供高精度地进行漂移修正而使图案的描绘精度提升而能够抑制描绘吞吐量的降低的带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。本专利技术某一形态的带电粒子束描绘装置，具备：描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束而描绘图案；标记，设置于所述平台上；高度检测器，检测所述标记的表面高度；焦点调整部，调整所述带电粒子束的焦点以使得所述带电粒子束合焦至所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度；照射位置检测器，通过合焦至所述标记的表面高度的所述带电粒子束的照射，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；漂移修正部，基于由所述照射位置检测器检测出的所述照射位置来计算所述标记表面上的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量，生成修正所述基板的表面上的漂移导致的照射位置偏差的修正信息；描绘控制部，使用所述修正信息来修正所述带电粒子束的照射位置。附图说明图1是本专利技术的实施方式的电子束描绘装置的简图。图2是说明电子束的可变成形的图。图3(a)是表示正常时的束流轨道的图，图3(b)是表示束流倾斜地入射的情况下的束流轨道的图。图4是表示束流轨道的例子的图。图5是表示合焦至标记表面的状态的示意图。图6是说明实施方式的描绘方法的流程图。具体实施方式以下，基于附图来说明本专利技术的实施方式。在实施方式中对于作为带电粒子束的一例而使用了电子束的构成进行说明。但是，带电粒子束不限于电子束，也可以是离子束等。图1是本专利技术的实施方式涉及的电子束描绘装置的简图。图1所示的描绘装置1是一种可变成形型的描绘装置，具备：描绘部30，对描绘对象的基板56照射电子束以描绘所希望的图案；及控制部10，控制描绘部30的动作。描绘部30具有电子镜筒32及描绘室34。电子镜筒32内配置有：电子枪40，消隐孔径41，第1成形孔径42，第2成形孔径43，消隐偏转器44，成形偏转器45，物镜偏转器46，照明透镜47，投影透镜48及物镜49。物镜49是能够在Z轴方向上调整焦点位置的动态聚焦透镜。虽然能够使用静电透镜、电磁透镜作为动态聚焦透镜，但在描绘中变更焦点位置的情况，要使用无滞后的静电透镜。描绘室34内配置有配置为可移动的平台50。平台50上，载置有基板56。基板56例如是制造半导体装置时的曝光用掩膜、掩膜坯料、制造半导体装置的半导体基板(硅晶片)等。平台50具有在水平面内相互正交的X方向及Y方向上可移动的XY平台50a，及设于XY平台50a上的台座50c。台座50c通过驱动部50b，在正交于X方向及Y方向的Z方向上可移动。基板56通过多个的支撑销50d被支撑于台座50c上。平台50能够在X方向，Y方向及Z方向上调整基板56的位置。台座50c的表面上设有用以测定水平面内的平台50(台座50c)的位置的镜50e和用以测定电子束B的漂移量的标记54。标记54呈例如十字形状或点状，硅基板上形成有钽或钨等重金属。也可以设置高度不同的多个的标记54。此外，标记54不限于是反射型，也可以使用透过型的标记。该情况下，设置有：具有开口部的标记；及电流测定器，测定透过开口部的电子的电流量。XY平台50a上设置有成为基板56的表面(样本表面)的高度基准的基准高度部件50f。使电子束B的焦点对到基准高度部件50f的表面，且将基准高度部件50f的表面与基板56的表面设为相同高度，以此使得电子束B能够对到基板56的表面。平台50的上方设置有：照射位置检测器52，通过对标记54照射电子束B来检测电子束B的照射位置(束流位置)。作为照射位置检测器52，例如能够使用电子检测器，该电子检测器将由电子束B扫描标记54而被标记54反射的反射电子作为电流值来检测。检测的束流位置被通知给后述的控制计算机11。描绘室34的外周面上设置有检测基板56或标记54的表面高度的高度检测器58。该高度检测器58虽然没有被特别地限定，但能够使用例如具有从斜上方向基板56或标记54的表面上照射激光的投光部58a和接收反射光的受光部58b的高度检测器。基于受光部58b的反射光的接收位置，能够检测基板56或标记54的表面高度。表面高度的检测结果被通知给控制计算机11。控制部10具有：控制计算机11、平台位置测定部16、透镜控制电路17、存储装置18等。控制计算机11具有：拍摄数据生成部12、描绘控制部13、漂移修正部14及焦点调整部15。控制计算机11的各部的输入输出数据或运算中的数据被适当地储存于存储器(省略图示)。控制计算机11的各部可以由硬件构成，也可以由软件构成。由软件构成的情况下，至少实现一部分功能的程序被储存于CD-ROM等存储介质，被具有电路的计算机读入并执行即可。存储装置18(存储部)储存有将配置有设计上的图形图案的布局数据变换为可输入描绘装置1的格式的描绘数据。拍摄数据生成部12从存储装置18中读出描绘数据，执行多段数据变换处理并生成装置固有的拍摄数据。拍摄数据中，例如，图形种类，图形尺寸，照射位置，照射时间等被定义。描绘控制部13基于拍摄数据、控制描绘部30进行描绘处理。漂移修正部14计算基板56的表面的漂移量而求出抵消漂移量的漂移修正量。漂移量的计算方法在以下叙述。漂移修正部14基于漂移修正量生成电子束B的偏转量(束流照射位置)的修正信息并给予描绘控制部13。描绘控制部13用此修正信息控制描绘部30，修正束流照射位置。平台位置测定部16包含：使激光在固定于平台50的台座56的镜50e上入射和反射而测定平台50的位置的激光长度测量器。平台位置测定部16将测定的平台位置通知给控制计算机11。透镜控制电路17基于来自焦点调整部15的控制信号控制物镜49而调整电子束B的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带电粒子束描绘装置，其中，具备：描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案；标记，设置于所述平台之上；高度检测器，检测所述标记的表面高度；焦点调整部，将所述带电粒子束合焦至所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度来进行调整；照射位置检测器，通过合焦至所述标记的表面高度的所述带电粒子束的照射，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；漂移修正部，从通过所述照射位置检测器检测出的所述照射位置来计算所述标记表面上的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量，生成修正所述基板表面的漂移导致的照射位置偏移的修正信息；及描绘控制部，使用所述修正信息，修正所述带电粒子束的照射位置。

【技术特征摘要】
2017.10.20 JP 2017-2036681.一种带电粒子束描绘装置，其中，具备：描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案；标记，设置于所述平台之上；高度检测器，检测所述标记的表面高度；焦点调整部，将所述带电粒子束合焦至所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度来进行调整；照射位置检测器，通过合焦至所述标记的表面高度的所述带电粒子束的照射，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；漂移修正部，从通过所述照射位置检测器检测出的所述照射位置来计算所述标记表面上的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量，生成修正所述基板表面的漂移导致的照射位置偏移的修正信息；及描绘控制部，使用所述修正信息，修正所述带电粒子束的照射位置。2.如权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，其特征在于，所述焦点调整部控制物镜来调整所述带电粒子束的焦点位置。3.如权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，其特征在于，所述焦点调整部控制所述平台来调整所述基板的表面高度及所述标记的表面高度。4.如权利要求1所述的带电粒子束描绘...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山贵仁，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP