The invention discloses a method for removing impurity arsenic in electronic-grade hydrochloric acid, which comprises the following steps: (1) putting concentrated hydrochloric acid of raw material into an oxidation device, then adding oxidant, and then stirring at a uniform speed; (2) sealing the stirred solution and then stationary; (3) adding adsorbent to the solution; (4) removing adsorbent, filtering the solution and entering the filtered solution. In the evaporation device, (5) the solution is distilled at high temperature to obtain hydrogen chloride gas by evaporation device, (6) an absorption tank is set up in the distillation pipeline of the evaporation device to absorb and filter hydrogen chloride gas, (7) the hydrogen chloride gas treated by step (6) is condensed to obtain electronic pure hydrochloric acid. The invention can efficiently remove impurity arsenic in hydrochloric acid, and other impurity ions will not be brought into the removal process, and high purity hydrochloric acid with arsenic content up to the standard can be produced on the premise of ensuring continuous and stable production.
【技术实现步骤摘要】
一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法
本专利技术涉及超纯化学品制备
,具体涉及一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法。
技术介绍
超净高纯电子化学品是超大规模集成电路制造的关键集成性材料,其纯度、洁净度对成品率、电性能以及可靠性等有十分重要的影响。当前,半导体尖端技术已经达到7-22纳米水平,相对的,对电子化学品纯度的要求也越来越高。高纯盐酸是半导体制造行业应用的电子化学品之一,主要应用于硅片的标准RCA清洗工艺中,用于去除及清洗硅片表面的金属及有机物杂质。盐酸的纯度决定了清洗过后表面金属残留的量,进而决定了半导体产品的成品率及效能。目前工业上的高纯盐酸是由高纯氢气及高纯氯气的燃烧制得,但在氢气与氯气燃烧过程中以及氯气的腐蚀性下,盐酸在生产过程中会掺杂有很多杂质离子,这些杂质离子必须去除才能达到半导体行业的要求。盐酸沸点低,容易蒸馏,与其他杂质离子的盐类沸点均有一定差距,为达到产品要求需进行蒸馏操作才能将混入盐酸中的杂质离子去除,以达到产品标准。蒸馏方法可以去除绝大多数离子。但是,杂质中的砷离子在盐酸中呈现正三价,三价砷与氯离子形成三氯化砷,三氯化砷沸点为130.2℃,这与盐酸蒸馏时的温度极为相似,因此砷离子无法用蒸馏的方法去除,从而如果仅仅用蒸馏方法去除杂质离子则会导致产品不合格。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术的目的在于提供一种简单快捷的电子级盐酸中杂质砷的去除方法,能够高效去除盐酸中的杂质砷,去除过程中不会带入其他杂质离子,在保证连续稳定生产的前提下可生产出砷含量达标的高纯盐酸。为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本专利技术通过以下技术方案实 ...
【技术保护点】
1.一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将原料浓盐酸放入氧化装置中,然后加入氧化剂,再进行匀速搅拌,以氧化盐酸中的砷;(2)搅拌后,在氧化装置上盖上密封盖,以对搅拌后的溶液进行密封,然后静置,静置过程中,对气压进行调节,以保证稳定的气压;(3)静置后,将氧化装置开盖,然后向溶液中加入吸附剂以进行加压吸附;(4)将吸附剂取出,将溶液进行过滤,经过过滤后的溶液进入蒸发装置中;(5)利用蒸发装置将溶液进行高温蒸馏,得到氯化氢气体;(6)在蒸发装置的蒸馏管道内设置吸收槽对氯化氢气体进行吸附过滤;(7)将经过步骤(6)处理的氯化氢气体进行冷凝,得到电子级纯盐酸。
【技术特征摘要】
1.一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将原料浓盐酸放入氧化装置中,然后加入氧化剂,再进行匀速搅拌,以氧化盐酸中的砷;(2)搅拌后,在氧化装置上盖上密封盖,以对搅拌后的溶液进行密封,然后静置,静置过程中,对气压进行调节,以保证稳定的气压;(3)静置后,将氧化装置开盖,然后向溶液中加入吸附剂以进行加压吸附;(4)将吸附剂取出,将溶液进行过滤,经过过滤后的溶液进入蒸发装置中;(5)利用蒸发装置将溶液进行高温蒸馏,得到氯化氢气体;(6)在蒸发装置的蒸馏管道内设置吸收槽对氯化氢气体进行吸附过滤;(7)将经过步骤(6)处理的氯化氢气体进行冷凝,得到电子级纯盐酸。2.根据权利要求1所述的一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法,其特征在于:所述步骤(1)中的氧化剂为氯气、次氯酸、过氧化氢及臭氧中的一种或几种的混合物。3.根据权利要求1所述的一种电子级盐酸中杂质砷的去除方法,其特征在于:步骤(1)中,所述氧化剂的用量为原料浓盐酸溶液质量的0.05%~1.0%,且所述氧化剂为电子级超纯试剂。4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵俊男,高小云,傅华,
申请(专利权)人:苏州晶瑞化学股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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