一种显示面板的制作方法和显示面板技术

本发明专利技术公开了一种显示面板的制作方法和显示面板。一种显示面板的制作方法，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物；通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层；在栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。本发明专利技术由于通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层，因而至少减少了一道光罩,节省了曝光显影时间，达到节约成本及提升产能的目的。

A Method of Making Display Panel and Display Panel

The invention discloses a method for making a display panel and a display panel. A manufacturing method of display panel includes: depositing a layer of metal, buffer material and oxide on the substrate in turn; forming a first metal layer, buffer layer and oxide film by etching the same optical mask; forming a gate insulating layer, gate layer, source layer and drain layer on the oxide film; forming passivation layer and drain layer above the gate layer, source layer and drain layer in turn. Transparent electrode layer. Because the first metal layer, buffer layer and oxide film are formed by etching the same mask, the invention reduces at least one mask, saves exposure development time, and achieves the purpose of saving cost and improving productivity.

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制作方法和显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板的制作方法和显示面板。
技术介绍
随着科技的发展和进步，液晶显示器由于具备机身薄、省电和辐射低等热点而成为显示器的主流产品，得到了广泛应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(backlightmodule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。目前IGZO(铟镓锌氧化物)技术已得到广泛的研究及应用，常见的IGZO结构有三种，BCE(backchanneletch，背沟道刻蚀)结构，ESL(etchstopperlayer，刻蚀阻挡层)结构，Self-alignedTopGate(自对准的顶栅)结构，其中，BCE结构因是背沟道蚀刻，会产生背沟道损坏,影响TFT器件稳定性，ESL结构可以对背沟道进行保护，但不适合做短沟道结构，并且有较大的寄生电容,顶栅型可以做短沟道结构并且有极小的寄生电容，但光罩会多一道。
技术实现思路
鉴于现有技术的上述问题，本专利技术所要解决的技术问题是提供一种减少光罩的显示面板的制作方法和显示面板。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示面板的制作方法，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物；通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层；在栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。可选的，所述在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层的步骤包括：在所述氧化物膜层上通过半色调掩膜形成包括中部、第一侧部、第二侧部以及镂空部的栅极绝缘层；所述栅极绝缘层的中部的厚度厚于第一侧部的厚度，所述栅极绝缘层的中部的厚度高于第二侧部的厚度；所述镂空部形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间；在所述栅极绝缘层上金属溅渡形成第二层金属，并通过同一道光罩制程对第二层金属进行蚀刻得到栅极层、源极层和漏极层；形成的所述源极层和漏极层通过所述氧化物膜层连接。可选的，所述在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层的步骤包括：在氧化物膜层上沉积形成栅极绝缘沉积层，并在栅极绝缘沉积层上沉积形成栅极金属层；通过一道光罩制程对栅极绝缘沉积层和栅极金属层进行蚀刻，形成栅极绝缘层和栅极层；在氧化物膜层上通过一道光罩形成包括中部、第一侧部、第二侧部以及镂空部的互联层；在互联层的上方形成第二层金属，并对第二层金属进行蚀刻得到漏极层和源极层；所述镂空部形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间。可选的，所述在基板上通过同一道光罩蚀刻依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层的步骤包括：在氧化物膜沉积层上方通过一道光罩形成预设图案的光阻层；对所述氧化物膜沉积层的两侧部不重叠于光阻层的部分进行蚀刻得到氧化物膜层；对所述缓冲层的两侧部且不重叠于氧化物膜层的部分进行蚀刻得到缓冲层；对所述第一金属层的两侧部且不重叠于缓冲层的部分进行蚀刻，得到第一金属层；剥离清除氧化物膜层上方的光阻层。可选的，所述在栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻得到栅极层、源极层和漏极层的步骤中；所述栅极层位于与栅极绝缘层中部的上方；所述栅极层的宽度小于栅极绝缘层中部的宽度，源极层和漏极层分别位于栅极绝缘层两侧部上方；所述源极层、漏极层与栅极层绝缘。本专利技术公开了一种显示面板的制作方法，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物；通过同一道光罩蚀刻依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；在所述氧化物膜层上通过半色调掩膜形成包括中部、第一侧部、第二侧部以及镂空部的栅极绝缘层；所述栅极绝缘层的中部的厚度厚于第一侧部的厚度，所述栅极绝缘层的中部的厚度厚于第二侧部的厚度；所述镂空部形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间；在所述栅极绝缘层上金属溅渡形成第二层金属，并通过同一道光罩制程对第二层金属进行蚀刻得到栅极层、源极层和漏极层，形成的所述源极层和漏极层通过所述氧化物膜层连接；所述栅极层位于与栅极绝缘层中部的上方；所述栅极层的宽度小于栅极绝缘层中部的宽度，源极层和漏极层分别位于栅极绝缘层两侧部上方；所述源极层、漏极层与栅极层绝缘；在栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。本专利技术还公开了一种显示面板，包括：第一基板，所述第一基板的上方依次设置有第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层，形成在氧化物膜层的上方；钝化层和透明电极层，依次形成在所述第二金属层的上方；所述第一金属层、缓冲层和氧化物膜层通过同一道光罩制程形成。可选的，所述栅极绝缘层，位于所述氧化物膜层的上方；所述栅极绝缘层包括中部、第一侧部和第二侧部，所述中部的厚度大于所述第一侧部和第二侧部的厚度；所述栅极绝缘层还包括形成在所述中部和第一侧部之间的第一镂空部，以及形成在所述中部和第二侧部之间的第二镂空部；所述栅极层形成在所述中部上方；所述源极层形成在所述第一侧部的上方，并通过所述第一镂空部连接于所述氧化物膜层；所述漏极层形成在所述第二侧部的上方，并通过所述第二镂空部连接于所述氧化物膜层；所述栅极层、源极层和漏极层由同一金属层，通过同一道光罩制程形成。可选的，所述栅极绝缘层，位于所述氧化物膜层的中部的上方；栅极层，位于所述栅极绝缘层的上方；互联层，位于所述氧化物膜层的上方；所述互联层包括中部、第一侧部和第二侧部，所述中部和第一侧部之间形成第一镂空部，所述中部和第二侧部之间形成第二镂空部；所述源极层位于第一侧部和中部的上方，并通过所述第一镂空部连接于所述氧化物膜层；所述漏极层位于第二侧部和中部的上方，并通过所述第二镂空部连接于所述氧化物膜层；所述源极层和漏极层由同一金属层，通过同一道光罩制程形成。可选的，所述栅极层的宽度小于栅极绝缘层中部的宽度，所述源极层、漏极层与栅极层绝缘，所述源极层和漏极层通过氧化物膜层连接。本方案中，区别于一般性的设计，对顶栅结构进行改进，在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物,然后通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；相对于将第一金属层、缓冲层和氧化物膜层用不同的光罩分开形成的制程来说，至少减少一道光罩,节省一道曝光显影时间，达到节约成本及提升产能的目的。附图说明所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：图1a到图1g是本专利技术实施例一种显示面板七道光罩制程的示意图；图2a到图2e是本专利技术实施例一种显示面板五道光罩制程的示意图；图3a到图3f是本专利技术实施例一种显示面板六道光罩制程的示意图；图4是本专利技术实施例一种显示面板的制作方法流程示意图(1)；图5是本专利技术实施例一种显示面板的制作方法流程示意图(2)。其中，100、显示面板；110、基板；120、第一金属层；130、缓冲层；140、氧化物膜层；150、栅极绝缘层；151、中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物，通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层；在栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物，通过同一道光罩蚀刻形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层；在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层；在栅极层、源极层和漏极层的上方依次形成钝化层和透明电极层。2.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层的步骤包括：在所述氧化物膜层上通过半色调掩膜形成包括中部、第一侧部、第二侧部以及镂空部的栅极绝缘层；所述栅极绝缘层的中部的厚度厚于第一侧部的厚度，所述栅极绝缘层的中部的厚度高于第二侧部的厚度；所述镂空部形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间；在所述栅极绝缘层上金属溅渡形成第二层金属，并通过同一道光罩制程对第二层金属进行蚀刻得到栅极层、源极层和漏极层；形成的所述源极层和漏极层通过所述氧化物膜层连接。3.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述氧化物膜层上形成栅极绝缘层、栅极层、源极层和漏极层的步骤包括：在氧化物膜层上沉积形成栅极绝缘沉积层，并在栅极绝缘沉积层上沉积形成栅极金属层；通过一道光罩制程对栅极绝缘沉积层和栅极金属层进行蚀刻，形成栅极绝缘层和栅极层；在氧化物膜层上通过一道光罩形成包括中部、第一侧部、第二侧部以及镂空部的互联层；在互联层的上方形成第二层金属，并对第二层金属进行蚀刻得到漏极层和源极层；所述镂空部形成在中部和第一侧部，以及中部和第二侧部之间。4.如权利要求1所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在基板上通过同一道光罩蚀刻依次形成第一金属层、缓冲层和氧化物膜层的步骤包括：在氧化物膜沉积层上方通过一道光罩形成预设图案的光阻层；对所述氧化物膜沉积层的两侧部不重叠于光阻层的部分进行蚀刻得到氧化物膜层；对所述缓冲层的两侧部且不重叠于氧化物膜层的部分进行蚀刻得到缓冲层；对所述第一金属层的两侧部且不重叠于缓冲层的部分进行蚀刻，得到第一金属层；剥离清除氧化物膜层上方的光阻层。5.如权利要求2所述的一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述在栅极绝缘层上形成第二层金属，并通过同一道光罩制程蚀刻得到栅极层、源极层和漏极层的步骤中；所述栅极层位于与栅极绝缘层中部的上方；所述栅极层的宽度小于栅极绝缘层中部的宽度，源极层和漏极层分别位于栅极绝缘层两侧部上方；所述源极层、漏极层与栅极层绝缘。6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：在基板上依次沉积一层金属、缓冲材料和氧化物；通过同一道光罩...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨凤云，卓恩宗，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44