膜形成装置及膜形成方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够抑制所形成的膜的形状的偏差的膜形成装置及膜形成方法。膜形成部将膜材料涂布于基板而形成膜。摄像装置对配置于膜形成部的基板的表面进行拍摄。控制部控制膜形成部。控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据。基于该图案数据形成膜之前，控制部使膜材料在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分吐出而形成评价图案。基于用摄像装置对评价图案进行拍摄而得到的图像判定基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜形成装置及膜形成方法
本专利技术涉及一种膜形成装置及膜形成方法。
技术介绍
在形成用于将触控面板的透明导电膜进行图案化的抗蚀图案中，正在利用光刻技术或网版印刷技术。利用光刻技术的方法中，能够形成高精细的图案，但装置成本、废液处理成本等变高。利用网版印刷技术的方法，从装置成本、废液处理成本方面考虑，比起利用光刻技术的方法更有利，但难以形成高清晰的图案。提出有利用喷墨印刷技术形成抗蚀图案的技术(专利文献1)。以往技术文献专利文献专利文献1：国际公布2013/089049号
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题已知若利用喷墨印刷技术在多个基板形成相同图案的膜则膜的形状会在基板之间产生偏差。本专利技术的目的在于提供一种能够抑制所形成的膜的形状的偏差的膜形成装置及膜形成方法。用于解决技术课题的手段根据本专利技术的一观点，提供一种膜形成装置，其具有：膜形成部，将膜材料涂布于基板而形成膜；摄像装置，对配置于所述膜形成部的基板的表面进行拍摄；及控制部，控制所述膜形成部，所述控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据，在基于所述图案数据形成膜之前，所述控制部控制所述膜形成部在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分形成由与应该形成的膜相同的材料构成的评价图案，所述控制部获取用所述摄像装置对所述评价图案进行拍摄而得到的图像，所述控制部基于所获取的所述图像判定所述基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。根据本专利技术的另一观点，提供一种膜形成方法，其中，从喷墨头向基板表面的应该形成具有某一图案的膜的区域的内部吐出所述膜的膜材料而形成评价图案，基于形成于所述基板的所述评价图案而判定所述基板的表面状态的好坏，当判定结果良好时，在所述基板的表面形成具有所述某一图案的所述膜，当判定结果不良时，进行所述基板的表面的清洗之后，在所述基板的表面形成具有所述某一图案的所述膜。专利技术效果在形成膜之前形成评价图案而判定基板的表面状态的好坏，由此能够避免直接在表面状态不良的基板形成膜的情况。由此，能够抑制所形成的膜的形状的偏差。附图说明图1为基于实施例的膜形成装置的概略主视图。图2为将触控面板的透明电极图案化时用作蚀刻掩模的抗蚀膜的俯视图。图3为基于实施例的膜形成方法的流程图。图4为表示应该形成的膜与评价图案之间的位置关系的俯视图。图5A为由一个液滴而形成的正常的点图案的俯视图，图5B为比正常的点图案大的点图案的俯视图，图5C为渗出的点图案的俯视图，图5D为平面形状变形的点图案的俯视图。图6A为在基板形成有评价图案的状态(步骤S4)的基板的剖视图，图6B为在基板形成有抗蚀膜的状态(步骤S7)的基板的剖视图，图6C为将抗蚀膜用作蚀刻掩模而对透明导电膜进行蚀刻之后的基板的剖视图，图6D为去除了用作蚀刻掩模的抗蚀膜的状态的基板的剖视图。图7A及图7B为将应该形成的抗蚀膜的一部分放大的俯视图。图8A为通过基于另一实施例的方法而在基板形成有评价图案的状态(步骤S4)的基板的剖视图，图8B为在基板形成有抗蚀膜的状态(步骤S7)的基板的剖视图。具体实施方式参考图1～图7B，对基于实施例的膜形成装置及膜形成方法进行说明。图1为基于本实施例的膜形成装置的概略主视图。在基台20上经由移动机构21而支承有工作台23。工作台23具有作为在其上表面(支承面)支承基板50的支承部的功能。移动机构21使工作台23沿与支承面平行的二维方向移动，由此能够使基板50沿二维方向移动。移动机构21及工作台23例如能够使用XY工作台。通常，工作台23的支承面保持水平。在被工作台23支承的基板50的上方配置有多个喷墨头26及多个摄像装置27。喷墨头26及摄像装置27通过门型框架24而被基台20支承。各喷墨头26上设置有多个喷嘴孔。从喷嘴孔向基板50吐出膜材料的液滴。喷墨头26、工作台23及移动机构21作为在基板形成膜的膜形成部而发挥功能。摄像装置27对被工作台23支承的基板50的一部分进行拍摄，并向控制装置(控制部)30发送所获取的二维图像的图像数据。能够通过使附着在基板50的液态膜材料固化而形成膜。作为膜材料，能够使用光固化性树脂、热固化性树脂等。在喷墨头26的侧面配置有使附着在基板50的膜材料固化的光源或热源。控制装置30控制基于移动机构21的工作台23的移动及源自喷墨头26的喷嘴孔的膜材料的吐出。控制装置30包含存储装置31，存储装置31中存储有应该形成的膜的图案数据。图案数据例如由配置成矩阵状的多个像素(pixel)构成。控制装置30基于图案数据控制移动机构21及喷墨头26，由此能够在基板50形成所希望的图案的膜。从输入装置35向控制装置30输入各种指令或数据。输入装置35例如使用键盘、指示设备、USB端口、通信装置等。输出装置(输出部)36基于来自控制装置30的指令而输出与膜形成装置的动作有关的各种信息。输出装置36中例如使用液晶显示器、扬声器、USB端口、通信装置等。图2为将触控面板的透明电极膜图案化时用作蚀刻掩模的抗蚀膜53的俯视图。通过将抗蚀膜53作为蚀刻掩模而对由ITO等形成的透明导电膜进行蚀刻来形成透明电极。在图2中，对涂布有抗蚀剂的区域描绘有点图案。图1所示的膜形成装置中，在基板50形成抗蚀膜53。抗蚀膜53包含配置成矩阵状的多个焊盘部51及在列方向上连接多个焊盘部51的连接部52。隔开在行方向上彼此相邻的两个焊盘部51的间隔G为图案的最小尺寸。参考图3，对使用图1所示的膜形成装置而形成膜的方法进行说明。图3为基于本实施例的膜形成方法的流程图。首先，在步骤S1中，将应该形成膜的基板50(图1)置于工作台23的支承面上，并通过真空卡盘等而固定基板50。在步骤S2中，控制装置30判定是否需要进行基板50的对位。通过基板50的种类而确定是否需要进行对位，并在存储装置31(图1)中存储是否需要进行对位的信息。例如，当在基板50上已形成有任意图案时，需要进行已形成的图案与新形成的膜的对位。该情况下，对形成在基板50的对准标志进行定位而形成新的膜。当在基板50上未形成有任何图案时，例如当在基板50的整个面上并未形成有应该图案化的膜时，不需要进行对位。该情况下，将对工作台23进行定义的工作台座标作为基准而形成新的膜。当需要进行基板50的对位时，在步骤S3中，检测出工作台23的支承面内的基板50的位置。具体而言，用摄像装置27(图1)对设置于基板50上的对准标志进行拍摄，并进行图像分析，由此检测出基板50的位置。检测出基板50的位置之后，在步骤S4中，在应该形成膜的区域的内部形成评价图案。当不需要进行基板50的对位时，不执行步骤S3而执行步骤S4。参考图4，对步骤S4的处理进行说明。图4为表示应该形成的抗蚀膜53与评价图案55之间的位置关系的俯视图。控制装置30基于应该形成的抗蚀膜53的图案数据，确定应该形成评价图案55的至少一个位置。评价图案55配置于在基于图案数据而形成抗蚀膜53时应该涂布膜材料的区域的内部。例如，一个评价图案55由相互分开的多个点图案构成。图4中，示出评价图案55由配置于一个焊盘部51的内部的5个点图案构成的例。评价图案55中所包含的一个点图案的大小为由从一个喷嘴孔吐出的液滴而形成的大小。在确定应该形成评价图案55的位置之后，控制装置30控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜形成装置，其具有：膜形成部，将膜材料涂布于基板而形成膜；摄像装置，对配置于所述膜形成部的所述基板的表面进行拍摄；及控制部，控制所述膜形成部，所述控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据，在基于所述图案数据形成膜之前，所述控制部控制所述膜形成部在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分形成由与应该形成的膜相同的材料构成的评价图案，所述控制部获取用所述摄像装置对所述评价图案进行拍摄而得到的图像，所述控制部基于所获取的所述图像判定所述基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.22 JP 2016-1616151.一种膜形成装置，其具有：膜形成部，将膜材料涂布于基板而形成膜；摄像装置，对配置于所述膜形成部的所述基板的表面进行拍摄；及控制部，控制所述膜形成部，所述控制部中存储有对应该形成的膜的平面形状进行定义的图案数据，在基于所述图案数据形成膜之前，所述控制部控制所述膜形成部在为了形成膜而涂布膜材料的区域内侧的一部分形成由与应该形成的膜相同的材料构成的评价图案，所述控制部获取用所述摄像装置对所述评价图案进行拍摄而得到的图像，所述控制部基于所获取的所述图像判定所述基板的表面状态的好坏，并基于判定结果执行不同的处理。2.根据权利要求1所述的膜形成装置，其中，所述膜形成部具有：支承部，支承所述基板；喷墨头，向被所述支承部支承的所述基板吐出膜材料；及移动机构，使被所述支承部支承的所述基板与所述喷墨头中的一个相对于另一个移动，所述控制部控制所述喷墨头及所述移动机构。3.根据权利要求1或2所述的膜形成装置，其中，在所述基板的表面状态的好坏的判定中，所述控制部基于所述评价图案的大小是否在允许范围内、所述评价图案周围的渗出宽度是否在允许范围内及平面形状的变形是否在允许范围内中的至少一个判定条件而进行好坏的判定。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈本裕司，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP