一种静电吸盘制造技术

本发明专利技术公开了一种静电吸盘，该静电吸盘包括包括相互配合安装的第一基体和第二基体，在所述第一基体与所述第二基体之间形成冷却腔；在所述第一基体与所述第二基体的配合安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接，使得所述冷却腔形成密封腔体；第一基体与第二基体配合后，在两者的配合安装处采用氩弧焊或者离子束焊的方式将两者密封焊接，使得冷却腔形成密封腔体，从而充斥在冷却腔中的冷却气体或冷却液体不会泄露，并且可长时间处于这种密封状态，保证了该静电吸盘长时间的稳定性，并延长该静电吸盘的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种静电吸盘
本专利技术属于一种半导体设备领域，具体的讲涉及一种静电吸盘。
技术介绍
传统的静电吸盘通常采用两片或两片以上金属材料基体通过融接焊或者扩融焊叠加焊接的方式制成，在两片金属材料直接形成冷却腔，前述焊接方式需要借助除基体外的过渡金属才能焊接，从而，此种静电吸盘容易存在焊接不实、金属间融不彻底的因素，静电吸盘使用时间久了之后，容易造成漏油，漏气的现象；并且，采用前述焊接方式，对于金属材料基体的表面光滑度要求也相对较高，制造成本高。
技术实现思路
鉴于存在以上问题，本专利技术提供了一种静电吸盘，包括相互配合安装的第一基体和第二基体，在所述第一基体与所述第二基体之间形成冷却腔；在所述第一基体与所述第二基体的配合安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接，使得所述冷却腔形成密封腔体。可选地，所述第一基体的配合安装面上设有电极，所述第二基体的配合安装面上对应设有过孔，所述电极穿过所述过孔，并在所述电极与过孔的安装配合处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接。可选地，所述电极与所述过孔之间为过盈配合或者过渡配合安装。可选地，所述电极与所述过孔之间设置有第一密封圈。可选地，所述第一基体的配合安装面延伸处一围合的第一凸台，所述第二基体的配合安装面上延伸出一围合的第二凸台，所述第二凸台嵌套安装入第一凸台围合的腔体内后形成冷却腔，并在所述第一凸台和所述第二凸台的嵌套安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接。可选地，所述第一凸台与所述第二凸台之间为过盈配合或者过渡配合嵌套。可选地，所述第一凸台与所述第二凸台之间设置有第二密封圈。可选地，所述第一凸台和第二凸台均呈圆形设置。可选地，所述第二基体的配合安装面上还凸设有多条凸棱，所述凸棱位于所述冷却腔内，所述凸棱构成冷却气体流路和冷却液体流路，所述冷却气体流路和所述冷却液体流路之间互不相通。可选地，所述冷却气体流路中流通的介质为惰性气体，所述冷却液体流路中流通的介质为水或硅油。有益效果本专利技术的有益效果是：第一基体与第二基体配合后，在两者的配合安装处采用氩弧焊或者离子束焊的方式将两者密封焊接，使得冷却腔形成密封腔体，从而充斥在冷却腔中的冷却气体或冷却液体不会泄露，并且可长时间处于这种密封状态，保证了该静电吸盘长时间的稳定性，并延长该静电吸盘的使用寿命。此外，通过前述氩弧焊或者离子束焊的方式焊接，即使第一基体、第二基体的表面粗糙，也不影响该静电吸盘的制作，对于第一基体、第二基体的表面光滑度要求降低，从而减少了工艺制作成本。附图说明图1是本专利技术静电吸盘一实施例的装配连接示意图。图2是图1中A-A的剖视图；图3为本专利技术静电吸盘一实施例的另一视角装配连接示意图图4为本专利技术静电吸盘一实施例的结构分解示意图；图5为本专利技术静电吸盘一实施例的另一视角结构分解示意图。具体实施方式作为本专利技术的一种实施方式，如图1至5所示，该静电吸盘10包括相互配合安装的第一基体100和第二基体200，在所述第一基体100与所述第二基体200之间形成冷却腔300；在所述第一基体100与所述第二基体200的配合安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接，使得所述冷却腔300形成密封腔体。在本实施例中，第一基体100、第二基体200优选采用金属材料制作而成，在第一基体100或第二基体200带电的情况下，该静电吸盘10可吸附半导体材料制成的器件，当应用该静电吸盘10吸附半导体元件进行蚀刻等工艺处理时，该工艺过程的环境温度较高，因此，需通过该静电吸盘10的冷却腔300进行降温处理。通常，冷却腔300中充斥着惰性气体(比如氦气等)用于散热，还可充斥硅油等散热液体用于散热，通过冷却腔300的作用，该静电吸盘10可提供一相对稳定的恒温环境，使得半导体器件的性能保持完好。第一基体100与第二基体200配合后，在两者的配合安装处采用氩弧焊或者离子束焊的方式将两者密封焊接，使得冷却腔300形成密封腔体，从而充斥在冷却腔300中的冷却气体或冷却液体不会泄露，并且可长时间处于这种密封状态，保证了该静电吸盘10长时间的稳定性，并延长该静电吸盘10的使用寿命。此外，通过前述氩弧焊或者离子束焊的方式焊接，即使第一基体100、第二基体200的表面粗糙，也不影响该静电吸盘10的制作，对于第一基体100、第二基体200的表面光滑度要求降低，从而减少了工艺制作成本。具体地，所述第一基体100的配合安装面上设有电极110，所述第二基体200的配合安装面上对应设有过孔210，所述电极110穿过所述过孔210，并在所述电极110与过孔210的安装配合处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接。所述电极110与所述过孔210之间为过盈配合或者过渡配合安装；且在所述电极110与所述过孔210之间设置有第一密封圈(图未示)。该电极110可设置多个，并且该多个电极110可与第一基体100构成的整体可采用一体成型工艺制成。电极110与过孔210采用过盈配合的方式并设置第一密封圈的方式连接，进一步保证了冷却腔300体的密封性。当然，电极110与过孔210也可采用过渡配合的方式安装。进一步地，所述第一基体100的配合安装面延伸处一围合的第一凸台120，所述第二基体200的配合安装面上延伸出一围合的第二凸台220，所述第二凸台220嵌套安装入第一凸台120围合的腔体内后形成冷却腔300，并在所述第一凸台120和所述第二凸台220的嵌套安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接。所述第一凸台120与所述第二凸台220之间为过盈配合或者过渡配合嵌套；所述第一凸台120与所述第二凸台220之间设置有第二密封圈(图未示)；所述第一凸台120和第二凸台220均呈圆形设置。在第一基体100与第二基体200的周向配合上，采用过盈或者过渡嵌套的方式，并加上第二密封圈的结构，进一步保证了第一基体100与第二基体200之间的连接的密封性，即提高了冷却腔300的密封性。进一步地，所述第二基体200的配合安装面上还凸设有多条凸棱230，所述凸棱230位于所述冷却腔300内，所述凸棱230构成冷却气体流路和冷却液体流路，所述冷却气体流路和所述冷却液体流路之间互不相通。具体地，所述冷却气体流路中流通的介质优选为惰性气体(比如氦气等)，所述冷却液体流路中流通的介质为水或硅油。该凸棱230和第二基体200构成的整体采用一体成型工艺制成。可将冷却气体流路、冷却液体流路设置呈互不相通的环状结构，则冷却气体流路与冷却液体流路之间互不干扰，通过采用多种冷却方式并行的模式，也可进一步提高散热的性能。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种静电吸盘，其特征在于，包括相互配合安装的第一基体和第二基体，在所述第一基体与所述第二基体之间形成冷却腔；在所述第一基体与所述第二基体的配合安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接，使得所述冷却腔形成密封腔体。

【技术特征摘要】
1.一种静电吸盘，其特征在于，包括相互配合安装的第一基体和第二基体，在所述第一基体与所述第二基体之间形成冷却腔；在所述第一基体与所述第二基体的配合安装处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接，使得所述冷却腔形成密封腔体。2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第一基体的配合安装面上设有电极，所述第二基体的配合安装面上对应设有过孔，所述电极穿过所述过孔，并在所述电极与过孔的安装配合处通过氩弧焊或离子束焊的方式连接。3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其特征在于，所述电极与所述过孔之间为过盈配合或者过渡配合安装。4.根据权利要求2或3所述的静电吸盘，其特征在于，所述电极与所述过孔之间设置有第一密封圈。5.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第一基体的配合安装面延伸处一围合的第一凸台，所述第二基体的配合安装面上延伸出一围合的第二凸台...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国家，
申请(专利权)人：刘国家，
类型：发明
国别省市：广东,44