【技术实现步骤摘要】
一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法
本专利技术涉及纳米晶/非晶磁芯制造
,尤其涉及一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法。
技术介绍
目前纳米晶/非晶磁芯镜面切割通常有两种方法:第一种是使用砂轮机直接将磁芯切割,再对切割面进行抛光、打磨,将磁芯切割面加工成为镜面,该方法因工序较多存在磁芯加工成本较高的问题;另一种是对磁芯灌胶烘烤使磁芯固化后使用砂轮机进行切割,该方法切割出的磁芯切割面会出现磁芯叠层痕迹,无法达到镜面要求,叠层痕迹非常影响磁芯的性能,甚至导致报废,因此报废率较高,加工成本较高。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足,本专利技术提供了一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法,用此方法加工出来的磁芯的切割面为镜面,可提高成品率,降低成本。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案为:一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法,包括以下步骤:步骤1、制备磁芯基体:将纳米晶/非晶带材进行卷绕,并经退火处理形成磁芯基体;步骤2、预固化:将磁芯基体进行初次浸胶固化处理,形成固化磁芯;步骤3、抽真空固化:将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中,进行真空含浸,将含浸后的固化磁芯进行烘烤,形成二次固化磁芯;步骤4、切割:使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割,得到切割面为镜面的磁芯。作为上述技术方案的改进,步骤2的具体步骤为:步骤2.1、将磁芯基体完全浸入含有环氧树脂、固化剂和稀释剂的胶水中,静置30分钟以上;步骤2.2、将浸过胶水的磁芯基体取出并置于烤箱中,烘烤温度控制在120±5℃,保温时间4小时以上。作为上述技术方案的改进,步骤2.1中使用的胶水中环氧树脂、固化剂、稀释剂的比例为1:1:1 ...
【技术保护点】
1.一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1、制备磁芯基体:将纳米晶/非晶带材进行卷绕,并经退火处理形成磁芯基体;步骤2、预固化:将磁芯基体进行初次浸胶固化处理,形成固化磁芯;步骤3、抽真空固化:将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中,进行真空含浸,将含浸后的固化磁芯进行烘烤,形成二次固化磁芯;步骤4、切割:使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割,得到切割面为镜面的磁芯。
【技术特征摘要】
1.一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤1、制备磁芯基体:将纳米晶/非晶带材进行卷绕,并经退火处理形成磁芯基体;步骤2、预固化:将磁芯基体进行初次浸胶固化处理,形成固化磁芯;步骤3、抽真空固化:将固化磁芯完全浸入硬固化胶水中,进行真空含浸,将含浸后的固化磁芯进行烘烤,形成二次固化磁芯;步骤4、切割:使用砂轮机对二次固化磁芯进行切割,得到切割面为镜面的磁芯。2.根据权利要求1所述的一种纳米晶/非晶磁芯镜面加工方法,其特征在于:步骤2的具体步骤为:步骤2.1、将磁芯基体完全浸入含有环氧树脂、固化剂和稀释剂的胶水中,静置30分钟以上;步骤2.2、将浸过胶水的磁芯基体取出并置于烤箱中,烘烤温度控制在120±5℃,保温时间4小时以上。3.根据权利要求2所述的一种纳米晶/非晶磁...
【专利技术属性】
技术研发人员:张伟三,白明,
申请(专利权)人:珠海市格润新纳电子有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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