一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置制造方法及图纸

技术编号:20554919 阅读:46 留言:0更新日期:2019-03-14 02:18
本实用新型专利技术公开了一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,包括固定底座,所述固定底座上端安装有固定柱,固定柱上端安装有固定板,所述固定板上端右侧安装有转轴,转轴上端安装有光掩模载台,所述固定板上端左侧安装有第一支架导轨,第一支架导轨上端设有第二支架导轨,第二支架导轨上端安装有移动块,移动块右端安装有棉签支架。本实用新型专利技术,结构合理,设计新颖,将棉签放置在棉签支架上,移动推杆,就可以将整个掩模版的侧壁擦拭干净,并且光掩模载台可以360度旋转,不用人工调整光掩模位置,大大减少了人工擦拭侧壁时带来的掉版、划伤、铬面化学品残留的风险,实用性强,可靠性高。

A Semi-automatic 6025 Mask Side Wall Contamination Removal Device

The utility model discloses a semi-automatic 6025 mask side wall dirt removal device, which comprises a fixed base. The upper end of the fixed base is equipped with a fixed column, and the upper end of the fixed column is equipped with a fixed plate. The upper end of the fixed plate is equipped with a rotating shaft, and the upper end of the rotating shaft is equipped with a light mask platform. The upper end of the fixed plate is equipped with a first support guide rail on the left side, and the upper end of the first support guide rail is equipped with a light mask platform. There is a second support guide rail, a moving block is installed at the upper end of the second support guide rail, and a cotton swab support is installed at the right end of the moving block. The utility model has reasonable structure and novel design. By placing the cotton swab on the cotton swab bracket and moving the push rod, the side wall of the whole mask can be wiped clean, and the photomask platform can rotate 360 degrees without manual adjustment of the position of the photomask, which greatly reduces the risks of plate dropping, scratching and residual chromium chemicals when the side wall is wiped artificially, and has strong practicability and reliability. High.

【技术实现步骤摘要】
一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置
本技术涉及掩模版加工设备
,具体是一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置。
技术介绍
6025掩模版的侧壁在制造过程中会残留各种各样的脏污,比如基板生产过程中残留的光阻,掩模版铬面的光阻再清洗过程中流道侧壁,掩模版生产过程中残留的化学品、手指印等,在晶圆制造厂使用掩模版时,这种侧壁的脏污可能会使晶圆曝光机侦测不到掩模版,所以这种侧壁脏污的祛除也是光掩模生产中一项非常重要的质量标准。一般的掩模版生产过程中,要祛除这种侧壁脏污,主要使用的方式是清洗,对于掩模版的清洗,主要分为浸泡式的清洗和旋转式的清洗,其中浸泡式的清洗对于侧壁脏污的祛除非常有效。但旋转式清洗因为本身设计上喷嘴的覆盖范围主要针对铬面,对于侧壁的清洗存在一定的缺陷,所以在实际应用中往往需要设置特定工艺步骤,甚至是特定的硬件模块来应对侧壁的清洗,这就带来了生产周期的延长,产能的损失以及成本的提高。如果不使用清洗机器,可以使用人工擦拭的方法,但人工擦拭同样带来掉版、划伤、铬面化学品残留等问题的风险,实用性不强。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,包括固定底座,所述固定底座上端安装有固定柱,固定柱上端安装有固定板,所述固定板上端右侧安装有转轴,转轴上端安装有光掩模载台,所述固定板上端左侧安装有第一支架导轨,第一支架导轨上端设有第二支架导轨,第二支架导轨上端安装有移动块,移动块右端安装有棉签支架。作为本技术进一步的方案:所述棉签支架右端中部安装有棉签。作为本技术进一步的方案:所述光掩模载台上可拆卸放置有光掩模。作为本技术进一步的方案:所述第一支架导轨为2根,第一支架导轨为1根。作为本技术再进一步的方案:所述移动块左端安装有推杆。与现有技术相比,本技术的有益效果是:所述一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,结构合理,设计新颖,将棉签放置在棉签支架上,移动推杆,就可以将整个掩模版的侧壁擦拭干净,并且光掩模载台可以360度旋转,不用人工调整光掩模位置,大大减少了人工擦拭侧壁时带来的掉版、划伤、铬面化学品残留的风险,实用性强,可靠性高。附图说明图1为一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置的立体结构示意图。图2为一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置的正视结构示意图。图3为一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置的俯视结构示意图。具体实施方式需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在本技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。参阅图1~3,本技术实施例中,一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,包括固定底座11,所述固定底座11上端安装有固定柱10,固定柱10上端安装有固定板12,其特征在于,所述固定板12上端右侧安装有转轴2,转轴2上端安装有光掩模载台1,所述光掩模载台1上可拆卸放置有光掩模3,所述固定板12上端左侧安装有第一支架导轨7,第一支架导轨7上端设有第二支架导轨6,所述第一支架导轨7为2根,第一支架导轨6为1根,第二支架导轨6上端安装有移动块8,所述移动块8左端安装有推杆9,移动块8右端安装有棉签支架5,所述棉签支架5右端中部安装有棉签4。本技术的工作原理是:首先将6025掩模版固定在光掩模载台1上,将棉签4放置在棉签支架5上,移动推杆9,通过第一支架导轨7实现着左右移动,通过第二支架导轨6实现着前后移动,这样就可以将整个掩模版的侧壁擦拭干净,并且光掩模载台1在转轴2的作用下可以360度旋转,不用人工调整光掩模位置,大大减少了人工擦拭侧壁时带来的掉版、划伤、铬面化学品残留的风险,实用性强,可靠性高。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,包括固定底座(11),所述固定底座(11)上端安装有固定柱(10),固定柱(10)上端安装有固定板(12),其特征在于,所述固定板(12)上端右侧安装有转轴(2),转轴(2)上端安装有光掩模载台(1),所述固定板(12)上端左侧安装有第一支架导轨(7),第一支架导轨(7)上端设有第二支架导轨(6),第二支架导轨(6)上端安装有移动块(8),移动块(8)右端安装有棉签支架(5)。

【技术特征摘要】
1.一种半自动6025掩模版侧壁脏污祛除装置,包括固定底座(11),所述固定底座(11)上端安装有固定柱(10),固定柱(10)上端安装有固定板(12),其特征在于,所述固定板(12)上端右侧安装有转轴(2),转轴(2)上端安装有光掩模载台(1),所述固定板(12)上端左侧安装有第一支架导轨(7),第一支架导轨(7)上端设有第二支架导轨(6),第二支架导轨(6)上端安装有移动块(8),移动块(8)右端安装有棉签支架(5)。2.根据权利要求1所述的一种半自动6...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜巍王豪胡平成立炯
申请(专利权)人:上海凸版光掩模有限公司
类型:新型
国别省市:上海,31

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