The invention provides a vacuum evaporation device of so-called downward deposition mode, which can minimize the influence of particles. It has a vaporizing source (3) disposed in a vacuum chamber (1), a storage tank (31) containing vaporizing substance (Vm) and a heating device (33) heating vaporizing substance to sublimate or gasify the vaporizing substance, and an ejection part (32) of sublimated or gasified vaporizing substance in the storage tank. The ejection part is positioned in the vertical direction relative to the film formed substance (S) in the vacuum chamber, and the ejection part is positioned in the vertical direction relative to the film formed substance (S) in the vacuum A synclinal downward ejector (32b) ejects evaporated material from the ejector to the film-forming object, and the holding box is offset at a position far from the end of the film-forming object.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空蒸镀装置
本专利技术涉及一种真空蒸镀装置,具体而言,涉及设置在容置箱内的升华或气化了的蒸镀物质的喷出部相对于真空室内的被成膜物位于垂直方向上方的所谓的向下沉积方式的真空蒸镀装置。
技术介绍
这种真空蒸镀装置例如在专利文献1中已知。其中,在真空室的垂直方向下方设置向该真空室的一个方向运送基板的基板运送装置,在其上部相对配置有蒸镀源。蒸镀源具有跨基板设置并收纳蒸镀物质的筒状的容置箱,在容置箱的下部,沿其长度方向以规定的间隔排列设置有蒸镀物质的喷出口。并且,用加热器加热蒸镀物质使其在容置箱内升华或气化,通过使该升华或气化了的蒸镀物质从喷出口向基板喷出,对基板进行成膜。此处,在容置箱内升华或气化了的蒸镀物质不只是从喷出口向基板喷出,且例如附着堆积在位于喷出口周围的容置箱的外表面部分上。此时,附着堆积的蒸镀物质会成为粒子的发生源。因此,如果如上述以往例子那样,跨基板设置容置箱,则附着在容置箱上的蒸镀物质成为粒子落到下方,产生附着到基板上这样的弊端,从而导致产品产量下降等问题。【现有技术文献】【专利文献】【专利文献1】专利第4216522号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题鉴于以上内容,本专利技术的课题是提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空蒸镀装置。解决技术问题的手段为解决上述课题,本专利技术的真空蒸镀装置具有配置在真空室内的蒸镀源,蒸镀源具有容置蒸镀物质的容置箱和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置;其特征在于:容置箱中设置有喷出升华或气化了的蒸镀物质的蒸气的喷出部,喷出部相对于真空室内的被成膜物位于垂直方向上方,喷出部具有相对于垂直方向斜 ...
【技术保护点】
1.一种真空蒸镀装置,具有配置在真空室内的蒸镀源,蒸镀源具有容置蒸镀物质的容置箱和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置;其特征在于:容置箱中设置有喷出升华或气化的蒸镀物质的蒸气的喷出部,喷出部相对于真空室内的被成膜物位于垂直方向上方;喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口,从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质的蒸气,容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.02 JP 2016-1523431.一种真空蒸镀装置,具有配置在真空室内的蒸镀源,蒸镀源具有容置蒸镀物质的容置箱和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置;其特征在于:容置箱中设置有喷出升华或气化的蒸镀物质的蒸气的喷出部,喷出部相对于真空室内的被成膜物位于垂直方向上方;喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口,从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质的蒸气,容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于:所述加热装置加热所述容置箱,并通过来自该容置箱的辐射热加热所述蒸镀物质的装置。3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置,其特征在于:具有在垂直方向上...
【专利技术属性】
技术研发人员:北泽僚也,中村寿充,朝比奈伸一,斋藤一也,
申请(专利权)人:株式会社爱发科,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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