The invention provides a photosensitive composition capable of forming a film without uneven liquid repellency, a manufacturing method thereof, a polymer capable of forming a film without uneven liquid repellency when used in a photosensitive composition, and a manufacturing method of a laminate using the photosensitive composition. A photosensitive composition comprising at least one of the following resins P1 and P2, and a photoinitiator. Resin P1: Resin formed from polymer A, which contains unit U1 with an organic group containing more than one fluorine atom, unit U2 with a cross-linking group, and terminal groups represented by any of the following formulas 1, 2 and 3. Resin P2: A resin consisting of a polymer B with unit U1 other than the polymer A and a polymer C with unit U2 other than the polymer A. The polymer B and at least one side of the polymer C have the terminal group. X
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性组合物、聚合物的制造方法、感光性组合物的制造方法、层叠体的制造方法
本专利技术涉及感光性组合物、聚合物的制造方法、感光性组合物的制造方法、层叠体的制造方法。
技术介绍
以往,作为生物芯片等装置的制造方法,提出了使用能够通过光刻形成规定图案的斥液性膜的感光性组合物的方法(例如专利文献1)。使用所述感光性组合物在亲水性基板上形成斥水性的膜,通过规定的图案曝光并显影,使亲水性基板的一部分露出,藉此能够分开制作亲水部和斥水部。作为如上所述的感光性组合物,提出了含有具有碳数4~8的氟代烷基的α位取代丙烯酸酯、不饱和有机酸、含环氧基的单体以及含有亚烷基氧基的单体以规定的比例聚合而得的具有特定的氟浓度和质均分子量的氟类聚合物的正型斥液抗蚀剂组合物(专利文献1)。作为调整分子量的方法,通常已知有使用链转移剂的方法。在专利文献1的实施例中,使用十二烷基硫醇作为链转移剂进行聚合,合成了质均分子量4600~6800的氟类聚合物。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第5516484号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题本专利技术人研究发现,如果在基材上涂布专利文献1记载的正型斥液抗蚀剂组合物以形成涂膜,则存在涂膜上观察到局部厚度不均(涂布不均)的问题。在氟类聚合物的质均分子量为6,000~20,000左右时,存在明显的涂布不均的问题。本专利技术的目的在于提供能够形成没有涂布不均的斥液性的涂膜的感光性组合物及其制造方法、用于感光性组合物时能够形成没有涂布不均的斥液性的涂膜的聚合物的制造方法、以及使用了该感光性组合物的层叠体的制造方法。解决技术问题所采用的技术方案本专 ...
【技术保护点】
1.感光性组合物,其含有下述树脂P1和下述树脂P2的至少一方、以及光引发剂,树脂P1:由聚合物A形成的树脂,所述聚合物A是含有作为具有含1个以上的氟原子的有机基团的单元的单元u1、作为具有交联基团的单元的单元u2、以及以下式1、下式2和下式3的任一者表示的末端基团的聚合物,树脂P2:由作为具有所述单元u1且不具有所述单元u2的聚合物的聚合物B、作为具有所述单元u2且不具有所述单元u1的聚合物的聚合物C构成的树脂,所述聚合物B和所述聚合物C的至少一方是具有以所述式1、所述式2和所述式3的任一者表示的末端基团的聚合物,‑X1‑C(R1)(R2)(R3)…1‑X2‑R4…2‑X3‑N(R5)(R6)…3其中,R1~R3分别独立地表示可具有羟基、氧代基或醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、碳数40以下的环状基团、羟基、卤原子、氨基、或氢原子,R1~R3中的至少2者为除氢原子以外的原子或基团,R4表示碳数40以下的环状基团,R5和R6分别独立地表示可具有羟基、氧代基或醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、或碳数40以下的环状基团,X1~X3分别独立地表示单键、‑S‑、‑S‑R7‑、‑R8‑、‑O‑ ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.08 JP 2016-136414;2016.07.08 JP 2016-136411.感光性组合物,其含有下述树脂P1和下述树脂P2的至少一方、以及光引发剂,树脂P1:由聚合物A形成的树脂,所述聚合物A是含有作为具有含1个以上的氟原子的有机基团的单元的单元u1、作为具有交联基团的单元的单元u2、以及以下式1、下式2和下式3的任一者表示的末端基团的聚合物,树脂P2:由作为具有所述单元u1且不具有所述单元u2的聚合物的聚合物B、作为具有所述单元u2且不具有所述单元u1的聚合物的聚合物C构成的树脂,所述聚合物B和所述聚合物C的至少一方是具有以所述式1、所述式2和所述式3的任一者表示的末端基团的聚合物,-X1-C(R1)(R2)(R3)…1-X2-R4…2-X3-N(R5)(R6)…3其中,R1~R3分别独立地表示可具有羟基、氧代基或醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、碳数40以下的环状基团、羟基、卤原子、氨基、或氢原子,R1~R3中的至少2者为除氢原子以外的原子或基团,R4表示碳数40以下的环状基团,R5和R6分别独立地表示可具有羟基、氧代基或醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、或碳数40以下的环状基团,X1~X3分别独立地表示单键、-S-、-S-R7-、-R8-、-O-R9-或-O-,R7、R8和R9分别独立地表示碳数1~40的直链亚烷基。2.如权利要求1所述的感光性组合物,其特征在于,所述聚合物A、所述聚合物B以及所述聚合物C各自的质均分子量为6,000~20,000。3.如权利要求1或2所述的感光性组合物,其特征在于,所述光引发剂是光产酸剂,所述聚合物A还含有作为具有由酸解离性基团保护的碱可溶性基团的单元的单元u3。4.如权利要求1或2所述的感光性组合物,其特征在于,所述光引发剂是光产酸剂,所述聚合物B和所述聚合物C的至少一方还含有作为具有由酸解离性基团保护的碱可溶性基团的单元的单元u3。5.如权利要求1~4中任一项所述的感光性组合物,其特征在于,所述聚合物A、所述聚合物B和所述聚合物C的任意1者以上还含有单元u4,所述单元u4是除所述单元u1、所述单元u2、以及作为具有由酸解离性基团保护的碱可溶性基团的单元的单元u3以外的单元。6.如权利要求1~5中任一项所述的感光性组合物,其特征在于,所述树脂P1和所述树脂P2的合计含量相对于所述感光性组合物的总质量为10~70质量%。7.聚合物的制造方法,其特征在于,在以下式11、下式12和下式13的任一者表示的链转移剂的存在下,使含有作为具有含1个以上的氟原子的有机基团的单体的单体a1、作为具有交联基团的单体的单体a2的单体成分聚合以得到聚合物,所述交联基团中不包括含有乙烯性双键的基团,Z1-X1-C(R1)(R2)(R3)…11Z2-X2-R4…12Z3-X3-N(R5)(R6)…13其中,R1~R3分别独立地表示可具有羟基、可具有氧代基、可具有醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、碳数40以下的环状基团、羟基、卤原子、氨基、或氢原子,R1~R3中的至少2者为除氢原子以外的原子或基团,R4表示碳数40以下的环状基团,R5和R6分别独立地表示可具有羟基、可具有氧代基、可具有醚性氧原子的碳数40以下的链状烃基、或碳数40以下的环状基团,X1~X3分别独立地表示单键、-S-、-S-R7-、-R8-、-O-R9-或-O-,R7、R8和R9分别独立地表示碳数1~40的直链亚烷基,Z1~Z3分别独立地表示氢原子或卤原子。8.聚合物的制造方法,其特征在于,在以下式11、下式12和下式13的任一者表示的链转移剂的存在下,使含有作为具有含1个以上的氟原子的有机基团的单体的单体a1、作为具有反应部位的单体的单体a2’的单体成分聚合以得到聚合物,然后使该聚合物与具有能够与所述反应部位结合的反应性官能团和交联基团...
【专利技术属性】
技术研发人员:小尾正树,佐佐木都,
申请(专利权)人:AGC株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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