用于对较大规模的空间和设备消毒的系统技术方案

本公开总体上涉及用于对空间和设备消毒的系统、装置和方法。尤其，本公开涉及使用诸如紫外(UV)光更具体地UV‑C光的光源对较大规模的设备或空间消毒的系统、装置和方法，例如，滚动的围场。本公开的系统和方法在用于处理医疗设备或空间的医疗设施中是尤其有用的，在所述医疗设施处病原体的流行要求频繁的消毒。

Systems for sterilizing larger-scale space and equipment

The present disclosure generally relates to systems, devices and methods for sterilizing space and equipment. In particular, the present disclosure relates to systems, devices and methods for disinfecting larger-scale equipment or space using light sources such as ultraviolet (UV) light more specifically UV C light, such as rolling paddocks. The systems and methods disclosed herein are particularly useful in medical facilities for processing medical equipment or space, where the prevalence of pathogens requires frequent disinfection.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对较大规模的空间和设备消毒的系统相关申请的交叉参考本申请根据35U.S.C.§119(e)要求享有于2016年5月24日提交的美国临时申请序列No.62/340,553；于2016年5月24日提交的美国临时申请62/340,554以及于2016年9月23日提交的美国临时申请序列No.62/398,840的优先权，其整个公开内容通过参考包含于此。
本公开总体上涉及用于对空间和设备消毒的系统、装置和方法。尤其，本公开涉及使用诸如紫外(UV)光更具体地UV-C光的能量源对较大规模的设备消毒的围场(enclosure)。本公开的系统和方法在用于处理医疗设备的医疗设施中是尤其有用的，在所述医疗设施处病原体的流行要求频繁的消毒。
技术介绍
已知使用紫外(UV)光对设备和空间消毒以减少个体之间的病原体的传播。例如，UV光用于对医院内的医疗设备和/或房间消毒，以降低对于已经不健康的患者群体而言传染的风险。由Taylor等人在其整个公开内容通过参考包含于此的美国专利No.7,791,044和No.8,536,541中描述了用于对公共使用的设备消毒的UV消毒站。在这些专利中描述的固定单元尤其用于对移动设备消毒，例如，购物车、轮椅、轮床，等等。然而，这种围场在可以改进移动性、可达性、用法、安全性、追踪、生产率和效率以及其它特征的自动化和设计特征的范围内有一些限制。类似地，UV室消毒单元提供一种高效的补充消毒措施，并且有可能成为降低设备上和/或空间内的病原体负担的高效的主要措施。已经表明，强度、接近度和视线对于从消毒系统发射的UV光高效地消除设备上和/或空间内的病原体的能力是至关重要的。然而，商业上可获得的“全室”UV-C消毒单元的高效性受到限制，这是因为这些单元是静止的。为了克服这种限制并且高效地降低整个“目标区域”的病原体负担，现有的单元必须在整个房间内手动地移动，或者多个单元被同时地使用。该限制可以潜在地需要多个消毒循环并且延长消毒过程。因此，这些单元在可以改进移动性、可达性、用法、安全性、追踪、生产率和效率以及其它特征的自动化和设计特征的范围内类似地受到阻碍。因此，通过本公开的系统和/或方法可以实现各种有利的医疗结果，本公开的系统发射具有强度、接近度和视线的组合的益处的UV光，以高效地接触设备和/或空间和高效地对其消毒。
技术实现思路
在一个方面中，本公开涉及用于消毒的系统和方法，所述系统和方法提供并且提议添加的功能性和设计能力，以改进消毒能力、移动性、访问、安全性、效率和生产率、追踪，等等。在一个方面中，本公开涉及便携式消毒系统，所述便携式消毒系统更高效地用于访问固定的或笨重的大型设备。这种系统可以是封闭系统，其在内部上具有向内引导光的光源，或者这种系统可以是开放系统，其在外部上具有向外引导光的光源。本文更详细地描述了在各种布置和配置中的、在这种移动单元的内部或外部上的、诸如UV-C管或LED的阵列的光源。在另一个方面中，本公开涉及机器人单元，所述机器人单元能够通过使用例如基于“目标区域”中的预设传感器的预设路径点、漫游模式，或者通过使用在单元上的集成传感器，或者通过组合这些措施中的一个或多个，自主地穿过“目标区域”或外壳运动，如本文更详细地描述的。自主地穿过“目标区域”运动的能力使紫外线更接近于目标病原体放置，所述紫外线的接近度和强度可以给予更高效的病原体杀灭率，并且可以同样消除对于由操作员将该单元手动地放置在其它位置中的需要或者消除对于多个单元的需要，潜在地缩短了治疗程序时间。在又一个方面中，本公开涉及一种消毒系统，所述消毒系统包括腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁。第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面都可以包括至少一个反射单元。在每个反射单元内可以容纳有至少一个能量源。可以围绕腔室的底部部分设置有多个滚动元件。第一侧壁和第二侧壁可以从后壁的相对侧基本垂直地延伸。每个反射单元都可以面向腔室的内部。每个反射单元都可以限定基本凹入的形状。每个能量源都可以被容纳在每个反射单元内，使得从能量源发射的能量被引导到腔室的内部中。每个能量源都可以包括紫外光源。每个紫外光源都可以被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。后壁的内表面的至少一部分可以包括反射表面。第一侧壁、第二侧壁和后壁中的一个或多个可以包括至少一个可移除面板。腔室可以被配置成在腔室的内部接收一件设备。消毒系统还可以包括顶壁，所述顶壁被附接到第一侧壁、第二侧壁和后壁的顶部部分。消毒系统还可以包括前壁以关闭腔室的开口。前壁可以包括窗，所述窗包括允许可见到腔室内部且同时基本阻隔从能量源发射的能量离开腔室的材料。前壁的内表面的至少一部分可以包括至少一个反射单元或反射表面。前壁可以通过至少一个铰链连接到第一侧壁或第二侧壁。前壁可以包括第一部分和第二部分，其中，前壁的第一部分通过至少一个铰链连接到第一侧壁，并且前壁的第二部分通过至少一个铰链连接到第二侧壁。前壁可以包括卷升门。消毒系统的前壁可以包括帘，所述帘被配置成关闭腔室的开口。帘的内表面的至少一部分可以包括反射表面。消毒系统还可以包括拉绳和滑轮，所述拉绳和滑轮被配置成使帘在打开构型和关闭构型之间运动。消毒系统还可以包括底壁，所述底壁被附接到第一侧壁、第二侧壁和后壁的底部部分。底壁的部分可以包括倾斜表面。底壁的部分可以朝向后壁下降。底壁可以包括至少一个止挡器。至少一个止挡器可以被可滑动地设置在至少一个轨道内，所述至少一个轨道被设置在底壁内。至少一个止挡器可以被附接到手柄。底壁的内表面可以包括至少一个反射单元。至少一个反射单元可以升高到底壁的内表面的上方。底壁还可以包括第一踏面和第二踏面，每个踏面的上表面都与升高的至少一个反射单元的上表面基本等高。消毒系统还可以包括斜坡，其中，斜坡的第一边缘与第一踏面和第二踏面的上表面齐平，并且斜坡的第二边缘与底壁的外表面齐平。多个滚动元件中的每个都可以被配置成在第一位置和第二位置之间运动。当滚动元件处于第一位置中时，滚动元件可以延伸超出腔室的底部部分，并且当滚动元件处于第二位置中时，滚动元件可以不延伸超出腔室的底部部分。滚动元件中的每个都可以包括活塞组件，所述活塞组件被配置成使每个滚动元件都在第一位置和第二位置之间运动。活塞组件可以包括活塞、控制杆和滚动元件的壳体。活塞的第一端部可以流体地连接到气体源，活塞的第二端部可以被附接到控制杆的第一端部，并且控制杆的第二端部可以被附接到壳体。每个滚动元件都可以通过将气体从气体源引入活塞中而从第二位置运动到第一位置，并且每个滚动元件都可以通过将引入的气体从活塞返回到气体源或者通过将引入的气体排放到大气而从第一位置运动到第二位置。气体源可以包括压缩气体源。消毒系统可以包括位于腔室的外表面上的控制面板，所述腔室的外表面例如是第一侧壁、第二侧壁、顶壁、后壁或前壁。控制面板可以被配置成与腔室上或腔室内的一个或多个传感器电通信。一个或多个传感器可以包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测腔室周围的运动。一个或多个传感器可以包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测腔室内的运动。一个或多个传感器可以被配置成确定前壁是否打开。一个或多个传感器可以被配置成确定与前壁平行的竖直平面是否被破坏。一个或多个传感器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消毒系统，其包括：腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁；所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面，所述内表面包括至少一个反射单元；容纳在每个反射单元内的至少一个能量源；以及围绕所述腔室的底部部分设置的多个滚动元件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.24 US 62/340,553;2016.05.24 US 62/340,554;1.一种消毒系统，其包括：腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁；所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面，所述内表面包括至少一个反射单元；容纳在每个反射单元内的至少一个能量源；以及围绕所述腔室的底部部分设置的多个滚动元件。2.根据权利要求1所述的消毒系统，其中，所述第一侧壁和第二侧壁从所述后壁的相对侧基本垂直地延伸。3.根据权利要求1或2所述的消毒系统，其中，每个反射单元都面向所述腔室的内部。4.根据权利要求1至3中任一项所述的消毒系统，其中，每个反射单元都限定基本凹入的形状。5.根据权利要求1至4中任一项所述的消毒系统，其中，每个能量源都被容纳在每个反射单元内，使得从所述能量源发射的能量被引导到所述腔室的内部中。6.根据权利要求1至5中任一项所述的消毒系统，其中，每个能量源都是紫外光源。7.根据权利要求6所述的消毒系统，其中，每个紫外光源都被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。8.根据权利要求1至7中任一项所述的消毒系统，其中，所述后壁的所述内表面的至少一部分包括反射表面。9.根据权利要求1至8中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的一个或多个包括至少一个能移除面板。10.根据权利要求1至9中任一项所述的消毒系统，其中，所述腔室被配置成在所述腔室的内部接收一件设备。11.根据权利要求1至10中任一项所述的消毒系统，还包括顶壁，所述顶壁被附接到所述第一侧壁、第二侧壁和后壁的顶部部分。12.根据权利要求1至11中任一项所述的消毒系统，还包括用于关闭所述腔室的开口的前壁。13.根据权利要求12所述的消毒系统，其中，所述前壁包括窗，所述窗包括允许能见到所述腔室内部且同时基本阻隔从所述能量源发射的能量离开所述腔室的材料。14.根据权利要求12或13所述的消毒系统，其中，所述前壁的内表面的至少一部分包括至少一个反射单元或反射表面。15.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁通过至少一个铰链连接到所述第一侧壁或第二侧壁。16.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括第一部分和第二部分，并且其中，所述前壁的所述第一部分通过至少一个铰链连接到所述第一侧壁，并且所述前壁的所述第二部分通过至少一个铰链连接到所述第二侧壁。17.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括卷升门。18.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括帘，所述帘被配置成关闭所述腔室的开口。19.根据权利要求18所述的消毒系统，其中，所述帘的内表面的至少一部分包括反射表面。20.根据权利要求18或19所述的消毒系统，还包括拉绳和滑轮，所述拉绳和滑轮被配置成使所述帘在打开构型和关闭构型之间运动。21.根据权利要求1至20中任一项所述的消毒系统，还包括底壁，所述底壁被附接到所述第一侧壁、第二侧壁和后壁的底部部分。22.根据权利要求21所述的消毒系统，其中，所述底壁的部分包括倾斜表面。23.根据权利要求21或22所述的消毒系统，其中，所述底壁的部分朝向所述后壁下降。24.根据权利要求21至23中任一项所述的消毒系统，其中，所述底壁包括至少一个止挡器。25.根据权利要求24所述的消毒系统，其中，所述至少一个止挡器被可滑动地设置在至少一个轨道内，所述至少一个轨道被设置在所述底壁内。26.根据权利要求24或25所述的消毒系统，其中，所述至少一个止挡器被附接到手柄。27.根据权利要求21至26中任一项所述的消毒系统，其中，所述底壁的内表面包括至少一个反射单元。28.根据权利要求27所述的消毒系统，其中，所述至少一个反射单元升高到所述底壁的所述内表面的上方。29.根据权利要求28所述的消毒系统，其中，所述底壁还包括第一踏面和第二踏面，并且每个踏面的上表面都与所述升高的至少一个反射单元的上表面基本等高。30.根据权利要求29所述的消毒系统，还包括斜坡，其中，所述斜坡的第一边缘与所述第一踏面和第二踏面的上表面齐平，并且所述斜坡的第二边缘与所述底壁的外表面齐平。31.根据权利要求1至30中任一项所述的消毒系统，其中，所述多个滚动元件中的每个都被配置成在第一位置和第二位置之间运动。32.根据权利要求31所述的消毒系统，其中，当所述滚动元件处于所述第一位置中时，所述滚动元件延伸超出所述腔室的底部部分，并且当所述滚动元件处于所述第二位置中时，所述滚动元件不延伸超出所述腔室的底部部分。33.根据权利要求31或32所述的消毒系统，其中，所述滚动元件中的每个都包括活塞组件，每个活塞组件都包括活塞、控制杆和所述滚动元件的壳体，所述活塞组件被配置成使每个滚动元件都在所述第一位置和所述第二位置之间运动。34.根据权利要求33所述的消毒系统，其中，所述活塞的第一端部流体地连接到气体源，所述活塞的第二端部被附接到所述控制杆的第一端部，并且所述控制杆的第二端部被附接到所述壳体。35.根据权利要求34所述的消毒系统，其中，每个滚动元件都通过将气体从所述气体源引入所述活塞中而从所述第二位置运动到所述第一位置，并且每个滚动元件都通过将所引入的气体从所述活塞返回到所述气体源或者通过将所引入的气体排放到大气而从所述第一位置运动到所述第二位置。36.根据权利要求35所述的消毒系统，其中，所述气体源是压缩气体源。37.根据权利要求1至36中任一项所述的消毒系统，还包括在所述第一侧壁、第二侧壁、顶壁、后壁或前壁的外表面上的控制面板。38.根据权利要求37所述的消毒系统，还包括在所述腔室上或所述腔室内的一个或多个传感器，其中，所述控制面板被配置成与所述一个或多个传感器电通信。39.根据权利要求38所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测所述腔室周围的运动。40.根据权利要求38或39所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测所述腔室内的运动。41.根据权利要求38至40中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器被配置成确定所述前壁是否打开。42.根据权利要求38至41中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器被配置成确定与所述前壁平行的竖直平面是否被破坏。43.根据权利要求38至42中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括电子传感器，所述电子传感器被配置成检测和/或区分所述腔室上或所述腔室内的病原体。44.根据权利要求43所述的消毒系统，其中，所述电子传感器被配置成确定所述腔室上或所述腔室内的病原体的近似量。45.根据权利要求38至44中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括UV光传感器，所述U...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·斯塔克韦瑟，J·伊利扎德，J·温，P·希尔特，T·泰勒，
申请(专利权)人：UV概念股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US