一种紧凑型光电测量暗室制造技术

本发明专利技术专利技术涉及一种可用于光电传感器、图像传感器或相机性能测试的光学暗室，属于光电测量技术领域。本发明专利技术的光学测量暗室为两层结构，其中一层是测量室，用于放置待测件及三维平移台等附属结构，设计有供光电测量用的入光口；暗室另一层是电缆室，光电测量需要使用的各类电缆包括数据线、电源线和控制线缆等从暗室外部通过电缆室出入测量室。测量室与电缆室两层之间由电缆室盖分隔，电缆室通过迷宫结构有效阻隔光线出入测量室。本发明专利技术所述的光学暗室具有遮光性好、结构紧凑、经久耐用及易于维护等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种紧凑型光电测量暗室
本专利技术专利涉及一种用于光电传感器、图像传感器与相机性能测试的光学暗室，属于光电测量

技术介绍
在光电传感器、图像传感器或相机的性能测试中，需要有遮光良好的暗室，确保在整个测试过程中待测器件不受外部光源的影响。例如，基于EMVA1288标准对图像传感器或相机进行测试过程中，在进行“暗场”测试时，要求全黑的测试环境；而在进行“明场”测试时，图像传感器表面也只能接受符合标准规定的光源发出的均匀光，不应受到外界光源的干扰。对光电传感器进行测试时，光电传感器的电源线、数据传输线及控制调试用的各类线缆需要连接到暗室外的相关测试设备上。为了确保线缆能正常出入同时阻隔光线的传输，通常有2种方法，第1种方法是在暗室壁上安装线缆转接件，所有测试线缆通过转接件接出暗室，由于转接件能完全遮光，从而有效解决了遮光的问题。但是，一方面，当数据传输线缆采用USB3.0、千兆网及万兆网线等高速接口时，这种转接方式有时会严重影响信号完整性导致信号质量变差或被测件工作不正常。另一方面，由于不可能在暗室侧壁上安装上所有不同型号的转接头来满足各类光电器件的测试需求，所以这种方法只适合少量固定种类的光电器件的测试。第2种方法是直接在暗室侧壁开孔，在孔上安装袖套式遮光线缆套，将测试用线缆通过线缆套引出暗室后，扎紧套口来解决遮光的问题。这种方法比前述第1种方法通用性强，不必为不同的线缆去准备各类转接头并且不用破坏线缆传输的信号完整性，但线缆套容易损坏，并且遮光效果不好保证以致于经常需要检查、校验与更换。现有技术文献：专利文献1：CN108848375A基于EMVA1288标准的相机性能测试装置。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了提供一种满足光电测试对暗室遮光性能的严格要求，同时结构紧凑、通用性强、经久耐用的光学测量暗室，可作为光电传感器、图像传感器及相机性能测试仪的组成部分，用于对待测件进行光电性能测试。本专利技术的装置是通过如下技术方案来实现的：本专利技术的光学测量暗室主要包括：测量室、测量室盖、待测光电器件固定平台、电缆室、电缆室盖等几个部分。所述的暗室内所有结构体表面全部处理为黑色，以减少暗室内部光的反射对光电测量产生的影响。所述的测量室一侧与电缆室紧密不透光连接，由所述电缆室盖将两者隔开为2层结构。所述电缆室盖上开有至少一个电缆出入口，测量室内的电缆经由此口进入电缆室。所述电缆室侧壁上至少开有一个电缆出入口，电缆室内电缆经由此口出入电缆室与暗室外测量仪相连接。所述电缆室内具有迷宫式结构，使暗室外测量电缆可以经由电缆室出入测量室，但暗室外光线无法经由电缆室进入测量室。所述的测量室一侧开有一个入光孔，与测量仪光源紧密连接。所述测量室盖与测量室通过合页或滑槽等方式连接，测量室盖打开时方便安装、调整或观察待测光电器件；测量室盖关闭时，两者之间的接缝采用凸起和凹槽紧密咬合的连接结构，确保接缝完全不漏光。有益效果：本专利技术所述的光电测量暗室，测试电缆可以直接连接暗室内部待测器件与外部仪器，中间无须转接，保证了信号的完整性与测试设备的通用性；采用迷宫式光学结构出入电缆，保证了良好的遮光效果。本专利技术所述的光电测量暗室结构紧凑、遮光性能良好、使用方便、经久耐用、通用性强且易于拆装与维护，能满足各类光电器件、图像传感器与相机光电性能测试需求。附图说明：图1为本专利技术所述的一种光学测量暗室的整体外观立体图；图2为图1所示的光学测量暗室的内部结构立体图；图3为图2所示的光学测量暗室移除待测光电器件固定平台后内部结构立体图；图4为本专利技术所述的光学测量暗室中的电缆室立体图；图5为本专利技术所述的光学测量暗室另一种设计的整体外观立体图；图中，1—测量室盖，2—连接测量室与测量室盖的合页，3—待测光电器件固定平台，4—测量室，5—测量室入光孔，6—电缆室，7—电缆室电缆出入口，8—从电缆室中引出的电缆，9—电缆室盖，10—电缆室盖电缆出入口，11—从电缆室引出到测量室的电缆，12—待测光电器件固定平台底座，13—电缆室中布放的电缆。具体实施方式：下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步说明。实施例1：一种紧凑型光电测量暗室，可用于光电传感器、图像传感器及相机的光电性能测试。图1与图2分别是分别是暗室关闭后的整体外观立体图与暗室打开后的内部结构立体图。该暗室包括测量室盖1、测量室4、电缆室6、电缆室盖9、待测光电器件固定平台3等几部分。在本实施例中，暗室分为上下两层，上层为测量室，下层为电缆室，两层之间由电缆室盖隔开。在暗室内部设置有一个待测光电器件固定平台，暗室盖打开后，可以用来放置或固定待测的光电器件，或调整光电器件的位置与角度。在测量室一侧壁上开有一个入光孔5，可与光电测量用光源紧密连接。在暗室光闭后，进行光电测量用的光从此进入测量室，除此孔外，外界的光无法进入暗室。待测光电器件固定平台并非本暗室必须具有的装置，图3为将此固定平台移除后暗室内部立体图，此时可以将待测光电器件或相机直接放置在电缆室盖上或以适当的方式固定在测量室内壁上，然后关闭测量室盖进行光电测试。图4为本实施例中所述光电测量暗室电缆室的内部结构立体图。暗室外光电测量需要使用的电缆8从电缆室出入口7进入迷宫状的电缆室6，在电缆室内经过多道弯折13后，由电缆室盖上的电缆出入口10引出，电缆室盖出入口引出后的电缆11进入测量室与待测光电器件连接。所述电缆室内壁及电缆室盖表面全部处理成黑色，光反射率极低。在电缆室盖盖上后，电缆室盖与电缆室之间的接缝密闭，不漏光，电缆室内光的出入口只有电缆室侧壁上的电缆出入口与电缆室盖上的电缆出入口。两个电缆出入口之间，电缆通过迷宫式电缆槽经过多次弯折后得以顺利通过，由于没有经过任何连接件，保证了所传输电信号的质量。使用本实施例所设计的迷宫式电缆槽结构，暗室外的光线从电缆室壁出入口进入电缆室后，至少要经过5次以上的反射才能从电缆室盖上的出入口进入测量室，在本实施例中假定电缆室内壁反射率为1%，经过5次反射后，进入测量室的光强不超过电缆室入口处光强的百亿分之一，如果有必要，可以在电缆室内增加更多的弯折，确保所漏过的光在光电测量精度范围内完全可以忽略不计，从而达到有效遮光的效果。经实测，本实施例所述光电测量暗室可以满足EMVA1288标准的要求，安装在专利文献1所述的相机性能测试装置上，用于进行图像传感器与相机的光电性能测试。实施例2：与实施例1整体结构大致相同，但将实施例1中与测量室通过合页连接的测量室盖改为以凸凹滑槽式结构的连接的测量室盖，如图5所示。本实施例中，测量室盖向上沿滑槽完全滑出，与测量室本体分离，从而可以完全打开测量室。测量室打开后，在同等体积下，在测量室内的操作会比实施例1更方便。在本实施例中，与实施例1另外一个不同之处在于在电缆室壁上开了2个电缆出入口，其它方面则无本质不同。经实测，本实施例所述光电测量暗室同样可以满足EMVA1288标准的要求，安装在专利文献1所述的相机性能测试装置上，用于进行图像传感器与相机的光电性能测试。实施例3：与实施例1与例2整体结构类似，但将测量室改用平开门式结构打开或关闭暗室。相对与实施例1与例2，这种方式打开或关闭暗室更轻松，但为了开关门，需要更大的水平操作空间。以上所述仅为本专利技术的较佳实例，便于本领域的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种紧凑型光电测量暗室，用于光电传感器、图像传感器或相机的性能测试，其特征在于：包括测量室、测量室盖、电缆室、电缆室盖、待测光电器件固定平台；所述光电测量暗室被所述电缆室盖分隔为二层，其中一层为所述测量室，另一层为所述电缆室；所述待测光电器件固定平台固定在所述测量室内；所述测量室盖与测量室通过合页方式或滑槽等方式连接，测量室盖关闭时，两者之间的接缝通过凸起和凹槽结构紧密咬合，完全不漏光；测量室盖打开时方便安装、调整、观察或更换待测光电器件。

【技术特征摘要】
1.一种紧凑型光电测量暗室，用于光电传感器、图像传感器或相机的性能测试，其特征在于：包括测量室、测量室盖、电缆室、电缆室盖、待测光电器件固定平台；所述光电测量暗室被所述电缆室盖分隔为二层，其中一层为所述测量室，另一层为所述电缆室；所述待测光电器件固定平台固定在所述测量室内；所述测量室盖与测量室通过合页方式或滑槽等方式连接，测量室盖关闭时，两者之间的接缝通过凸起和凹槽结构紧密咬合，完全不漏光；测量室盖打开时方便安装、调整、观察或更换待测光电器件。2.根据权利要求1所述的光电测量暗室，其特征在于，所述光电测量暗室内所有的结构体表面全部处理为黑色超低反射率表面，以最大可能减少暗室内部光线反射。3.根据权利要求1所述的光电测量暗室，其特征在于，所述电缆室盖上开有至少一个电缆出入口，所述测量室内用于光电测试的电缆通过此电缆室盖出入口进入电缆室。4.根据权利要求1所述的光电测量暗室，其特征在于，所述电缆室侧壁上...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯兵，陈玉兰，
申请(专利权)人：西安远望图像技术有限公司，
类型：发明
国别省市：陕西,61