The utility model discloses a low energy consumption etching solution and a reaction tank, which comprises a mixing tank, a neutralization irrigation tank, a liquid inlet cavity and a liquid outlet. The characteristics are as follows: by setting interlaced multi-layer baffles in the mixing tank, acid etching solution and alkaline etching solution flow through the layer baffles under the action of gravity, the liquid flow is greatly lengthened and broadened, that is, the opportunity and time of mixing acid and alkali liquor are increased, and the full mixing of acid and alkali liquor can be realized without stirring device; the acid and alkali liquor are integrated together. The alkali etching solution can be injected into the mixing tank at the same time, and a small mesh baffle is arranged at the lower end of the intake chamber, which makes the acid and alkali liquids have been preliminarily mixed before entering the mixing tank. The utility model has simple structure, eliminates the stirring device, and greatly reduces the energy consumption of acid and alkali etching solution and reaction.
【技术实现步骤摘要】
一种低能耗刻蚀液中和反应罐
本技术涉及一种反应罐,具体涉及一种低能耗刻蚀液中和反应罐。
技术介绍
刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺,而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀,湿法刻蚀是最普遍、成本最低的刻蚀方法,因此刻蚀液在半导体生产工艺应用非常普遍。刻蚀液的生产过程中,有时需要将酸性刻蚀液与碱性刻蚀液进行中和,此时需要用到中和反应罐。目前,现有的中和反应罐都需要通过搅拌电机带动搅拌装置进行搅拌混匀,能耗较高。
技术实现思路
本技术为了克服上述问题,设计一种低能耗刻蚀液中和反应罐。本技术是通过如下技术方案实现的:一种低能耗刻蚀液中和反应罐,包括混流罐、中和罐、进液腔和出液口其特征在于:所述混流罐为方形,混流罐内设置有多层隔板,所述隔板一端与混流罐内壁封闭连接,另一端与混流罐内壁有间隙,相邻隔板与混流罐内壁形成的间歇交错排列;所述混流罐其中一侧可开关,与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽,所述隔板与混流罐连接的连接端头截面呈梯形,连接端头与梯形槽相匹配,隔板通过连接端头插入梯形槽;所述隔板上设有纵横交错的凹槽;所述进液腔设置于混流罐顶部,进液腔上集成有酸液口和碱液口;所述进液腔底部为网状挡板;所述中和罐与混流罐一体成型,并位于混流罐的底部,中和罐与混流罐之间由一边高一边低的斜面板隔开,斜面板较低的一端与混流罐侧壁有间歇,该间歇成为液体流入中和罐的通道;所述中和罐内壁设置有pH值检测头,所述混流罐顶部设置有pH值显示器,pH值检测头与pH值显示器电性连接;所述pH值检测头与中和罐底部的距离和与斜面板最高处的距离相等。进 ...
【技术保护点】
1.一种低能耗刻蚀液中和反应罐,包括混流罐(1)、中和罐(8)、进液腔(3)和出液口(5)其特征在于:所述混流罐(1)为方形,混流罐(1)内设置有多层隔板(2),所述隔板(2)一端与混流罐(1)内壁封闭连接,另一端与混流罐(1)内壁有间隙,相邻隔板(2)与混流罐(1)内壁形成的间歇交错排列;所述混流罐(1)其中一侧可开关,与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽(10),所述隔板(2)与混流罐(1)连接的连接端头(21)截面呈梯形,连接端头(21)与梯形槽(10)相匹配,隔板(2)通过连接端头(21)插入梯形槽(10);所述隔板(2)上设有纵横交错的凹槽(22);所述进液腔(3)设置于混流罐(1)顶部,进液腔(3)上集成有酸液口(31)和碱液口(32);所述进液腔(3)底部为网状挡板(4);所述中和罐(8)与混流罐(1)一体成型,并位于混流罐(1)的底部,中和罐(8)与混流罐(1)之间由一边高一边低的斜面板(9)隔开,斜面板(9)较低的一端与混流罐(1)侧壁有间歇,该间歇成为液体流入中和罐(8)的通道;所述中和罐(8)内壁设置有pH值检测头(6),所述混流罐(1)顶部设置有pH值显示器(7), ...
【技术特征摘要】
1.一种低能耗刻蚀液中和反应罐,包括混流罐(1)、中和罐(8)、进液腔(3)和出液口(5)其特征在于:所述混流罐(1)为方形,混流罐(1)内设置有多层隔板(2),所述隔板(2)一端与混流罐(1)内壁封闭连接,另一端与混流罐(1)内壁有间隙,相邻隔板(2)与混流罐(1)内壁形成的间歇交错排列;所述混流罐(1)其中一侧可开关,与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽(10),所述隔板(2)与混流罐(1)连接的连接端头(21)截面呈梯形,连接端头(21)与梯形槽(10)相匹配,隔板(2)通过连接端头(21)插入梯形槽(10);所述隔板(2)上设有纵横交错的凹槽(22);所述进液腔(3)设置于混流罐(1)顶部,进液腔(3)上集成有酸液口(31)和碱液口(32);所述进液腔(3)底部为网状挡板(4...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯卫文,王涛,宋斌,罗堂富,王芳,
申请(专利权)人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:四川,51
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