一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布。本实用新型专利技术的优点在于：布水均匀，提高了磁介质沉淀池底部沉淀絮体的分布均匀度，降低了刮泥机局部运行负荷过高的风险。

【技术实现步骤摘要】
一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统
本技术涉及水处理
，特别涉及一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统。
技术介绍
根据国务院《水污染防治行动计划》（国发〔2015〕17号）要求，到2020年底，敏感区域（指供水通道沿岸、重要水库汇水区、近岸海域直接汇水区等）、建成区水体水质达不到地表水IV类标准的城市（县城）生活污水处理设施必须完成提标改造工作，出水要达到国家一级A标准。磁介质混凝沉淀技术由于自身占地面积小、高效处除磷和除SS等优异特性，在提标改造污水深度处理工程中应用广泛，自2013年至今，已累计应用规模超过200万m3/d。为响应国家环保政策，缓解水环境污染压力，我公司已开发了包括磁介质混凝沉淀工艺及相关配套设备等多项专利技术（CN103739124B、CN103771645B、CN104609522B）。目前，磁介质混凝沉淀池的设计主要依据常规高效沉淀池，由于磁介质絮体密度较大，传统配水区无法做到均匀配水，沉淀池靠近配水口底部的扇形区内沉积了大部分絮体，极大加剧了刮泥机负荷，长时间运行可能会造成刮泥机刮泥不净或发生故障，影响该污水处理单元的正常运行。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，能够进行均匀配水，提高系统稳定性。为解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，其创新点在于：包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布，所述配水管道呈多边形状，各个配水管道内具有容液体流通的流道。进一步的，所述匀质配水器与配水渠流道的横截面之间的夹角在45-90°之间。进一步的，所述匀质配水器的宽度与配水渠的宽度之间的比例为0.5-0.9:1。本技术的优点在于：在本技术中，通过在配水渠内增设一匀质配水器，使得布水均匀，提高了磁介质沉淀池底部沉淀絮体的分布均匀度，降低了刮泥机局部运行负荷过高的风险；本系统安装简单，成本低，无论是新建或改建工程均易于应用。对于匀质配水器与配水渠流道的横截面之间的夹角在45-90°之间，则是为了使得水流能够顺利从沉淀池流向匀质配水器处，为后续的均匀布水提供了基础；而对于匀质配水器的宽度与配水渠的宽度之间的比例的设计，则是为了在确保布水顺利的基础上，流入刮泥机内的水更加的均匀。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。图1为本技术的磁介质混凝沉淀用匀质配水系统的正视图。图2为本技术的磁介质混凝沉淀用匀质配水系统的俯视图。图3为本技术中匀质配水器的示意图。具体实施方式下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本技术，但并不因此将本技术限制在所述的实施例范围之中。如图1-图3所示的一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，包括一反应组件，反应组件包括一反应池1，在反应池1内安装有搅拌浆，在反应池1的侧端具有一配水口2。一沉淀组件，该沉淀组件包括一设置在反应池1侧端的沉淀池5，在沉淀池5内安装有一刮泥机6。一配水组件，配水组件包括一设置在刮泥机6进水口处的配水渠3，在配水渠3内安装有匀质配水器4，该匀质配水器4位于配水口2的出水口处。如图3所示的示意图可知，匀质配水器4由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道401共同构成，且两列配水管道组中的配水管道401错开分布，配水管道401呈多边形状，各个配水管道401内具有容液体流通的流道。匀质配水器4与配水渠3流道的横截面之间的夹角在45-90°之间。对于匀质配水器4与配水渠3流道的横截面之间的夹角控制在45-90°之间，则是为了使得水流能够顺利从沉淀池1流向匀质配水器4处，为后续的均匀布水提供了基础。匀质配水器4的宽度与配水渠3的宽度之间的比例为0.5-0.9:1。对于匀质配水器4的宽度与配水渠3的宽度之间的比例的设计，则是为了在确保布水顺利的基础上，流入刮泥机内的水更加的均匀。工作原理：污水在反应池1完成混凝反应后，经配水孔2自上而下流入配水渠3内，配水渠3内安装有匀质配水器4，污水在匀质配水器管程402进行二次分配，匀质配水器4将流体分配方式由相对较大尺寸单一渠道配水转变为较小尺寸多个管道配水，配水孔2近端区域内流量大，相应区域内匀质配水器管程402流速相对较快，压力损失较大，相反，配水孔2远端区域内流量小，相应区域内匀质配水器管程402流速相对较慢，压力损失较小，在Hagen-Poiseuille定律（哈根-泊肃叶定律）作用下，近端流体更倾向于流向远端，使流量分布在布水渠横截面上更为均匀。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，其特征在于：包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布，所述配水管道呈多边形状，各个配水管道内具有容液体流通的流道。

【技术特征摘要】
1.一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，其特征在于：包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨志宏，贾伯林，陆亚军，朱家伟，刘跃辉，王伟，施东海，顾宇盟，邢岩，
申请(专利权)人：太平洋水处理工程有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32