显示基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该显示基板包括：衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的有源层、绝缘层和导电层；该有源层包括半导体图案和导电图案；该绝缘层中设置有多个第一过孔；该导电层包括信号线，该信号线通过多个第一过孔与导电图案连接。本发明专利技术通过在有源层设置导电图案，该导电图案通过多个第一过孔与信号线连接，因而即便信号线中位于两个第一过孔之间的部分出现断裂，电源信号也可以通过导电图案传输至像素单元，从而实现电源信号的有效传输，确保了显示装置的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
显示装置中的显示基板一般包括多条信号线，以及阵列排布的多个像素单元，该多条信号线可以为每个像素单元传输电源信号。相关技术中，为了提高显示装置的分辨率，需要减小显示基板中信号线的线宽，以增加显示基板中设置的像素单元的数量。但是，由于高分辨率显示装置中信号线的线宽较小，因此信号线容易断裂，使得电源信号无法传输至像素单元，导致显示装置的显示效果较差。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，可以解决相关技术中信号线断裂使得电源信号无法传输至像素单元，导致显示装置的显示效果较差的问题。所述技术方案如下：第一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，以及层叠设置在所述衬底基板上的有源层、绝缘层和导电层；所述有源层包括半导体图案和导电图案；所述绝缘层中设置有多个第一过孔；所述导电层包括信号线，所述信号线通过所述多个第一过孔与所述导电图案连接。可选的，所述导电层还包括：源漏极图案，所述绝缘层为层间介电层；所述绝缘层中还设置有第二过孔，所述源漏极图案通过所述第二过孔与所述半导体图案连接。可选的，所述显示基板还包括：依次设置在所述有源层远离所述衬底基板的一侧的栅绝缘层和栅极图案；所述层间介电层设置在所述栅极图案远离所述衬底基板的一侧；所述导电层设置在所述层间介电层远离所述衬底基板的一侧。可选的，所述显示基板还包括：设置在所述有源层靠近所述衬底基板的一侧的遮光层；所述层间介电层中还设置有第三过孔，所述源漏极图案通过所述第三过孔与所述遮光层连接。可选的，所述导电层还包括：栅极图案，所述绝缘层为栅绝缘层。可选的，所述显示基板还包括：层间介电层以及源漏极图案；所述栅绝缘层设置在所述有源层远离所述衬底基板的一侧；所述栅极图案设置在所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧；所述层间介电层设置在所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧；所述源漏极图案设置在所述层间介电层远离所述衬底基板的一侧。可选的，所述导电图案为条状图案，且所述导电图案的长度方向平行于所述信号线的延伸方向。可选的，所述半导体图案在所述衬底基板上的正投影，与所述导电图案在所述衬底基板上的正投影不重叠。可选的，所述显示基板还包括：依次层叠设置在所述导电层远离所述衬底基板的一侧的钝化层、彩膜层、平坦层以及电极层。第二方面，提供了一种显示基板的制造方法，所述方法包括：在衬底基板上形成有源层、绝缘层以及导电层；所述有源层包括半导体图案和导电图案；所述绝缘层中形成有多个第一过孔；所述导电层包括信号线，所述信号线通过所述多个第一过孔与所述导电图案连接。可选的，所述在衬底基板上形成有源层，包括：在所述衬底基板上沉积半导体薄膜；在所述半导体薄膜远离所述衬底基板的一侧涂覆光刻胶；对所述光刻胶进行图形化处理，得到第一光刻胶图案和第二光刻胶图案，所述第一光刻胶图案的厚度小于所述第二光刻胶图案的厚度；以所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案为掩膜对所述半导体薄膜进行刻蚀；去除所述第一光刻胶图案，并减薄所述第二光刻胶图案的厚度；对刻蚀后的所述半导体薄膜中，未被所述第二光刻胶图案覆盖的部分进行导体化处理，得到导电图案；去除所述第二光刻胶图案，得到半导体图案。可选的，所述去除所述第一光刻胶图案，并减薄所述第二光刻胶图案的厚度，包括：对所述第一光刻胶图案和所述第二光刻胶图案进行灰化处理，以去除所述第一光刻胶图案，并减薄所述第二光刻胶图案的厚度。可选的，所述对刻蚀后的所述半导体薄膜中，未被所述第二光刻胶图案覆盖的区域进行导体化处理，得到导电图案，包括：对刻蚀后的所述半导体薄膜中，未被所述第二光刻胶图案覆盖的区域进行离子掺杂，得到所述导电图案。可选的，所述对所述光刻胶进行图形化处理，包括：采用半色调掩膜版对所述光刻胶进行曝光，并对曝光后的所述光刻胶进行显影。第三方面，提供了一种显示装置，包括如第一方面所述的显示基板。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：本专利技术实施例提供了一种显示基板及其制造方法、显示装置，该显示基板包括衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的有源层、绝缘层和导电层。该有源层可以包括半导体图案和导电图案，该绝缘层中可以设置有多个第一过孔，该导电层可以包括信号线，该信号线可以通过多个第一过孔与导电图案连接。由于在有源层设置有导电图案，该导电图案可以通过多个第一过孔与信号线连接，因而即便信号线中位于两个第一过孔之间的部分出现断裂，电源信号也可以通过导电图案传输至像素单元，从而实现电源信号的有效传输，确保了显示装置的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图；图2是本专利技术实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；图3是本专利技术实施例提供的又一种显示基板的结构示意图图4是本专利技术实施例提供的形成有有源层的衬底基板的示意图；图5是本专利技术实施例提供的形成有绝缘层的衬底基板的示意图；图6是本专利技术实施例提供的一种显示基板的制造方法的流程图；图7是本专利技术实施例提供的形成有半导体薄膜的衬底基板的示意图；图8是本专利技术实施例提供的涂覆有光刻胶的衬底基板的示意图；图9是本专利技术实施例提供的形成有光刻胶图案的衬底基板的示意图；图10是本专利技术实施例提供的灰化处理后的衬底基板的示意图；图11是本专利技术实施例提供的形成有导电图案的衬底基板的示意图；图12是本专利技术实施例提供的形成有半导体图案的衬底基板的示意图；图13是本专利技术实施例提供的另一种形成有绝缘层的衬底基板的示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。相关技术中，高分辨率显示装置中的信号线的线宽较小，信号线容易断裂。并且，若信号线靠近衬底基板一侧的膜层的厚度不均匀，则该信号线需要形成在具有坡度膜层表面，该信号线位于坡度处的部分容易出现断裂，导致电源信号无法传输至像素单元。图1是本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图。如图1所示，该显示基板可以包括：衬底基板110，以及层叠设置在衬底基板110上的有源层120、绝缘层130和导电层140。该有源层120可以包括半导体图案121和导电图案122，该半导体图案121可以作为薄膜晶体管的沟道。该绝缘层130中设置有多个第一过孔131，例如图1所示的显示基板中示出了3个第一过孔131。该导电层140可以包括信号线141，该信号线141可以通过多个第一过孔131与导电图案122连接。由于该信号线141通过多个第一过孔131与导电结构122连接，相当于该信号线并联了一个导电结构，因此可以减小该信号线的电阻，改善显示装置的显示效果。在本专利技术实施例中，该显示基板中的薄膜晶体管可以为顶栅结构，也可以为底栅结构。若该显示基板中的薄膜晶体管为顶栅结构，则参见图1，该有源层120可以位于绝缘层130靠近衬底基板110的一侧，导电层140可以位于绝缘层130远离衬底基板1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，以及层叠设置在所述衬底基板上的有源层、绝缘层和导电层；所述有源层包括半导体图案和导电图案；所述绝缘层中设置有多个第一过孔；所述导电层包括信号线，所述信号线通过所述多个第一过孔与所述导电图案连接。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，以及层叠设置在所述衬底基板上的有源层、绝缘层和导电层；所述有源层包括半导体图案和导电图案；所述绝缘层中设置有多个第一过孔；所述导电层包括信号线，所述信号线通过所述多个第一过孔与所述导电图案连接。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电层还包括：源漏极图案，所述绝缘层为层间介电层；所述绝缘层中还设置有第二过孔，所述源漏极图案通过所述第二过孔与所述半导体图案连接。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：依次设置在所述有源层远离所述衬底基板的一侧的栅绝缘层和栅极图案；所述层间介电层设置在所述栅极图案远离所述衬底基板的一侧；所述导电层设置在所述层间介电层远离所述衬底基板的一侧。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述有源层靠近所述衬底基板的一侧的遮光层；所述层间介电层中还设置有第三过孔，所述源漏极图案通过所述第三过孔与所述遮光层连接。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述导电层还包括：栅极图案，所述绝缘层为栅绝缘层。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：层间介电层以及源漏极图案；所述栅绝缘层设置在所述有源层远离所述衬底基板的一侧；所述栅极图案设置在所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧；所述层间介电层设置在所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧；所述源漏极图案设置在所述层间介电层远离所述衬底基板的一侧。7.根据权利要求1至6任一所述的显示基板，所述导电图案为条状图案，且所述导电图案的长度方向平行于所述信号线的延伸方向。8.根据权利要求1至6任一所述的显示基板，所述半导体图案在所述衬底基板上的正投影，与所述导电图案在所述衬底基板上的正投影不重叠。9.根据权利要求1至6任一所述的显示基板，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁录科，方金钢，周斌，刘宁，李广耀，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11