蒸镀掩模制造技术

本发明专利技术提供一种蒸镀掩模，将框体的基于截面形状的强度的设定最佳化，利用框体适当抑制掩模主体的变形，防止掩模主体从正确的位置的偏移，且提高蒸镀的精度。将框体(3)的内框部的最小宽度部的截面形状形成为其宽度与厚度的关系成为适当的关系，可靠地赋予最小宽度部的弯曲刚性，因此，赋予相对于来自掩模主体(2)侧的力的所需充分的强度，与相比该最小宽度部宽度宽且强度高的框体(3)的其它部分一起，作为框体(3)整体抑制掩模主体(2)各部的从本应存在的位置的偏移，能够确保蒸镀工序中的掩模与被蒸镀基板的整合状态，能够在被蒸镀基板的适当的位置高精度地进行蒸镀。

Evaporation mask

The invention provides an evaporation mask, which optimizes the intensity setting of the frame based on cross-section shape, uses the frame to restrain the deformation of the mask body appropriately, prevents the mask body from shifting from the correct position, and improves the precision of evaporation. The cross-section shape of the minimum width part of the inner frame of the frame (3) is formed as a proper relationship between its width and thickness, and the bending rigidity of the minimum width part is reliably given. Therefore, the required sufficient strength relative to the force coming from the main body (2) side of the mask is given, together with the other parts of the frame (3) which are wider and stronger than the minimum width part, as the whole frame (3). The body restrains the deviation of each part of the mask body (2) from its original position, ensures the integration of the mask and the evaporated substrate in the evaporation process, and enables high precision evaporation at the appropriate position of the evaporated substrate.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模
本专利技术涉及例如通过蒸镀掩模法形成有机EL元件的发光层时使用的蒸镀掩模。
技术介绍
作为形成有机EL(Electroluminescence)元件的发光层的方法，大多使用蒸镀掩模法。该蒸镀掩模法中，为了在由玻璃等透明材质构成的基板上的期望的位置蒸镀形成有机发光物质，使用对与基板的蒸镀部位对应的部分进行穿孔去除而成的蒸镀掩模。在进行蒸镀的蒸镀装置中，相对于蒸镀对象的基板将将蒸镀掩模以准确对位的状态设置，并执行蒸镀。但是，在进行蒸镀时，为了使蒸镀装置内成为能够蒸镀的环境，一般进行加热，因此，在蒸镀掩模和玻璃基板的热变形状态不同的情况下，存在以下问题：蒸镀掩模与基板的相对位置关系变化，不能满足形成的发光层要求的精度。近年来，提出了一种蒸镀掩模，通过采用在较薄的掩模主体的外周缘装配有由具有与玻璃等被蒸镀基板同等的热膨胀系数的原料或低热膨胀系数的原料构成的加强用的框体的掩模构造，从而，即使使用热膨胀系数与被蒸镀基板不同的原料制的掩模主体，掩模主体也成为追随具有与被蒸镀基板同等的热膨胀系数的框体的膨胀而进行形状变化，或被具有低热膨胀系数的框体抑制而不进行形状变化的状态，能够保证蒸镀装置内升温时的掩模主体相对于被蒸镀基板的整合精度，能够在被蒸镀基板上高精度地形成发光层。作为这种现有的蒸镀掩模的一例，具有日本特开2005-15908号公报公开的蒸镀掩模。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-15908号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题现有的蒸镀掩模成为上述专利文献1所示的结构，能够抑制因热膨胀系数的差异而引起的掩模与基板的相对变形，且防止蒸镀形成物的位置精度的显著的恶化。但是，市场上存在蒸镀形成物的进一步高精度化的要求，并要求进一步抑制因掩模的位移而引起的偏移的产生。关于现有的掩模主体与框体的组合结构，为了确保能够对抗欲位移的掩模主体的框体强度，容易考虑加厚框体，但若掩模主体附近的框体过厚，则产生在蒸镀时有机发光物质等蒸镀材料向掩模主体的通孔行进被框体局部妨碍等不良影响，因此，不能单纯地增加厚度。另外，当框体加厚某程度时，框体的重量也增加，产生因框体本身的重量而引起的挠曲等变形的问题，该情况下，反而导致对掩模主体产生影响而使位置精度恶化。因此，就通过增大框体的厚度来实现强度提高，且提高掩模的精度的方法而言，存在能够应用的厚度的极限值，以超过该极限值的方式实现强度提高可以说是不现实的。另外，在将框体由普遍流通且容易获得的金属板原料形成的情况下，这样的板原料经由轧制等加工而制造，因此，板原料成为因加工而产生的应变大量残留于内部的状态。这样的制造的过程中产生的板原料的内部应变的影响随着该板厚的增大而越来越显著地显现。因此，当增加框体的板厚，即增大用于框体的板原料的厚度时，在从板原料通过切割等进一步的加工而最终得到了框体的阶段，应变成为框体的稍微的翘曲等而显现，不能严格地实现框体本来应具有的形状，对掩模的精度造成不良影响。从这方面考虑，也可以说通过单纯地加厚框体来实现强度提高是困难的。此外，也能够采用通过特殊的加工制造的无应变的板原料、预先实施了内部应力去除处理的板原料作为用于框体的金属板原料，使框体不受应变的影响，但无应变的板原料、应力去除处理的成本高，因此，不能经济地得到框体。如上所述，现有的掩模结构具有如下课题：在框体强度的方面，难以使掩模主体的位移处于随着高精度化而变得严格的允许范围，无法避免因蒸镀形成物的错位而引起的成品率的恶化。本专利技术是为了消除上述课题而作成的，其目的在于，提供一种蒸镀掩模，将框体的基于截面形状的强度的设定最佳化，利用框体适当抑制掩模主体的变形，防止掩模主体从正确的位置的偏移，提高蒸镀的精度。用于解决课题的方案本专利技术的公开的蒸镀掩模具备：多个掩模主体，其将独立的多个蒸镀通孔以预定图案设置；以及框体，其配置于掩模主体的周围，上述蒸镀掩模中，上述框体具有位于最外周的矩形或方形状的外框部和将该外框部的内侧划分成多个开口区域的内框部，且作为整体形成为格子状，上述掩模主体分别位于框体的多个开口区域，且与框体一体化而成，框体的上述内框部中的成为最窄宽度的部分的截面形状为将厚度尺寸相对于宽度尺寸的比例设为0.8/5以上且2/5以下的矩形截面。因此，根据本专利技术的公开，通过将框体的内框部的最小宽度部的截面形状形成为其宽度与厚度的关系成为适当的关系，准确地赋予最小宽度部的弯曲刚性(弯曲变形的难度)，从而赋予相对于来自掩模主体侧的力的所需充分的强度，与相比该最小宽度部宽度宽且强度高的框体的其它部分一起，作为框体整体抑制掩模主体各部的从本应存在的位置的偏移，能够确保蒸镀工序中的掩模与被蒸镀基板的整合状态，能够在被蒸镀基板的适当的位置高精度地进行蒸镀。另外，通过最小宽度部的弯曲变形的难度，也可抑制最小宽度部的因自重而引起的挠曲，抑制框体的变形和因其而引起的对掩模主体的影响。另外，就本专利技术的公开的蒸镀掩模而言，根据需要，上述框体的外框部及内框部中的成为最窄宽度的部分以外的部位的各截面形状为将厚度尺寸相对于宽度尺寸的比例设为0.8/90以上，且比上述内框部的成为最窄宽度的部分的厚度尺寸相对于宽度尺寸的比例小的矩形截面。因此，根据本专利技术的公开，框体的最小宽度部以外的各部也做成适当的截面形状，在框体各部，相对于宽度尺寸设定某程度以上的厚度尺寸，赋予难以挠曲的所需最小限度的弯曲刚性，由此，能够充分确保相对于来自掩模主体侧的力的框体的强度，抑制框体的变形和因其而引起的对掩模主体的影响，提高掩模主体的通孔位置的精度，能够进行相对于蒸镀对象的高精度的蒸镀。另外，就本专利技术的公开的蒸镀掩模而言，根据需要，上述框体以将各部的厚度尺寸设为0.8mm以上且2mm以下的方式形成。因此，根据本专利技术的公开，通过在可得到框体各部的难以挠曲的截面形状的现实的宽度尺寸的范围内，以不会使截面形状中的厚度尺寸变得过大的方式设定，从而能够在框体各部抑制作为因自重而引起的挠曲、内部应变的变形的体现，形成精度高的框体，也能够以较高的精度进行蒸镀。另外，不会将厚度增大至所需以上，从而能够抑制框体的重量增加，防止蒸镀掩模的可操作性恶化。另外，就本专利技术的公开的蒸镀掩模而言，根据需要，上述框体为将第一框部件和第二框部件重叠地一体化而成的层叠构造，上述第一框部件和第二框部件为由金属薄板原料形成的具有翘曲的框部件，且将分别的翘曲方向朝向相反反向。因此，根据本专利技术的公开，将框体做成将以金属薄板材料为原料的第一框部件和第二框部件重叠地一体化接合而成的层叠构造，将具有翘曲的第一框部件和第二框部件以分别的翘曲方向成为相反朝向的方式层叠配置，构成框体，从而，在框体中，翘曲抵消，得到平坦的状态，以更低的成本得到提高了平坦度的框体，能够提高掩模的形状精度，并且高效地执行蒸镀。另外，通过将框体做成组合了第一框部件和第二框部件的结构，从而，即使在框体的厚度达到了在使用单纯的一张薄板材料时很有可能产生翘曲的厚度的情况下，也形成为不会出现翘曲等不需要的变形的状态，不会对掩模主体的位置精度造成不良影响，可得到提高了强度的掩模结构，能够使用该掩模以较高的精度执行蒸镀。另外，就本专利技术的公开的蒸镀掩模而言，根据需要，使内框部的材质和外框部的材质不同地形成上述框体。因此，根据本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩模，具备：多个掩模主体，其将独立的多个蒸镀通孔以预定图案设置；以及框体，其配置于掩模主体的周围，上述蒸镀掩模的特征在于，上述框体具有位于最外周的矩形或方形状的外框部和将该外框部的内侧划分成多个开口区域的内框部，且作为整体形成为格子状，上述掩模主体分别位于框体的多个开口区域，且与框体一体化而成，框体的上述内框部中的成为最窄宽度的部分的截面形状为将厚度尺寸相对于宽度尺寸的比例设为0.8/5以上且2/5以下的矩形截面。

【技术特征摘要】
2017.07.31 JP 2017-148250;2017.09.29 JP 2017-191491.一种蒸镀掩模，具备：多个掩模主体，其将独立的多个蒸镀通孔以预定图案设置；以及框体，其配置于掩模主体的周围，上述蒸镀掩模的特征在于，上述框体具有位于最外周的矩形或方形状的外框部和将该外框部的内侧划分成多个开口区域的内框部，且作为整体形成为格子状，上述掩模主体分别位于框体的多个开口区域，且与框体一体化而成，框体的上述内框部中的成为最窄宽度的部分的截面形状为将厚度尺寸相对于宽度尺寸的比例设为0.8/5以上且2/5以下的矩形截面。2.根据上述权利要求1所述的蒸镀掩模，...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川树一郎，田丸裕仁，小林良弘，
申请(专利权)人：麦克赛尔控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP